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웨이퍼를 지지하면서 회전되는 지지 플레이트; 상기 웨이퍼의 에지 영역에 대한 연삭을 수행하기 위한 그라인딩 휠;상기 지지 플레이트의 상측에 마련되고, 상하로 이동가능하면서 상기 웨이퍼의 에지 영역에 대한 연마를 수행하기 위한 에지 연마부를 갖는 제 1 연마 가이드부; 및상기 지지 플레이트의 하측에 마련되고, 상하로 이동가능하면서 상기 웨이퍼의 에지 영역에 대한 연마를 수행하기 위한 에지 연마부를 갖는 제 2 연마 가이드부를 포함하는 웨이퍼 에지 연마 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 제 1 연마 가이드부와 제 2 연마 가이드부 각각은 적어도 하나 이상의 에지 연마부를 포함하는 웨이퍼 에지 연마 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 제 1 연마 가이드부의 동작에 의한 웨이퍼 에지의 연마와, 제 2 연마 가이드부의 동작에 의한 웨이퍼 에지의 연마는, 선택적으로 이루어지는 것이 가능한 웨이퍼 에지 연마 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 웨이퍼의 에지에 대한 연마는,상기 제 1 연마 가이드부의 동작에 의한 연마가 수행된 다음, 제 2 연마 가이드부의 동작에 의한 연마가 수행되거나, 상기 제 2 연마 가이드부의 동작에 의한 연마가 수행된 다음, 제 1 연마 가이드부의 동작에 의한 연마가 수행되는 웨이퍼 에지 연마 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 제 1 연마 가이드부 내에는 웨이퍼 에지에 접촉되는 제 1 에지 연마부와 제 2 에지 연마부가 포함되고, 상기 제 2 연마 가이드부 내에는 웨이퍼 에지에 접촉되는 제 3 에지 연마부와 제 4 에지 연마부가 포함되는 웨이퍼 에지 연마 장치
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제 6 항에 있어서, 상기 제 1 및 제 3 에지 연마부는 서로 상하반전된 형상으로 이루어지고, 상기 웨이퍼와의 접촉면의 경사각이 각각 20~40°의 범위로 형성되는 웨이퍼 에지 연마 장치
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제 6 항에 있어서, 상기 제 2 및 제 4 에지 연마부는 서로 상하반전된 형상으로 이루어지고, 상기 웨이퍼와의 접촉면의 경사각이 각각 80~90°의 범위로 형성되는 웨이퍼 에지 연마 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 웨이퍼와 제 1 연마 가이드부 사이에는, 상기 제 1 연마 가이드부의 하측 개방된 영역을 선택적으로 개방하기 위한 셔터부가 더 마련되는 웨이퍼 에지 연마 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 웨이퍼와 제 2 연마 가이드부 사이에는, 상기 제 2 연마 가이드부의 상측 개방된 영역을 선택적으로 개방하기 위한 셔터부가 더 마련되는 웨이퍼 에지 연마 장치
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제 1 항에 있어서, 상기 그라인딩 휠을 회전시키기 위한 휠 구동부를 더 포함하고, 상기 휠 구동부는, 상기 웨이퍼 지지수단과의 거리가 가변되도록 이동이 가능한 웨이퍼 에지 연마 장치
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