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모기판에 포함된 위치 결정패턴의 위치정보에 기초하여 상기 모기판의 변형을 계측하는 계측부; 및상기 모기판의 감광막을 노광할 패턴 이미지에 대응하는 패턴 디자인을 생성하고, 상기 계측된 모기판의 변형을 보상하도록 상기 패턴 디자인을 변환하며, 상기 변환된 패턴 디자인을 기초로 마스크리스 노광공정을 수행하는 노광부를 포함하고,상기 노광부는 상기 모기판의 변형을 보상하도록 상기 패턴 디자인에 포함된 패턴 사이의 간격을 변환하는 마스크리스 노광장치
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제1 항에 있어서,상기 노광부는,광원빔을 생성하는 광원;상기 광원빔을 상기 패턴 디자인에 대응한 노광빔으로 변환하는 디지털 마이크로 미러 소자;상기 디지털 마이크로 미러 소자에 의한 상기 노광빔의 조사 면적을 확장시키는 빔 익스펜더;상기 빔 익스펜더로부터의 확장된 노광빔을 복수개로 분리하여 집광시키는 멀티 렌즈 어레이;상기 멀티렌즈 어레이로부터 집광된 노광빔들의 해상도를 조절하는 프로젝션 렌즈; 및상기 패턴 디자인을 제어하는 DMD(Digital Micro-mirror Device) 제어부를 포함하는 마스크리스 노광장치
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제2 항에 있어서,상기 모기판은 이전 노광공정을 수행하기 전에 상기 모기판에 배치된 제1 위치 결정패턴, 및 상기 이전 노광공정에 의해 상기 모기판에 배치되는 제2 위치 결정패턴을 포함하고,상기 계측부는 상기 제1 위치 결정패턴의 위치정보와, 상기 제2 위치 결정패턴의 위치정보를 비교하는 좌표 비교부; 및상기 좌표 비교부의 비교 결과에 기초하여 상기 모기판의 변형에 대응하는 좌표 변환 데이터를 생성하고, 상기 생성된 좌표 변환 데이터를 상기 DMD 제어부에 공급하는 좌표 변환부를 포함하는 마스크리스 노광장치
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제3 항에 있어서,상기 DMD 제어부는 상기 모기판의 감광막을 노광할 패턴 이미지에 대응하는 상기 패턴 디자인을 생성하고, 상기 좌표 변환 데이터를 이용하여 상기 모기판의 변형을 보상하도록 상기 패턴 디자인을 변환하는 패턴 생성부; 및상기 패턴 생성부로부터 전달된 패턴 디자인이 저장되는 저장부를 포함하는 마스크리스 노광장치
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제1 항에 있어서,상기 모기판은 복수의 표시 영역과 상기 복수의 표시 영역의 주변에 위치한 비표시영역으로 구분되고, 상기 위치 결정패턴은 상기 모기판의 상기 비표시영역 중 상기 각 표시 영역의 가장자리마다 형성되는 마스크리스 노광장치
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모기판에 포함된 위치 결정패턴의 위치정보에 기초하여 상기 모기판의 변형을 계측하는 단계; 상기 모기판의 감광막을 노광할 패턴 이미지에 대응하는 패턴 디자인을 생성하는 단계;상기 계측된 모기판의 변형을 보상하도록 상기 패턴 디자인을 변환하는 단계; 및상기 변환된 패턴 디자인을 기초로 마스크리스 노광공정을 수행하는 단계를 포함하고,상기 패턴 디자인을 변환하는 단계에서, 상기 모기판의 변형을 보상하도록 상기 패턴 디자인에 포함된 패턴 사이의 간격을 변환하는 마스크리스 노광방법
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제6 항에 있어서,상기 마스크리스 노광공정을 수행하는 단계는광원에 의해 광원빔을 생성하는 단계;상기 광원빔을 상기 패턴 디자인에 대응한 노광빔으로 변환하는 단계;상기 노광빔의 조사 면적을 확장시키는 단계;상기 확장된 노광빔을 복수개로 분리하여 집광시키는 단계; 및상기 집광된 노광빔들의 해상도를 조절하는 단계를 포함하는 마스크리스 노광방법
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제6 항에 있어서,상기 모기판은 이전 노광공정을 수행하기 전에 상기 모기판에 배치된 제1 위치 결정패턴, 및 상기 이전 노광공정에 의해 상기 모기판에 배치되는 제2 위치 결정패턴을 포함하고,상기 모기판의 변형을 계측하는 단계는 상기 제1 위치 결정패턴의 위치정보와, 상기 제2 위치 결정패턴의 위치정보를 비교하는 단계; 및상기 위치정보의 비교 결과에 기초하여 상기 모기판의 변형에 대응하는 좌표 변환 데이터를 생성하는 단계를 포함하고,상기 패턴 디자인을 변환하는 단계는, 상기 좌표 변환 데이터를 이용하여 상기 모기판의 변형을 보상하도록 상기 패턴 디자인을 변환하는 단계를 포함하는 마스크리스 노광방법
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제6 항에 있어서,상기 모기판은 복수의 표시 영역과 상기 복수의 표시 영역의 주변에 위치한 비표시 영역으로 구분되고, 상기 위치 결정패턴은 상기 모기판의 상기 비표시영역 중 상기 각 표시 영역의 가장자리마다 형성되는 마스크리스 노광방법
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