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공정 챔버; 상기 공정 챔버의 내부에 위치하는 제1 플래튼(platen) 및 제2 플래튼;상기 제1 플래튼 및 상기 제2 플래튼에 각각 고정된 마스크;상기 제1 플래튼 및 상기 제2 플래튼 중 적어도 하나의 플래튼에 배치된 기판의 일면에 이온을 주입하는 이온 주입부; 및상기 제1 플래튼 및 상기 제2 플래튼의 상부에 각각 위치하며, 이온 주입 공정이 완료된 기판 위에 배치된 마스크와 접촉하여 상기 마스크를 냉각하는 냉각판을 포함하고,상기 플래튼은 상기 마스크를 정렬하기 위한 마스크 정렬대와, 상기 플래튼에 배치된 기판을 정렬하기 위한 기판 정렬대를 구비하는 이온 주입장치
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제1항에서,상기 냉각판은 상하 방향으로 이동이 가능한 이온 주입장치
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제1항에서,상기 마스크는 마스크 본체 및 지지대를 포함하고, 상기 지지대는 플래튼에 구비된 지지대 설치 구멍에 삽입되며, 상기 지지대 설치 구멍의 폭은 상기 지지대의 폭보다 크게 형성된 이온 주입장치
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삭제
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제3항에서,상기 플래튼은 상기 마스크와 상기 기판을 정렬하기 위해 틸트(tilt)되는 이온 주입장치
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제5항에서,상기 플래튼이 틸트(tilt)되면, 상기 마스크는 상기 마스크 정렬대와 접촉될 때까지 슬라이드(slide) 되는 이온 주입장치
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제6항에서,상기 플래튼이 틸트되면, 상기 기판은 상기 기판 정렬대와 접촉될 때까지 상기 지지대에 의해 강제적으로 슬라이드 되는 이온 주입장치
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제7항에서,상기 마스크가 상기 마스크 정렬대와 접촉함과 아울러, 상기 기판이 상기 기판 정렬대와 접촉한 상태에서 상기 플래튼을 좌우 방향으로 왕복 이송하면서 이온 주입 공정을 실시하는 이온 주입장치
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제3항에서,상기 마스크를 상하 방향으로 이동시키는 업/다운 구동부를 더 포함하는 이온 주입장치
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제9항에서,상기 지지대는 상기 업/다운 구동부와 접촉하는 부분에 테이퍼부를 구비하는 이온 주입장치
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제1항 내지 제3항, 제5항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제1 플래튼에 배치된 기판을 보관하는 제1 로드락 챔버, 상기 제2 플래튼에 배치된 기판을 보관하는 제2 로드락 챔버, 상기 제1 플래튼과 상기 제1 로드락 챔버 사이에 배치되는 제1 트랜스퍼 챔버, 및 상기 제2 플래튼과 상기 제2 로드락 챔버 사이에 배치되는 제2 트랜스퍼 챔버를 더 포함하는 이온 주입장치
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제11항에서,상기 제1 플래튼에 배치된 기판에 이온을 주입하는 동안 상기 제2 플래튼에 기판을 배치하고, 상기 제2 플래튼에 배치된 기판에 이온을 주입하는 동안 상기 제1 플래튼에 배치된 기판을 배출하고 상기 제1 플래튼 상부의 마스크를 냉각하는 이온 주입장치
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