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고분자 매트릭스;상기 고분자 매트릭스에 화학적으로 결합되는 고굴절 물질; 및상기 고분자 매트릭스에 화학적으로 결합되며 상기 고굴절 물질보다 낮은 굴절률을 갖는 저굴절 물질을 포함하며,상기 고분자 매트릭스에 상기 고굴절 물질 및 상기 저굴절 물질이 함께 화학적으로 결합되고, 상기 저굴절 물질은 상기 고굴절 물질과 비교하여 낮은 온도에서 상기 고분자 매트릭스로부터 이탈되는 고분자 물질
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고분자 매트릭스;상기 고분자 매트릭스에 화학적으로 결합되는 고굴절 물질; 및상기 고분자 매트릭스에 화학적으로 결합되며 상기 고굴절 물질보다 낮은 굴절률을 갖는 저굴절 물질을 포함하며,상기 고분자 매트릭스에 상기 고굴절 물질 및 상기 저굴절 물질이 함께 화학적으로 결합되고, 상기 저굴절 물질은 상기 고굴절 물질과 비교하여 낮은 온도에서 상기 고분자 매트릭스로부터 이탈되는 광학 필름
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삭제
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제 2 항에 있어서,상기 고굴절 물질은 TiO2, ZrO2, ZnO, SnO2, In2O3, In2O3, In2O3-SnO2 중 적어도 하나를 포함하는 광학 필름
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제 2 항에 있어서,상기 저굴절 물질은 SiO2를 포함하는 광학 필름
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제 2 항에 있어서,상기 고분자 매트릭스는 폴리아믹산을 포함하는 광학 필름
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제 6 항에 있어서,상기 고굴절 물질은 폴리이미드의 전구체인 상기 폴리아믹산 내 디아민부에 화학적으로 결합되고,상기 저굴절 물질은 상기 폴리아믹산 내 이산무수물부의 카르복실산에 화학적으로 결합되는 광학 필름
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다음 식으로 표시되는 구조를 갖는 광학 필름
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제 8 항에 있어서,상기 y는 상기 x와 비교하여 낮은 온도에서 이탈되는 광학 필름
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제 8 항에 있어서,상기 x는 다음 식으로 표시되는 구조의 화합물에 의한 무기·금속 oxide를 갖는 광학 필름
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제 8 항에 있어서,상기 y는 다음 식으로 표시되는 구조의 화합물에 의한 무기·금속 oxide를 갖는 광학 필름
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유기 발광층; 및상기 유기 발광층에서 방사된 빛의 광추출 효율을 증가시키는 필름층을 포함하고,상기 필름층은 고분자 매트릭스에 화학적으로 결합되며 상기 유기 발광층 이상의 굴절률을 갖는 고굴절 물질과, 상기 고분자 매트릭스에 화학적으로 결합되며 상기 고굴절 물질보다 낮은 굴절률을 갖는 저굴절 물질을 포함하는 유기 발광 소자
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제 12 항에 있어서,상기 필름층의 저굴절 물질은 상기 유기 발광층을 포함하는 적층체에 증착된 후 가열되어 상기 고분자 매트릭스로부터 이탈되는 유기 발광 소자
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폴리이미드의 전구체인 폴리아믹산 내 디아민부에 고굴절 물질을 화학적으로 결합시키고, 상기 폴리아믹산 내 이산무수물부 카르복실산에 상기 고굴절 물질보다 낮은 굴절률을 갖는 저굴절 물질을 화학적으로 결합시키는 광학 필름 제조 방법
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디아민에 고굴절 물질을 화학적으로 결합시키는 단계;상기 디아민을 이산무수물과 중합시키는 단계; 및상기 중합체인 폴리아믹산의 이산무수물부 카르복실산에 상기 고굴절 물질보다 낮은 굴절률을 갖는 저굴절 물질을 화학적으로 결합시키는 단계;를 포함하는 광학 필름 제조 방법
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