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기판;상기 기판 상에 형성되며, 비결정질에서 결정질로, 또는 그 반대로 변화가 가능한 상변화 물질로 형성되는 상변화 박막층; 및상기 상변화 박막층 상에 순차적으로 형성되는 애노드 전극층, 유기 발광층 및 캐소드 전극층을 포함하고,상기 상변화 박막층의 상면 및 하면은 평평하고,상기 상변화 박막층은 결정질인 경우의 굴절율이 비결정질인 경우의 굴절율 보다 낮은 유기발광다이오드 소자
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2 |
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제 1항에 있어서,상기 상변화 박막층은 외부로부터 공급되는 열 또는 빛에 의해 가역적으로 상태 변화가 가능한유기발광다이오드 소자
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3 |
3
제 1항에 있어서,상기 상변화 박막층은 온도 및 가열 속도(Heating rate)를 포함하는 열처리 조건에 따라 비결정질 또는 결정질 상태로 형성되는유기발광다이오드 소자
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제 1항에 있어서,상기 상변화 박막층은 GeSbTe계, InSbTe계, Ag-InSbTe계, SeSbTe계 및 Ti2O5계 물질 중 적어도 하나로 형성되는유기발광다이오드 소자
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6 |
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제 1항에 있어서,상기 상변화 박막층은 비결정질 상태에서 결정질 상태로 변화할 경우 전기 저항이 1000배 이상 증가하는유기발광다이오드 소자
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제 1항에 있어서,상기 상변화 박막층은 결정질 상태에서 1
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제 1항에 있어서,상기 상변화 박막층은 100 내지 1000nm의 두께로 형성되는유기발광다이오드 소자
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9
기판;상기 기판 상, 하부에 각각 형성되며, 비결정질에서 결정질로, 또는 그 반대로 변화가 가능한 상변화 물질로 형성되는 제 1 및 제 2 상변화 박막층; 및상기 제 1 상변화 박막층 상에 순차적으로 형성되는 애노드 전극층, 유기 발광층 및 캐소드 전극층을 포함하고,상기 제1 및 제2 상변화 박막층 각각의 상면 및 하면은 평평하고,상기 제1 및 제2 상변화 박막층 각각은 결정질인 경우의 굴절율이 비결정질인 경우의 굴절율 보다 낮은 유기발광다이오드 소자
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10
제 9항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 상변화 박막층은 외부로부터 공급되는 열 또는 빛에 의해 가역적으로 상태 변화가 가능한유기발광다이오드 소자
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11
제 9항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 상변화 박막층은 온도 및 가열 속도(Heating rate)를 포함하는 열처리 조건에 따라 비결정질 또는 결정질 상태로 형성되는유기발광다이오드 소자
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삭제
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제 9항에 있어서,상기 제 1 및 제 2 상변화 박막층은 GeSbTe계, InSbTe계, Ag-InSbTe계, SeSbTe계 및 Ti2O5계 물질 중 적어도 하나로 형성되는유기발광다이오드 소자
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14
기판 상에 비결정질에서 결정질로, 또는 그 반대로 변화가 가능한 상변화 물질로 비결정질 상태의 상변화 박막층을 형성하는 단계;상기 상변화 박막층 상에 애노드 전극층, 유기 발광층 및 캐소드 전극층을 순차적으로 형성하는 단계; 및상기 상변화 박막층에 열 또는 빛을 가하여 비결정질 상태의 상기 상변화 박막층의 일부 또는 전부를 결정질 상태로 변화시키는 단계를 포함하고,상기 상변화 박막층의 상면 및 하면은 평평하고,상기 상변화 박막층은 결정질인 경우의 굴절율이 비결정질인 경우의 굴절율 보다 낮은 유기발광다이오드 소자의 제조 방법
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기판 상에 비결정질에서 결정질로, 또는 그 반대로 변화가 가능한 상변화 물질로 비결정질 상태의 제 1 상변화 박막층을 형성하는 단계;상기 제 1 상변화 박막층 상에 애노드 전극층, 유기 발광층 및 캐소드 전극층을 순차적으로 형성하는 단계;상기 기판 하부에 상기 상변화 물질로 비결정질 상태의 제 2 상변화 박막층을 형성하는 단계; 및상기 제 1 및 제 2 상변화 박막층에 열 또는 빛을 가하여 비결정질 상태의 상기 제 1 및 제 2 상변화 박막층의 일부 또는 전부를 결정질 상태로 변화시키는 단계를 포함하고,상기 제1 및 제2 상변화 박막층 각각의 상면 및 하면은 평평하고,상기 제1 및 제2 상변화 박막층 각각은 결정질인 경우의 굴절율이 비결정질인 경우의 굴절율 보다 낮은 유기발광다이오드 소자의 제조 방법
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