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기판;상기 기판 상에 형성되는 후면 전극층;상기 후면 전극층 상에 형성되는 광 흡수층;상기 광 흡수층 상에 형성되는 버퍼층; 및상기 버퍼층 상에 형성되는 전면 전극층을 포함하고,상기 전면 전극층은 격자 구조를 가지는 2 이상의 층들을 포함하며,상기 2 이상의 층들의 격자 각도는 서로 다른 태양전지
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제 1항에 있어서,전면 전극층은 서로 다른 격자 각도를 가지는 제 1층 및 제 2층을 포함하는 태양전지
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3
제 1항에 있어서,상기 제 1층의 격자 각도는 상기 버퍼층에 대해 35° 내지 55°이고,상기 제 2층의 격자 각도는 상기 버퍼층에 대해 125° 내지 145°인 태양전지
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4 |
4
제 1항에 있어서
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5
제 2항에 있어서,상기 전면 전극층은,상기 제 2층 상에 형성되는 제 3층; 및상기 제 3층 상에 형성되는 제 4층을 더 포함하는 태양전지
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6 |
6
제 5항에 있어서,상기 제 1층과 상기 제 3층의 격자 각도는 상기 버퍼층에 대해 35° 내지 55°이고,상기 제 2층과 상기 제 4층의 격자 각도는 상기 버퍼층에 대해 125° 내지 145°인 태양전지
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7
제 5항에 있어서,상기 제 1층과 상기 제 3층의 격자 각도는 상기 버퍼층에 대해 125° 내지 145°이고,상기 제 2층과 상기 제 4층의 격자 각도는 상기 버퍼층에 대해 35° 내지 55°인 태양전지
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8
제 5항에 있어서,상기 제 1층과 상기 제 3층의 격자 각도는 동일하고,상기 제 2층과 상기 제 4층의 격자 각도는 동일한 태양전지
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9
기판 상에 후면 전극층을 형성하는 단계;상기 후면 전극층 상에 광 흡수층을 형성하는 단계;상기 광 흡수층 상에 버퍼층을 형성하는 단계; 및상기 버퍼층 상에 전면 전극층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 전면 전극층은 격자 구조를 가지는 복수의 다층을 포함하며,상기 전면 전극층을 형성하는 단계는,상기 버퍼층에 대해 35° 내지 55°의 격자 각도를 가지는 제 1층을 형성하는 단계; 및상기 버퍼층에 대해 125° 내지 145°의 격자 각도를 가지는 제 2층을 형성하는 단계를 포함하는 태양전지 제조 방법
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10
제 9항에 있어서,상기 전면 전극층은 스퍼터링 방법에 의해 형성되고,상기 제 1층은 40㎜/sec 내지 70㎜/sec의 스캔 스피드로 형성되며,상기 제 2층은 40㎜/sec 내지 70㎜/sec의 스캔 스피드로 형성되는 태양전지 제조 방법
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11
기판 상에 후면 전극층을 형성하는 단계;상기 후면 전극층 상에 광 흡수층을 형성하는 단계;상기 광 흡수층 상에 버퍼층을 형성하는 단계; 및상기 버퍼층 상에 전면 전극층을 형성하는 단계를 포함하고,상기 전면 전극층은 격자 구조를 가지는 복수의 다층을 포함하며,상기 전면 전극층을 형성하는 단계는,상기 버퍼층에 대해 125° 내지 145°의 격자 각도를 가지는 제 1층을 형성하는 단계; 및상기 버퍼층에 대해 35° 내지 55°의 격자 각도를 가지는 제 2층을 형성하는 단계를 포함하는 태양전지 제조 방법
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제 11항에 있어서,상기 전면 전극층은 스퍼터링 방법에 의해 형성되고,상기 제 1층은 40㎜/sec 내지 70㎜/sec의 스캔 스피드로 형성되며,상기 제 2층은 40㎜/sec 내지 70㎜/sec의 스캔 스피드로 형성되는 태양전지 제조 방법
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13
제 9항에 있어서,상기 전면 전극층을 형성하는 단계는,상기 버퍼층에 대해 35° 내지 55°의 격자 각도를 가지는 제 3층을 형성하는 단계; 및상기 버퍼층에 대해 125° 내지 145°의 격자 각도를 가지는 제 4층을 형성하는 단계를 더 포함하는 태양전지 제조 방법
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제 13항에 있어서,상기 전면 전극층은 스퍼터링 방법에 의해 형성되고,상기 제 3층은 40㎜/sec 내지 70㎜/sec의 스캔 스피드로 형성되며,상기 제 4층은 40㎜/sec 내지 70㎜/sec의 스캔 스피드로 형성되는 태양전지 제조 방법
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제 11항에 있어서,상기 전면 전극층을 형성하는 단계는,상기 버퍼층에 대해 125° 내지 145°의 격자 각도를 가지는 제 3층을 형성하는 단계; 및상기 버퍼층에 대해 35° 내지 55°의 격자 각도를 가지는 제 4층을 형성하는 단계를 더 포함하는 태양전지 제조 방법
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제 15항에 있어서,상기 전면 전극층은 스퍼터링 방법에 의해 형성되고,상기 제 3층은 40㎜/sec 내지 70㎜/sec의 스캔 스피드로 형성되며,상기 제 4층은 40㎜/sec 내지 70㎜/sec의 스캔 스피드로 형성되는 태양전지 제조 방법
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