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회로 기판

  • 기술번호 : KST2015068109
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  • 전화번호 :
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요약 본 발명은 적어도 하나의 전자소자의 신호를 송수신하도록 형성되는 연성회로기판, 상기 연성회로기판에 부착되어 상기 연성회로기판을 지지하도록 형성되는 섬유층, 상기 섬유층의 상면에 함침되어 상기 섬유층으로 유입되는 오염물질을 차단하도록 형성되는 실리콘층, 상기 상면 실리콘층의 상부에 형성되어 외관을 구성하는 외피층을 포함하는 회로기판을 제공한다.
Int. CL H05K 1/02 (2006.01) H05K 3/28 (2006.01)
CPC H05K 1/0366(2013.01) H05K 1/0366(2013.01) H05K 1/0366(2013.01) H05K 1/0366(2013.01)
출원번호/일자 1020120046005 (2012.05.01)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0122879 (2013.11.11) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 13

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이승진 대한민국 서울 금천구
2 박정범 대한민국 서울 금천구
3 강동국 대한민국 서울 금천구
4 김영중 대한민국 서울 금천구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.05.01 수리 (Accepted) 1-1-2012-0348307-80
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
적어도 하나의 전자소자의 신호를 송수신하도록 형성되는 연성회로기판;상기 연성회로기판에 부착되어 상기 연성회로기판을 지지하도록 형성되는 섬유층;상기 섬유층의 상면에 함침되어 상기 섬유층으로 유입되는 오염물질을 차단하도록 형성되는 실리콘층; 및상기 상면 실리콘층의 상부에 형성되어 외관을 구성하는 외피층을 포함하는 것을 특징으로 하는 회로기판
2 2
제1항에 있어서, 상기 연성회로기판과 상기 실리콘 사이 및 상기 연성회로기판과 상기 외피층 사이에 접착부재가 형성되는 것을 특징으로 하는 회로기판
3 3
제1항에 있어서, 상기 외피층은 폴리우레탄(Polyurethane)으로 형성되는 것을 특징으로 하는 회로기판
4 4
제3항에 있어서, 상기 외피층의 외면이 적어도 하나의 색으로 도색되는 것을 특징으로 하는 회로기판
5 5
제1항에 있어서, 상기 섬유층의 하면에 함침되는 하면 실리콘 부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 회로기판
6 6
제5항에 있어서, 상기 실리콘 부재에 의하여 상기 섬유층에 부착되고, 외관을 구성하는 외피부재를 포함하는 것을 특징으로 하는 회로기판
7 7
제1항에 있어서, 상기 연성회로기판에 전자부품을 연결하기 위하여 상기 외피층은 적어도 하나의 연결홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 회로기판
8 8
제1항에 있어서, 상기 연성회로기판은 상기 섬유층의 일영역에 형성되고,상기 연성회로기판과 동일한 평면을 형성하기 위하여 상기 섬유층의 나머지 영역에 보충부가 형성되는 것을 특징으로 하는 회로기판
9 9
제8항에 있어서, 상기 보충부재는 상기 실리콘층과 동일한 재료로 형성되는 것을 특징으로 하는 회로기판
10 10
상부 금형 및 하부 금형 사이에 외피부재 및 섬유층을 안착하는 단계;상기 섬유층 상에 액체 실리콘을 토출하는 단계; 및 상기 실리콘이 상기 섬유층에 함침되어 상기 외피부재가 상기 섬유층에 부착되도록 상기 상부 및 하부 금형을 압착하는 단계;상기 상부 및 하부금형의 압착을 해지하여, 섬유층, 실리콘 부재 및 외피부재가 일체로 구성되는 지지부재를 형성하는 단계를 포함하는 회로기판 제조방법
11 11
제10항에 있어서, 상기 지지부재에 연성회로기판을 부착하는 단계; 및상기 연성회로기판에 외피층을 부착하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 회로기판 제조방법
12 12
제10항에 있어서, 상기 지지부와 상기 연성회로기판 및 상기 연성회로기판과 상기 외피층은 각각 접착부재에 의하여 부착되는 것을 특징으로 하는 회로기판 제조방법
13 13
제10항에 있어서, 상기 섬유층은 상기 실리콘부재가 침투가능한 케블라(Kevlar)섬유, 유리섬유, 카본(Carbon)섬유 중 적어도 하나로 형성되는 것을 특징으로 하는 회로기판 제조방법
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.