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나노 패턴을 가지는 그래핀의 제조 방법 및 그 그래핀

  • 기술번호 : KST2015068248
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 그래핀의 제조에 관한 것으로 특히, 나노 패턴을 가지는 그래핀의 제조 방법 및 그 그래핀에 관한 것이다. 이와 같은 본 발명은, 기판 상에 산화 그래핀 층을 형성하는 단계; 상기 산화 그래핀 층 상에 나노 비드의 층을 형성하는 단계; 상기 나노 비드 사이의 간격을 이격시키는 단계; 상기 나노 비드를 마스크로 이용하여 상기 산화 그래핀 층 상에 금속층을 형성하는 단계; 상기 나노 비드를 제거하는 단계; 상기 금속층을 마스크로 이용하여 상기 산화 그래핀 층을 식각하여 나노 패턴을 형성하는 단계; 및 상기 금속층을 제거하는 단계를 포함하여 구성될 수 있다.
Int. CL C01B 31/02 (2006.01) H01B 1/06 (2006.01) B82B 3/00 (2006.01)
CPC C01B 32/184(2013.01) C01B 32/184(2013.01) C01B 32/184(2013.01) C01B 32/184(2013.01) C01B 32/184(2013.01) C01B 32/184(2013.01)
출원번호/일자 1020120059646 (2012.06.04)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2013-0136086 (2013.12.12) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2014.02.06)
심사청구항수 9

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 변나미 대한민국 서울 서초구
2 이동욱 대한민국 서울 서초구
3 이성국 대한민국 서울 서초구
4 서병화 대한민국 서울 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김용인 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 ** (잠실현대빌딩 *층)(특허법인(유한)케이비케이)
2 방해철 대한민국 서울특별시 송파구 올림픽로 ** (잠실현대빌딩 *층)(특허법인(유한)케이비케이)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
최종권리자 정보가 없습니다
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2012.06.04 수리 (Accepted) 1-1-2012-0443867-87
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)		 2014.02.06 수리 (Accepted) 1-1-2014-0118038-99
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2014.08.14 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2014.09.15 수리 (Accepted) 9-1-2014-0072576-26
5 [대리인선임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Appointment of Agent] Report on Agent (Representative)		 2014.12.01 수리 (Accepted) 1-1-2014-1163510-17
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2015.03.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0163443-03
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2015.04.30 수리 (Accepted) 1-1-2015-0424942-27
8 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2015.04.30 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2015-0424941-82
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
10 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal		 2015.09.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0645929-52
11 거절결정서
Decision to Refuse a Patent		 2016.03.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2016-0226976-61
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
기판 상에 산화 그래핀 층을 형성하는 단계;상기 산화 그래핀 층 상에 나노 비드의 층을 형성하는 단계;상기 나노 비드 사이의 간격을 이격시키는 단계;상기 나노 비드를 마스크로 이용하여 상기 산화 그래핀 층 상에 금속층을 형성하는 단계;상기 나노 비드를 제거하는 단계;상기 금속층을 마스크로 이용하여 상기 산화 그래핀 층을 식각하여 나노 패턴을 형성하는 단계; 및상기 금속층을 제거하는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 나노 패턴을 가지는 그래핀의 제조 방법
2 2
제 1항에 있어서, 상기 나노 비드 사이의 간격을 이격시키는 단계는, 상기 나노 비드를 식각하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 패턴을 가지는 그래핀의 제조 방법
3 3
제 1항에 있어서, 상기 나노 비드의 층을 형성하는 단계는, 상기 나노 비드가 서로 접촉하도록 형성하는 것을 특징으로 하는 나노 패턴을 가지는 그래핀의 제조 방법
4 4
제 1항에 있어서, 상기 나노 비드는, 무기물로 형성된 것을 특징으로 하는 나노 패턴을 가지는 그래핀의 제조 방법
5 5
제 1항에 있어서, 상기 산화 그래핀을 환원시키는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 패턴을 가지는 그래핀의 제조 방법
6 6
제 1항에 있어서, 상기 식각된 산화 그래핀을 기판으로부터 분리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 패턴을 가지는 그래핀의 제조 방법
7 7
제 1항에 있어서, 상기 금속층은 금, 은, 또는 구리 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 나노 패턴을 가지는 그래핀의 제조 방법
8 8
제 1항에 있어서, 상기 산화 그래핀 층의 두께는 0
9 9
제 1항에 있어서, 상기 산화 그래핀 층 패턴의 단위 패턴의 크기는 0
10 10
제 1항 내지 9항의 방법으로 제조되는 그래핀
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.