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내부에 피처리 부재가 위치하고, 제1 측에 배기관이 형성되며, 상기 제1 측과 반대되는 제2 측에 열 확산 공정에 필요한 반응 기체를 공급하는 급기관이 형성되는 확산 챔버;상기 확산 챔버 내부로 삽입되어, 상기 반응 기체를 공급하는 복수 개의 홀을 구비하는 주입관; 및상기 피처리 부재와 상기 배기관의 사이에 위치되어, 상기 피처리 부재와 상기 반응 기체의 반응 시간을 늘리는 배플(baffle)을 포함하고,상기 급기관은, 상기 확산 챔버 상에서 상기 피처리 부재의 길이 방향에 수직한 방향으로 이격되도록 배치되어, 상기 피처리 부재의 길이 방향에 수직한 방향으로 상기 반응 기체를 공급하고,상기 주입관은, 상기 확산 챔버 내에서 상기 피처리 부재의 길이 방향에 수평한 방향으로 이격되도록 배치되어, 상기 피처리 부재의 길이 방향에 수평한 방향으로 상기 반응 기체를 공급하고,상기 열 확산 공정 후의 반응 기체는 상기 배플을 거쳐 상기 배기관을 통해 상기 확산 챔버 외부로 배출되는열 확산 장치
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제1항에 있어서,상기 복수 개의 홀은 균일한 간격을 두고 위치하는 열 확산 장치
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제2항에 있어서,상기 복수 개의 홀 사이의 간격이 50~500mm 인 열 확산 장치
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제2항에 있어서, 상기 홀이 0
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제2항에 있어서, 상기 제2 측에 인접하는 상기 홀의 직경보다 상기 제1 측에 인접하는 상기 홀의 직경이 큰 열 확산 장치
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제5항에 있어서, 상기 제2 측으로부터 상기 제1 측으로 향하면서 상기 홀의 직경이 점진적으로 커지는 열 확산 장치
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제1항에 있어서, 상기 제2 측에 인접하는 상기 복수 개의 홀 사이의 간격보다 상기 제1 측에 인접하는 상기 복수 개의 홀 사이의 간격이 작은 열 확산 장치
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제7항에 있어서, 상기 제2 측으로부터 상기 제1 측으로 향하면서 상기 복수 개의 홀 사이의 간격이 점진적으로 작아지는 열 확산 장치
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삭제
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제1항에 있어서,상기 피처리 부재는, 상기 제1 측에 인접하는 제1 피처리 부재와, 상기 제2 측에 인접하는 제2 피처리 부재를 포함하고, 상기 주입관은 상기 제1 피처리 부재에 대응하는 부분에만 홀이 형성되고 상기 제2 피처리 부재에 대응하는 부분에는 홀이 형성되지 않는 열 확산 장치
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제10항에 있어서,상기 주입관이 석영(quart)를 포함하는 열 확산 장치
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제1항에 있어서, 상기 주입관은 상기 확산 챔버의 상기 제2 측으로부터 상기 확산 챔버에 삽입되는 열 확산 장치
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제1항에 있어서,상기 열 확산 장치가 태양 전지의 에미터층을 형성하는 데 사용되는 열 확산 장치
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제13항에 있어서,상기 피처리 부재의 개수가 200~1000개이고, 상기 열 확산 장치에 의해 형성된 상기 에미터층의 농도 차이가 5% 이내인 열 확산 장치
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