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네오디뮴을 포함하는 영구자석을 NaOH 용액에 침지시키는 단계;상기 침지된 영구자석을 산화배소 처리하는 단계; 및상기 산화배소 처리된 영구자석을 산으로 침출시키는 단계를 포함하고,상기 산화배소 후 네오디뮴은 Nd(OH)3 또는 Nd2O3로 존재하는 것을 특징으로 하는 네오디뮴을 포함하는 영구자석으로부터 네오디뮴의 선택적 침출방법
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제1항에 있어서,상기 네오디뮴을 포함하는 영구자석은 NdFeB계 영구자석인 것을 특징으로 하는 네오디뮴을 포함하는 영구자석으로부터 네오디뮴의 선택적 침출방법
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제2항에 있어서,상기 NdFeB계 영구자석은 영구자석 제조단계에서 생산되는 스크랩 또는 사용후 폐기된 폐영구자석인 것을 특징으로 하는 네오디뮴을 포함하는 영구자석으로부터 네오디뮴의 선택적 침출방법
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제3항에 있어서,상기 사용후 폐기된 폐영구자석은 분말 형태를 갖기 위해 파쇄 공정이 수행되는 것을 특징으로 하는 네오디뮴을 포함하는 영구자석으로부터 네오디뮴의 선택적 침출방법
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제1항에 있어서,상기 NaOH 용액의 농도는 10 - 60%인 것을 특징으로 하는 네오디뮴을 포함하는 영구자석으로부터 네오디뮴의 선택적 침출방법
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제1항에 있어서,상기 NaOH 용액은 네오디뮴을 포함하는 영구자석의 무게(g) 대비 1 - 10의 부피(ml)비로 포함되는 것을 특징으로 하는 네오디뮴을 포함하는 영구자석으로부터 네오디뮴의 선택적 침출방법
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제1항에 있어서,상기 침지는 50 - 110 ℃에서 1 - 6시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 네오디뮴을 포함하는 영구자석으로부터 네오디뮴의 선택적 침출방법
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제1항에 있어서,상기 산화배소는 200 ℃ 이상 600 ℃ 미만에서 1 - 5시간 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 네오디뮴을 포함하는 영구자석으로부터 네오디뮴의 선택적 침출방법
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제1항에 있어서,상기 산은 황산 또는 염산인 것을 특징으로 하는 네오디뮴을 포함하는 영구자석으로부터 네오디뮴의 선택적 침출방법
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제1항에 있어서,상기 산은 네오디뮴에 대해 수소 이온 몰수가 3
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제1항에 있어서,상기 침출은 상온에서 5 - 25분 동안 수행되는 것을 특징으로 하는 네오디뮴을 포함하는 영구자석으로부터 네오디뮴의 선택적 침출방법
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