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분리막, 이의 제조방법, 이를 포함하는 오염물질제거용 유닛, 및 이의 용도

  • 기술번호 : KST2015069026
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요약 본 발명의 일 실시예에 따른 오염물질제거용 분리막은 소수성막, 그리고 상기 소수성막의 전부 또는 일부를 덮는 산화그래핀(Graphene Oxide)층을 포함하고, 상기 소수성막은 상기 산화그래핀층과 마주보는 면이 친수화처리된 것이다. 상기 산화그래핀층을 포함하는 분리막을 이용하여 기존의 분리막의 성능을 적정한 수준으로 유지하면서 휘발성오염물질의 제거율을 향상시킨 오염물질제거용 분리막을 제공할 수 있으며, 수처리용 분리막으로 유용하다. 상기 오염물질제거용 분리막은 막증류장치에 포함되거나 가습기 또는 정수기의 여과필터로 활용될 수 있다.
Int. CL B01D 69/12 (2006.01) B01D 71/02 (2006.01) B01D 69/02 (2006.01) B01D 71/82 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1020120109506 (2012.09.28)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자
공개번호/일자 10-2014-0042576 (2014.04.07) 문서열기
공고번호/일자 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.07.17)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 오병수 대한민국 서울특별시 서초구
2 계정일 대한민국 서울특별시 서초구
3 김민정 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 유미특허법인 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 서림빌딩 **층 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 엘지화학 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2012.09.28 수리 (Accepted) 1-1-2012-0798461-80
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2017.07.17 수리 (Accepted) 1-1-2017-0683586-08
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2018.06.12 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0396454-17
5 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2018.08.13 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2018-0799951-36
6 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2018.08.13 수리 (Accepted) 1-1-2018-0799945-62
7 [출원인변경]권리관계변경신고서
[Change of Applicant] Report on Change of Proprietary Status
2018.10.01 수리 (Accepted) 1-1-2018-0965038-71
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.11.12 수리 (Accepted) 4-1-2018-5227604-80
9 등록결정서
Decision to grant
2018.11.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2018-0795123-13
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2018.12.19 수리 (Accepted) 4-1-2018-5261818-30
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2019.08.19 수리 (Accepted) 4-1-2019-5164284-96
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번호 청구항
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소수성막의 일표면을 친수화처리를 하여 친수화처리된 비휘발성 물질을 제거하는 소수성막을 제조하는 친수화처리단계, 그리고상기 소수성막의 친수화처리된 일면(一面)에 산화그래핀입자를 포함하는 GO코팅액을 도포하여 휘발성 물질을 제거하는 산화그래핀층을 형성하는 산화그래핀층형성단계를 포함하고,상기 친수화처리단계는, 소수성막에 친수화고분자를 포함하는 친수성코팅액을 도포하여 친수화층을 형성하는 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 오염물질제거용 분리막의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 친수화처리된 소수성막에 GO코팅액을 도포하여 산화그래핀층을 형성하는 과정, 상기 소수성막에 친수성코팅액을 도포하여 친수화층을 형성하는 과정, 및 이들의 조합에서 선택되는 어느 하나의 과정은 에어브러쉬(air brush), 네불라이저(nebulizer), 분무기(atomizer), 전기분사(electrospray) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 미세분사방법을 이용하는 것인 오염물질제거용 분리막의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 친수화처리단계, 산화그래핀층형성단계, 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나의 단계는 상기 소수성막의 온도를 20 ℃ 내지 50 ℃로 하여 이루어지는 것인 오염물질제거용 분리막의 제조방법
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제8항에 있어서,상기 GO코팅액은 용매 및 산화그래핀입자를 포함하고,상기 용매는 물, 에틸렌 글리콜 (ethylene glycol) DMF (Dimethylformamide), NMP (Methylpyrrolidone) THF (Tetrahydrofuran) 및 이들의 조합으로 이루어진 군에서 선택된 어느 하나를 포함하는 것인 오염물질제거용 분리막의 제조방법
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1 CN104428053 CN 중국 FAMILY
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1 CN104428053 CN 중국 DOCDBFAMILY
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3 US2015165385 US 미국 DOCDBFAMILY
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5 WO2014051377 WO 세계지적재산권기구(WIPO) DOCDBFAMILY
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