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화학식 (3)의 아연 아지드 착물:[화학식 3]상기 식에서L은 N,N,N,N'-테트라메틸에틸렌디아민 (TMEDA)이며, a가 1이고, b가 2이다
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아연 화합물과 알칼리금속 아지드의 혼합물에 아민 리간드를 가하여 반응시킴을 특징으로 하여 제1항에 따른 화학식 (3)의 아연 아지드 착물을 제조하는 방법
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제5항에 있어서, 아연 화합물이 질산아연 6수화물, 디클로로아연, 디브로모아연 및 디요오도아연 중에서 선택되는 방법
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제5항에 있어서, 알칼리금속 아지드가 리튬 아지드, 나트륨 아지드 및 칼륨 아지드 중에서 선택되는 방법
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제5항의 착물 형성 반응에 의해 제조된 화학식 (3)의 아연 아지드 착물을 분리된 상태로 또는 동일 반응기 내에서 (in situ) 화학식 (2)의 니트릴 화합물과 반응시킴을 특징으로 하여 화학식 (1)의 치환된 테트라졸 유도체를 제조하는 방법: [화학식 1][화학식 2]상기 식에서 R은 유기 잔기를 나타낸다
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제8항에 있어서, R이 1) 각각 임의로 치환된 직쇄 또는 측쇄 C1-C6-알킬 또는 C3-C6-사이클로알킬을 나타내고, 여기에서 치환체는 할로겐; 하이드록시; C1-C6- 알킬; C1-C6-알콕시; 각각 C1-C6-알킬, 할로겐, 하이드록시, 니트로 및 C1-C6-알콕시로 구성된 그룹 중에서 선택된 치환체에 의해 임의로 치환된 페닐, 피리딘, 피리미딘, 이미다졸, 티오펜 및 퓨란; 중에서 선택되거나,2) 하기 구조식의 페닐 또는 비페닐을 나타내며:여기에서 R1 및 R2는 각각 독립적으로 수소; 할로겐; 하이드록시; 니트로; C1-C6-알킬; C3-C6-사이클로알킬; C1-C6-알콕시; 각각 할로겐, 카복시, 옥소, C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시, 하이드록시-C1-C6-알킬, C1-C6-알콕시카보닐, C1-C6-알콕시카보닐-C1-C6-알킬, C3-C6-알칸디일, 디(C1-C6-알킬)아미노티오카보닐-C1-C6-알킬, 실렉세틸옥시카보닐 및 메독소밀옥시카보닐로 구성된 그룹 중에서 선택된 치환체에 의해 임의로 1 내지 4 치환된 페닐메틸, 피리딜메틸, 피리미딜메틸, 이미다졸릴메틸, 벤즈이미다졸릴메틸, 티오페닐메틸, 퓨라닐메틸; 각각 C1-C6-알킬, C3-C6-사이클로알킬, C1-C6-알킬카보닐, 카복시-C1-C6-알킬 및 C1-C6-알콕시카보닐-C1-C6-알킬로 구성된 그룹 중에서 선택된 1 또는 2개의 치환체에 의해 임의로 1 또는 2 치환된 아미노 또는 아미노-C1-C6-알킬로 구성된 그룹으로부터 선택되는 방법
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제8항에 있어서, R이 하기 구조 a 내지 f에서 선택되는 방법:구조 b 에서 R3는 수소 또는 메틸을 나타내고, 구조 c 에서 R4는 수소, 메틸, 에틸 또는 실렉세틸을 나타내며,구조 e 에서 R5는 수소, 메틸, 에틸 또는 메독소밀을 나타낸다
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제8항에 있어서, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 클로로벤젠, o-, m- 또는 p-클로로톨루엔, 디클로로벤젠, 트리플루오로메틸벤젠, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리디논, 디메틸설폭사이드, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 부탄올, t-부탄올, 펜탄올, 사이클로프로판올, 사이클로부탄올, 사이클로펜탄올 및 사이클로헥산올로 구성된 그룹 중에서 선택된 단일 또는 혼합 용매를 사용하는 방법
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제8항에 있어서, 반응을 90~130℃ 온도에서 수행하는 방법
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제12항에 있어서, 반응을 100~120℃ 온도에서 수행하는 방법
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제8항에 있어서, 화학식 (2)의 화합물이 반응성 치환기 또는 아지드와 반응할 수 있는 치환기를 포함하는 경우, 반응성 치환기를 보호하고, 테트라졸 환을 형성한 후, 상응하는 보호기를 제거하는 단계를 추가로 포함하는 방법
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