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웨이퍼 건조 장치

  • 기술번호 : KST2015071779
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 웨이퍼 건조 장치를 개시한다. 개시된 본 발명의 웨이퍼 건조 장치는, 배스; 및 상기 배스의 내면에 배치되고, 상기 웨이퍼 측으로 열을 가하기 위한 상부 램프 및 하부 램프를 포함하고, 상기 상부 램프는 상기 배스의 측벽에 형성되며, 상기 배스의 바텀 플레이트와 이격되어 배치되고, 상기 하부 램프는 상기 배스의 바텀 플레이트에 형성되며, 상기 상부 램프가 형성된 측벽과 이격되어 배치되는 것을 특징으로 한다.따라서, 본 발명에 따른 웨이퍼 건조 장치는, 상부 램프와 하부 램프 간의 열적 손상을 방지하며, 특히 상부 램프의 열적 손상을 방지하고, 램프의 수명을 연장한다. 또한, 웨이퍼 지지부의 열적 손상을 방지하여, 형태의 변형을 방지하고, 배스 내의 기류에 영향을 주어 웨이퍼에 몰림성 패턴의 발생을 방지할 수 있다.
Int. CL H01L 21/302 (2006.01)
CPC H01L 21/67034(2013.01) H01L 21/67034(2013.01)
출원번호/일자 1020130087235 (2013.07.24)
출원인 주식회사 엘지실트론
등록번호/일자 10-1496552-0000 (2015.02.17)
공개번호/일자 10-2015-0011976 (2015.02.03) 문서열기
공고번호/일자 (20150226) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2013.07.24)
심사청구항수 10

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 에스케이실트론 주식회사 대한민국 경상북도 구미시

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김창석 대한민국 부산 금정구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 서교준 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 **길**, **층 (역삼동, 케이앤아이타워)(특허사무소소담)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 에스케이실트론 주식회사 대한민국 경상북도 구미시
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 [특허출원]특허출원서
[Patent Application] Patent Application		 2013.07.24 수리 (Accepted) 1-1-2013-0668060-59
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2014.03.05 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2014.04.09 수리 (Accepted) 9-1-2014-0032066-26
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.07.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0518082-16
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2014.09.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2014-0624310-30
6 [명세서등 보정]보정서
[Amendment to Description, etc.] Amendment		 2014.09.17 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2014-0881530-37
7 [거절이유 등 통지에 따른 의견]의견(답변, 소명)서
[Opinion according to the Notification of Reasons for Refusal] Written Opinion(Written Reply, Written Substantiation)		 2014.09.17 수리 (Accepted) 1-1-2014-0881531-83
8 등록결정서
Decision to grant		 2015.01.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2015-0041654-02
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.05.28 수리 (Accepted) 4-1-2015-5070977-42
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.05.29 수리 (Accepted) 4-1-2015-5071326-18
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2017.08.31 수리 (Accepted) 4-1-2017-5140469-15
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2018.02.21 수리 (Accepted) 4-1-2018-5031039-07
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1
배스; 상기 배스 내측에 배치되고, 다수의 웨이퍼들을 지지하는 웨이퍼 지지부; 및상기 배스의 내면에 배치되고, 상기 웨이퍼 측으로 열을 가하기 위한 상부 램프 및 하부 램프를 포함하고,상기 상부 램프는 상기 배스의 측벽에 형성되며, 상기 배스의 바텀 플레이트와 이격되어 배치되고,상기 하부 램프는 상기 배스의 바텀 플레이트에 형성되며, 상기 상부 램프가 형성된 측벽과 이격되어 배치되고,상기 웨이퍼의 직경 방향이고, 상기 바텀 플레이트에 수직인 방향에서 형성된 상기 상부 램프의 사영(shadow)은 하부 램프와 이격되어 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장치
2 2
삭제
3 3
제 1 항에 있어서,상기 상부 램프는 웨이퍼들의 측부에 배치되고, 상기 하부 램프는 웨이퍼들의 하부에 배치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장치
4 4
제 1 항에 있어서,상기 상부 램프의 상측에서 배스를 평면으로 바라볼 때, 상기 배스의 양 측벽에 형성된 상기 상부 램프 사이에 상기 하부 램프가 상기 상부 램프와 이격되어 배치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장치
5 5
제 1 항에 있어서,상기 웨이퍼들의 중심에서 상부 램프에 이르는 거리와 하부 램프에 이르는 거리는 동일한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장치
6 6
제 1 항에 있어서,상기 상부 램프가 형성되는 상기 배스의 측벽은 상기 배스의 바텀 플레이트와 둔각을 이루도록 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장치
7 7
배스;상기 배스 내측에 배치되고, 다수의 웨이퍼들을 지지하는 웨이퍼 지지부; 및상기 배스의 내면에 배치되고, 상기 웨이퍼측으로 열을 가하기 위한 상부 램프 및 하부 램프를 포함하고,상기 배스의 서로 대면하는 적어도 한 쌍의 측벽은 각각 상기 배스의 바텀 플레이트와 둔각을 이루도록 형성되고,상기 상부 램프 및 하부 램프는 상기 측벽에 형성되고,상기 웨이퍼의 직경 방향이고, 상기 바텀 플레이트에 수직인 방향에서 형성된 상기 상부 램프의 사영(shadow)은 하부 램프와 이격되어 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장치
8 8
제 7 항에 있어서,상기 둔각은 120°~150°인 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장치
9 9
삭제
10 10
제 7 항에 있어서,상기 하부 램프는 바텀 플레이트에 접하도록 형성되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장치
11 11
제 7 항에 있어서,상기 상부 램프의 상측에서 배스를 평면으로 바라볼 때, 상기 배스의 양 측벽에 형성된 상기 상부 램프 사이에 상기 하부 램프가 상기 상부 램프와 이격되어 배치되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장치
12 12
제 7 항에 있어서,상기 웨이퍼들의 중심에서 상부 램프에 이르는 거리와 하부 램프에 이르는 거리는 동일한 것을 특징으로 하는 웨이퍼 건조 장치
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.