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투명 전도성 필름 및 이를 제조하는 방법

  • 기술번호 : KST2015068345
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기재 상에 형성된 ITO층을 포함하며, 상기 ITO층은 제1 ITO층, 제2 ITO층 및 제3 ITO층으로 구성되고, 제1 ITO층 및 제3 ITO층은 제2 ITO층에 비해 높은 함량의 SnO2를 포함하는 투명 전도성 필름 및 그 제조방법을 제공한다. 상기 투명 전도성 필름은 결정화 온도의 상승 없이도, 낮은 면저항 구현이 가능하며, 전자장치의 소재 등으로 다양하게 활용 가능하다.
Int. CL H01B 13/00 (2006.01) H01B 5/14 (2006.01)
CPC H01B 5/14(2013.01) H01B 5/14(2013.01)
출원번호/일자 1020120058762 (2012.05.31)
출원인 주식회사 엘지화학
등록번호/일자 10-1539488-0000 (2015.07.20)
공개번호/일자 10-2013-0134893 (2013.12.10) 문서열기
공고번호/일자 (20150724) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.05.31)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 장현우 대한민국 대전 서구
2 김동렬 대한민국 대전 유성구
3 구본석 대한민국 대전 서구
4 이혜린 대한민국 서울 성동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 특허법인다나 대한민국 서울특별시 강남구 역삼로 *길 **, 신관 *층~*층, **층(역삼동, 광성빌딩)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.05.31 수리 (Accepted) 1-1-2012-0438669-25
2 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2013.05.31 수리 (Accepted) 1-1-2013-0486843-78
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2014.01.08 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2014.02.11 수리 (Accepted) 9-1-2014-0010005-47
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2014.06.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0414960-72
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2014.08.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0780037-48
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2014.08.18 수리 (Accepted) 1-1-2014-0780036-03
8 최후의견제출통지서
Notification of reason for final refusal
2014.11.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0784142-74
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.01.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5000389-31
10 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2015.01.19 수리 (Accepted) 1-1-2015-0053945-62
11 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2015.01.19 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2015-0053946-18
12 등록결정서
Decision to grant
2015.04.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0286722-32
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.12.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-5161532-51
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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기재 상에 형성된 언더코팅층 및 ITO층을 포함하며,상기 언더코팅층은 10 내지 1000 nm의 두께를 갖는 제1 언더코팅층과, 10 내지 500 nm의 두께를 갖는 제2 언더코팅층으로 구성되고,상기 ITO층은 제1 ITO층, 제2 ITO층 및 제3 ITO층으로 구성되며,제1 ITO층 및 제3 ITO층의 SnO2 함량은 7 내지 9 중량%이고,제2 ITO층의 SnO2 함량은 0 내지 5 중량%이고,ITO층의 두께는 50 내지 100 nm이고,ITO 층의 면저항은 10 내지 200 Ω/sq이며,ITO 층의 결정화 온도는 상온 내지 100℃인 투명 전도성 필름
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제 1 항에 있어서,언더코팅층은 유기물, 무기물 또는 유기-무기 복합물을 포함하는 투명 전도성 필름
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기재 상에 제1 언더코팅층을 10 내지 1000 nm의 두께로 형성하고, 제2 언더코팅층을 10 내지 500 nm의 두께로 형성하는 단계; 상기 제2 언더코팅층 상에 ITO층을 50 내지 100 nm의 두께로 형성하는 단계; 및상온 내지 100℃에서 결정화하는 단계를 포함하는 투명 전도성 필름의 제조방법에 관한 것으로,ITO층을 50 내지 100 nm의 두께로 형성하는 단계는,SnO2의 함량이 7 내지 9 중량%인 제1 ITO층을 형성하는 단계;제1 ITO층 위에 SnO2의 함량이 0 내지 5 중량%인 제2 ITO층을 형성하는 단계; 및제2 ITO층 위에 SnO2의 함량이 7 내지 9 중량%인 제3 ITO층을 형성하는 단계를 포함하며,ITO층의 면저항은 10 내지 200 Ω/sq인 투명 전도성 필름의 제조방법
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10 10
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제 1 항에 따른 투명 전도성 필름을 포함하는 투명 전극
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.