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불순물층의 형성 방법 및 태양 전지의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015068708
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요약 본 실시예에 따른 태양 전지의 불순물층의 형성 방법은, 반도체 기판을 준비하는 단계; 및 상기 반도체 기판에 마스크의 슬릿을 이용하여 선택적으로 불순물을 도핑하여 제1 부분을 형성하는 단계를 포함한다. 이때, 상기 제1 부분을 형성하는 단계에서는, 상기 반도체 기판 위에 상기 마스크를 위치시켜 상기 불순물을 도핑하여 상기 제1 부분의 일 그룹을 형성하고, 상기 반도체 기판 위에서 상기 마스크를 이동시킨 후에 상기 불순물을 도핑하여 상기 제1 부분의 다른 그룹을 형성한다.
Int. CL H01L 31/042 (2014.01) H01L 31/18 (2006.01)
CPC H01L 31/1804(2013.01) H01L 31/1804(2013.01)
출원번호/일자 1020120077829 (2012.07.17)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2014-0011458 (2014.01.28) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 공개
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 N
심사청구항수 20

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이대용 대한민국 서울특별시 서초구
2 김진성 대한민국 서울특별시 서초구
3 황성현 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박병창 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로*길 *, 동주빌딩 *층 팍스국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.07.17 수리 (Accepted) 1-1-2012-0570915-26
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
3 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
반도체 기판을 준비하는 단계; 및 상기 반도체 기판에 마스크의 슬릿을 이용하여 선택적으로 불순물을 도핑하여 제1 부분을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 제1 부분을 형성하는 단계에서는, 상기 반도체 기판 위에 상기 마스크를 위치시켜 상기 불순물을 도핑하여 상기 제1 부분의 일 그룹을 형성하고, 상기 반도체 기판 위에서 상기 마스크를 이동시킨 후에 상기 불순물을 도핑하여 상기 제1 부분의 다른 그룹을 형성하는 태양 전지의 불순물층의 형성 방법
2 2
제1항에 있어서,상기 슬릿은 서로 평행하게 형성되는 복수의 제1 슬릿부를 포함하고, 상기 마스크를 이동시킬 때 상기 마스크의 이동 거리를 상기 복수의 제1 슬릿부 사이의 피치보다 작게 하여 상기 제1 부분 사이의 피치가 상기 복수의 제1 슬릿부 사이의 피치보다 작은 태양 전지의 불순물층의 형성 방법
3 3
제2항에 있어서,상기 마스크를 이동시킬 때 상기 마스크의 이동 방향은 상기 복수의 제1 슬릿부의 길이 방향과 교차하는 태양 전지의 불순물층의 형성 방법
4 4
제2항에 있어서,상기 제1 부분 사이의 피치에 대한 상기 복수의 제1 슬릿부 사이의 피치 비율이 0
5 5
제2항에 있어서,상기 P가 2~4인 정수인 태양 전지의 불순물층의 형성 방법
6 6
제4항에 있어서, 상기 제1 부분을 형성하는 단계에서, 상기 마스크의 이동 거리는 상기 제1 부분 사이의 피치에 대응하는 태양 전지의 불순물층의 형성 방법
7 7
제1항에 있어서,상기 제1 부분을 형성하는 단계 이전 또는 이후에, 상기 제1 부분보다 낮은 농도를 가지도록 상기 반도체 기판을 전체적으로 도핑하여 상기 제1 부분보다 낮은 도핑 농도를 가지는 제2 부분을 형성하는 단계를 더 포함하는 태양 전지의 불순물층의 형성 방법
8 8
제1항에 있어서,상기 불순물층이 에미터층 또는 후면 전계층인 태양 전지의 불순물층의 형성 방법
9 9
제1항에 있어서, 상기 제1 부분을 형성하는 단계에 의하여 상기 불순물층이 국부적인 구조를 가지는 태양 전지의 불순물층의 형성 방법
10 10
제1항에 있어서,상기 제1 부분 사이의 피치가 1
11 11
반도체 기판을 준비하는 단계; 상기 반도체 기판에 마스크의 슬릿을 이용하여 선택적으로 불순물을 도핑하여 제1 부분을 형성하는 단계; 및 상기 제1 부분에 적어도 일부가 접촉하도록 제1 전극을 형성하는 단계를 포함하고, 상기 제1 부분을 형성하는 단계에서는, 상기 반도체 기판 위에 상기 마스크를 위치시켜 상기 불순물을 도핑하여 상기 제1 부분의 일 그룹을 형성하고, 상기 반도체 기판 위에서 상기 마스크를 이동시킨 후에 상기 불순물을 도핑하여 상기 제1 부분의 다른 그룹의 형성하는 태양 전지의 제조 방법
12 12
제11항에 있어서,상기 슬릿은 서로 평행하게 형성되는 복수의 제1 슬릿부를 포함하고, 상기 마스크를 이동시킬 때 상기 마스크의 이동 거리를 상기 복수의 제1 슬릿부 사이의 피치보다 작게 하여 상기 제1 부분 사이의 피치가 상기 복수의 제1 슬릿부 사이의 피치보다 작은 태양 전지의 제조 방법
13 13
제12항에 있어서,상기 제1 전극은, 서로 평행하게 형성되는 복수의 핑거 전극과, 상기 복수의 핑거 전극과 교차하는 방향을 따라 형성되어 상기 복수의 핑거 전극을 연결하는 버스바 전극을 포함하고, 상기 제1 슬릿부에 의하여 형성된 상기 제1 부분이 상기 핑거 전극에 대응하는 태양 전지의 제조 방법
14 14
제12항에 있어서,상기 마스크를 이동시킬 때 상기 마스크의 이동 방향은 상기 복수의 제1 슬릿부의 길이 방향과 교차하는 태양 전지의 제조 방법
15 15
제12항에 있어서,상기 제1 부분 사이의 피치에 대한 상기 복수의 제1 슬릿부 사이의 피치 비율이 0
16 16
제15항에 있어서, 상기 제1 부분을 형성하는 단계에서, 상기 마스크의 이동 거리는 상기 제1 부분 사이의 피치에 대응하는 태양 전지의 제조 방법
17 17
제11항에 있어서,상기 제1 부분을 형성하는 단계 이전 또는 이후에, 상기 제1 부분보다 낮은 농도를 가지도록 상기 반도체 기판을 전체적으로 도핑하여 상기 제1 부분보다 낮은 도핑 농도를 가지는 제2 부분을 형성하는 단계를 더 포함하는 태양 전지의 제조 방법
18 18
제11항에 있어서,상기 불순물층이 에미터층 또는 후면 전계층인 태양 전지의 제조 방법
19 19
제11항에 있어서, 상기 제1 부분을 형성하는 단계에 의하여 상기 불순물층이 국부적인 구조를 가지는 태양 전지의 제조 방법
20 20
제11항에 있어서,상기 제1 부분의 사이의 피치가 1
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.