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P2O5, SiO2, TiO2, Na2O, Al2O3, K2O, Li2O, V2O5, ZnO 및 BaO를 포함하는 글래스 프릿을 포함하고,상기 글래스 프릿은,P2O5를 28wt% 내지 32wt%의 비율로,SiO2를 13wt% 내지 16wt%의 비율로,TiO2를 16wt% 내지 20wt%의 비율로,Na2O를 9wt% 내지 12wt%의 비율로,Al2O3를 9wt% 내지 12wt%의 비율로,K2O를 6wt% 내지 8wt%의 비율로,Li2O를 0
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제 1 항에 있어서, 상기 글래스 프릿의 반사율은 70% 내지 99%인 법랑 조성물
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P2O5, SiO2, TiO2, Na2O, Al2O3, K2O, Li2O, V2O5, ZnO 및 BaO를 포함하는 글래스 프릿 재료를 제공하는 단계;상기 글래스 프릿 재료를 멜팅하는 단계; 및상기 멜팅된 글래스 프릿 재료를 퀀칭하여, 글래스 프릿을 형성하는 단계를 포함하고,상기 글래스 프릿은,P2O5를 28wt% 내지 32wt%의 비율로,SiO2를 13wt% 내지 16wt%의 비율로,TiO2를 16wt% 내지 20wt%의 비율로,Na2O를 9wt% 내지 12wt%의 비율로,Al2O3를 9wt% 내지 12wt%의 비율로,K2O를 6wt% 내지 8wt%의 비율로,Li2O를 0
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제 8 항에 있어서, 상기 글래스 프릿의 반사율은 80% 내지 99%인 법랑 조성물의 제조방법
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조리실이 형성되는 캐비티;상기 조리실을 선택적으로 개폐하는 도어;상기 조리실에서의 조리물의 가열을 위한 열을 제공하는 적어도 1개의 가열원; 및상기 캐비티의 내면에 코팅되는 제 1 항 및 제 7 항 중 어느 한 항의 법랑 조성물에 의하여 형성되는 코팅층; 을 포함하는 조리기기
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조리실이 형성되는 캐비티;상기 조리실을 선택적으로 개폐하는 도어;상기 조리실에서의 조리물의 가열을 위한 열을 제공하는 적어도 1개의 가열원; 및상기 캐비티의 내면 및 상기 조리실이 차페된 상태에서, 상기 조리실과 마주보는 상기 도어의 이면에 코팅되는 제 1 항 및 제 7 항 중 어느 한 항의 법랑 조성물에 의하여 형성되는 코팅층; 을 포함하는 조리기기
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제 1항에 있어서,상기 글래스 프릿은 CaO 및 MgO 중 적어도 하나를 더 포함하는 법랑 조성물
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제 1항에 있어서,상기 글래스 프릿은 B2O3, Bi2O3, CeO 및 ZrO2 중 적어도 하나을 더 포함하는 법랑 조성물
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제 1항에 있어서,상기 글래스 프릿은 0
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