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서로 대향되는 제1 면 및 제2 면을 포함하고, 제1 굴절률을 가지는 기판;상기 기판의 제1 면 상의 제2 굴절률을 가지는 광산란부들;상기 광산란부들 상의 제3 굴절률을 가지는 평탄층;상기 평탄층 상의 제1 전극;상기 제1 전극 상의 유기발광층;상기 유기발광층 상의 제2 전극; 및상기 제2 전극 상의 보호층을 포함하고, 상기 광산란부들은 불규칙한 형태와 배열의 섬 모양을 가지며, 상기 제2 굴절률은 상기 제1 굴절률 및 상기 제 3 굴절률보다 작은 유기발광소자
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제 1 항에 있어서, 상기 기판의 제2 면 상의 반사방지부들을 더 포함하되, 상기 반사방지부들은 상기 제1 굴절률보다 더 작은 굴절률을 가지며, 불규칙한 형태와 배열의 섬 모양을 가지되, 상기 섬 모양은 반구형, 주형, 타원형 또는 캡슐형 중에서 적어도 하나를 포함하는 유기발광소자
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제 2항에 있어서, 상기 반사방지부들은 폴리플루오린(polyfluorine)계열의 물질을 포함하는 유기발광소자
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제 1항에 있어서, 상기 광산란부들은 폴리플루오린(polyfluorine)계열의 물질을 포함하는 유기발광소자
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제 1항에 있어서, 상기 제1 전극은 상기 유기발광층보다 큰 굴절률을 가지며, 상기 제3 굴절률은 상기 제1 전극의 굴절률보다 더 큰 값을 가지는 유기발광소자
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제 1항에 있어서, 상기 광산란부들은 100 내지 1000nm의 평균크기를 가지는 유기발광소자
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기판의 제1 면에 유기물, 광가교제를 혼합한 유기용액을 코팅하여 유기층을 형성하는 것;상기 유기층을 열처리하여 상기 기판 제1 면 상에 섬 모양의 광산란부들을 불규칙하게 형성하는 것;상기 광산란부들을 경화시키는 것을 포함하는 유기발광소자 제조방법
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8
제 7항에 있어서, 상기 광산란부들 상에 평탄층을 형성하는 것을 더 포함하는 유기발광소자 제조방법
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제 8항에 있어서, 상기 평탄층 상에, 제1 전극, 유기발광층, 제2 전극 및 보호층을 차례로 적층하는 것을 더 포함하는 유기발광소자 제조방법
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제 8항에 있어서 상기 평탄층을 형성하는 것은, 상기 광산란부들 상에 전구체를 스핀코팅하는 것; 및상기 스핀코팅된 전구체를 열처리에 의해 경화시키는 것을 포함하는 유기발광소자 제조방법
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11
제 7항에 있어서, 상기 기판의 제1 면과 대향하는 제2 면에 반사방지부들을 형성하는 것을 더 포함하는 유기발광소자 제조방법
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제 11항에 있어서 상기 반사방지부들을 형성하는 것은, 상기 기판의 제2 면에 유기물, 광가교제를 혼합한 유기용액을 코팅하여 유기층을 형성하는 것;상기 유기층을 열처리하여 상기 기판의 제2 면에 섬 모양의 반사방지부들을 불규칙하게 형성하는 것;상기 반사방지부들을 경화시키는 것을 포함하는 유기발광소자 제조방법
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제 7항에 있어서,상기 유기물은 소수성이고, 상기 기판은 친수성이며, 상기 광산란부들을 형성하는 것은 상기 소수성 유기물과 상기 친수성 기판의 비젖음에 의하는 유기발광소자 제조방법
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14
제 7항에 있어서, 상기 광산란부들을 형성하는 것은 250도 이하의 열처리에 의하여 수행되는 유기발광소자 제조방법
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15
서로 대향하는 제1 면과 제2 면을 포함하는 기판을 제공하는 것;기판의 제1 면 상에 제1 전극, 유기발광층, 제2 전극 및 보호층을 차례로 적층하는 것; 및 상기 기판의 제2 면에 반사방지부들을 형성하는 것을 포함하되, 상기 반사방지부들을 형성하는 것은상기 기판의 제2 면에 유기물, 광가교제를 혼합한 유기용액을 코팅하여 유기층을 형성하는 것;상기 유기층을 열처리하여 상기 기판 제2 면에 섬 모양의 반사방지부들을 불규칙하게 형성하는 것;상기 반사방지부들을 경화시키는 것을 포함하는 유기발광소자 제조방법
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16
제 15항에 있어서, 상기 유기물은 폴리플루오린(polyfluorine)계열의 물질을 포함하는 유기발광소자
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제 15항에 있어서, 상기 반사방지부들을 형성하는 것은 250도 이하의 열처리에 의하여 수행되는 유기발광소자 제조방법
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제 15항에 있어서,상기 유기물은 소수성이고, 상기 기판은 친수성이며, 상기 반사방지부들을 형성하는 것은 상기 소수성 유기물과 상기 친수성 기판의 비젖음에 의하는 유기발광소자 제조방법
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