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고체 전해질; 및상기 고체 전해질의 일면 또는 상기 일면에 대향하는 타면으로부터 내측 방향으로 형성되는 다수의 리튬 이온 이동로 패턴을 포함하고, 상기 리튬 이온 이동로 패턴은 상기 고체 전해질 내부에 삽입되는 구조로 형성되어 있으며, 상기 리튬 이온 이동로 패턴은 상기 고체 전해질의 두께 이하의 길이로 형성되는 것을 특징으로 하는 무기계 고체 전해질 이차 전지
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청구항 1에 있어서,상기 리튬 이온 이동로 패턴은 리튬 금속 산화물로 형성된 침상(針狀)의 패턴이 이격되어 배치된 것을 특징으로 하는 무기계 고체 전해질 이차 전지
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청구항 1에 있어서,상기 리튬 이온 이동로 패턴은 상기 고체전해질의 일면 또는 상기 타면에 형성되는 리튬 금속층과 상기 리튬 금속층 상에 형성되어 상호 이격 배치된 다수의 돌출형 패턴을 포함하는 것을 특징으로 하는 무기계 고체 전해질 이차 전지
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청구항 5에 있어서,상기 리튬 이온 이동로 패턴은 상기 리튬 금속층의 단위면적당 10∼200개인 것을 특징으로 하는 무기계 고체 전해질 이차 전지
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7
청구항 6에 있어서,상기 리튬 이온 이동로 패턴은 돌출형 패턴의 길이가 10㎛∼20㎛인 것을 특징으로 하는 무기계 고체 전해질 이차 전지
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8
청구항 6에 있어서,상기 리튬 금속층은 두께가 10㎛∼30㎛인 것을 특징으로 하는 무기계 고체 전해질 이차 전지
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9
청구항 1에 있어서,상기 고체 전해질은 산화물계 또는 황화물계 고체 전해질인 것을 특징으로 하는 무기계 고체 전해질 이차 전지
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청구항 1 또는 청구항 9에 있어서, 상기 고체 전해질은 몰리브덴 옥사이드, 티타늄(Ti) 옥사이드, 바나듐(V) 옥사이드, 크롬(Cr) 옥사이드, 탄탈(Ta) 옥사이드, 지르코늄(Zr) 옥사이드, 하프늄(Hf) 옥사이드, 니오븀(Nb) 옥사이드 및 텅스텐(W) 옥사이드로 이루어진 군으로부터 선택된 단일물 또는 2종 이상의 혼합물인 것을 특징으로 하는 무기계 고체 전해질 이차 전지
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11
전극 상에 리튬 금속층을 형성하는 단계;상기 리튬 금속층 상에 쉐도우마스크(Shadow mask)를 이용하여 돌출형 패턴 구조의 리튬 금속을 형성하는 단계; 및상기 리튬 금속층 및 상기 돌출형 패턴 구조의 리튬 금속상에 고체 전해질을 형성하는 단계;를 포함하는 것을 특징으로 하는 리튬 금속 이온 이동로가 형성된 무기계 고체 전해질 이차 전지의 제조방법
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청구항 11에 있어서,상기 리튬 금속층을 형성하는 단계 또는 돌출형 패턴 구조의 리튬 금속을 형성하는 단계는 박막증착법에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 리튬 금속 이온 이동로가 형성된 무기계 고체 전해질 이차 전지의 제조방법
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13
청구항 12에 있어서,상기 박막 증착법은 RF 스퍼터 증착법, DC 스퍼터 증착법, 화학 기상 증착법, 및 펄스 레이저 증착법으로 이루어진 군으로부터 선택된 방법인 것을 특징으로 하는 리튬 금속 이온 이동로가 형성된 무기계 고체 전해질 이차 전지의 제조방법
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14
청구항 11에 있어서,상기 고체 전해질은 박막 증착법에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 리튬 금속 이온 이동로가 형성된 무기계 고체 전해질 이차 전지의 제조방법
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청구항 14에 있어서,상기 박막 증착법은 RF 스퍼터 증착법, DC 스퍼터 증착법, 화학 기상 증착법, 및 펄스 레이저 증착법으로 이루어진 군으로부터 선택된 방법인 것을 특징으로 하는 리튬 금속 이온 이동로가 형성된 무기계 고체 전해질 이차 전지의 제조방법
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