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가스 치환 장치

  • 기술번호 : KST2015070280
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요약 본 명세서는 챔버의 일측에 가스 공급부가 형성되고 타측에 가스 배기부가 형성되되, 측정되는 챔버의 압력에 따라 가스 공급부의 다수개의 가스 공급 밸브 또는 가스 배기부의 다수개의 가스 배기 밸브를 제어부에 의해 순차적으로 개폐함으로서, 챔버 내부의 압력을 일정하게 유지하면서 특정한 가스로 빠르게 치환할 수 있도록 하여, 반도체나 OLED의 제조를 위한 챔버 또는 실험을 위한 글러브 박스 등의 밀폐 용기 내부의 공기를 원하는 가스 분위기로 만들기 위해 특정한 가스로 치환 할 때 가스를 빠르고 안정적으로 치환할 수 있어, 반도체 제품의 생산성 향상 및 실험 시간을 단축할 수 있는 공정시간을 단축을 위한 고속 가스 치환 장치에 관한 것이다.
Int. CL H01L 51/56 (2006.01.01) H01L 21/67 (2006.01.01)
CPC H01L 51/56(2013.01) H01L 51/56(2013.01) H01L 51/56(2013.01)
출원번호/일자 1020130000727 (2013.01.03)
출원인 엘지전자 주식회사
등록번호/일자 10-2034487-0000 (2019.10.15)
공개번호/일자 10-2014-0088788 (2014.07.11) 문서열기
공고번호/일자 (20191021) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2017.12.27)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 대한민국 서울특별시 영등포구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 송동욱 대한민국 서울특별시 서초구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 박장원 대한민국 서울특별시 강남구 강남대로 ***, *층~*층 (논현동, 비너스빌딩)(박장원특허법률사무소)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 엘지전자 주식회사 서울특별시 영등포구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application
2013.01.03 수리 (Accepted) 1-1-2013-0006966-50
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.05.22 수리 (Accepted) 4-1-2015-5068349-97
3 [심사청구]심사청구(우선심사신청)서
[Request for Examination] Request for Examination (Request for Preferential Examination)
2017.12.27 수리 (Accepted) 1-1-2017-1299632-82
4 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search
2018.07.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
5 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search
2018.10.12 수리 (Accepted) 9-1-2018-0054429-50
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2019.01.11 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0028187-79
7 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment
2019.03.11 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2019-0248322-05
8 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)
2019.03.11 수리 (Accepted) 1-1-2019-0248312-48
9 등록결정서
Decision to grant
2019.07.22 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2019-0527143-97
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2020.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2020-5118228-40
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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외부와 밀폐되게 형성되며, 내부의 압력을 측정하는 압력스위치가 구비되는 챔버;메인 공급 밸브에 연결되는 리저버 탱크, 상기 리저버 탱크에 연결되는 다수개의 공급 조절 밸브 및 상기 공급 조절 밸브들에 연결되고 상기 챔버의 일측에 연결되는 가스 분배기를 포함하며, 상기 챔버 내부로 특정한 가스를 공급하는 가스 공급부;상기 챔버의 타측에 연결되는 배기 영역, 상기 배기 영역에 연결되는 다수개의 배기 조절 밸브, 상기 배기 조절 밸브에 연결되는 배기 매니폴드, 상기 배기 매니폴드에 연결되는 메인 배기 밸브 및 상기 메인 배기 밸브에 연결되는 가스 배기 수단을 포함하며, 상기 챔버 내부의 가스를 배기하는 가스 배기부; 및상기 압력스위치, 상기 다수개의 공급 조절 밸브 및 상기 다수개의 배기 조절 밸브에 연결되어 가스의 공급 및 배출을 제어하되, 상기 압력스위치에서 측정되는 압력에 따라 상기 공급 조절 밸브들 또는 상기 다수개의 배기 조절 밸브들을 순차적으로 개폐하여 상기 챔버 내부의 압력을 조절하는 제어부; 및유입관과 배출관을 통해 상기 챔버와 각각 연결되고, 내부에 촉매가 구비되어 상기 챔버 내부의 가스에 포함된 산소와 수분을 제거하도록 이루어지는 가스 정제 장치를 포함하며, 상기 배기 영역의 일 측에는 복수개의 배기 배관이 설치되고, 상기 배기 배관에는 상기 챔버 내부의 가스와 공기가 균일하게 배출되도록 상기 배기 조절 밸브가 각각 설치되는 것을 특징으로 하는 가스 치환 장치
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제1항에 있어서, 상기 챔버는 특정압력 이상 및 이하일 때 개방되는 저압 릴리프 밸브가 형성되는 것을 특징으로 하는 가스 치환 장치
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제1항에 있어서, 상기 가스 공급부는 메인 공급 밸브 전단에 압력조절을 위한 메인 레귤레이터가 설치되며, 상기 다수개의 공급 조절 밸브 전단에 각각 서브 레귤레이터가 설치되는 것을 특징으로 하는 가스 치환 장치
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제1항에 있어서,상기 리저버 탱크에는 특정압력 이상일 때 개방되는 고압 릴리프 밸브가 형성되는 것을 특징으로 하는 가스 치환 장치
5 5
제1항에 있어서, 상기 가스 분배기는 상기 챔버의 일면 전체에 연결되도록 결합되는 것을 특징으로 하는 가스 치환 장치
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제1항에 있어서, 상기 가스 분배기는 내부에 다층의 다공판 또는 헤파필터가 구비되는 것을 특징으로 하는 가스 치환 장치
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삭제
8 8
제1항에 있어서, 상기 배기 매니폴드는 일측에 배기 가스 내의 산소 함량을 측정하는 산소 센서 또는 수분 함량을 측정하는 수분 센서가 설치되는 것을 특징으로 하는 가스 치환 장치
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제1항에 있어서,상기 챔버 내부로 유동되는 가스의 흐름이 층류 유동이 되도록, 가스의 공급량, 배기량, 유속 및 공급 압력이 선정되는 것을 특징으로 하는 가스 치환 장치
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삭제
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.