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자외선 발광 질화물계 반도체 발광 소자에 있어서,알루미늄을 포함하는 질화물 반도체로 이루어지는 제 1전도성 반도체층;상기 제 1전도성 반도체층 상에 위치하고, 알루미늄을 포함하는 질화물 반도체로 이루어지는 제 2전도성 반도체층; 및상기 제 1전도성 반도체층과 제 2전도성 반도체층 사이에 위치하고, 질화물계 반도체를 포함하는 활성층을 포함하여 구성되고,상기 활성층은 다수의 양자 장벽층 및 다수의 양자 우물층을 포함하며, 상기 양자 장벽층 또는 양자 우물층은 알루미늄을 포함하고,상기 다수의 양자 우물층은 상기 제 1전도성 반도체층에 근접하고, 양자 우물층들 중에서 두께가 가장 두꺼운 제 1양자 우물층을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 자외선 발광 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 제 1전도성 반도체층은, p-형 반도체층인 것을 특징으로 하는 자외선 발광 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 제 1양자 우물층과 제 2전도성 반도체층 사이에는, 제 1양자 우물층보다 두께가 얇은 제 2양자 우물층을 포함하는 것을 특징으로 하는 자외선 발광 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 다수의 양자 우물층은, 상기 제 1전도성 반도체층에 근접할수록 그 두께가 두꺼워지는 것을 특징으로 하는 자외선 발광 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 양자 장벽층은, 상기 제 2전도성 반도체층에 근접하고 두께가 가장 두꺼운 제 1양자 장벽층을 포함하는 것을 특징으로 하는 자외선 발광 질화물계 반도체 발광 소자
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제 6항에 있어서, 상기 제 1양자 장벽층과 제 1전도성 반도체층 사이에는, 제 1양자 장벽층보다 두께가 얇은 제 2양자 장벽층을 포함하는 것을 특징으로 하는 자외선 발광 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 다수의 양자 장벽층은, 상기 제 2전도성 반도체층에 근접할수록 그 두께가 두꺼워지는 것을 특징으로 하는 자외선 발광 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 양자 장벽층은, 상기 제 1양자 우물층에 접하고 두께가 가장 얇은 제 3양자 장벽층을 포함하는 것을 특징으로 하는 자외선 발광 질화물계 반도체 발광 소자
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제 9항에 있어서, 상기 제 3양자 장벽층의 두께는, 전체 양자 장벽층의 두께의 평균보다 60% 이하의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 자외선 발광 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 활성층의 발광 파장은, 200 nm 내지 320 nm인 것을 특징으로 하는 자외선 발광 질화물계 반도체 발광 소자
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제 1항에 있어서, 상기 제 1양자 우물층의 두께는, 전체 양자 우물층의 두께의 평균보다 130% 이상의 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 자외선 발광 질화물계 반도체 발광 소자
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