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다결정실리콘용저압화학증착장치의가스공급계

  • 기술번호 : KST2015073510
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 내용 없음
Int. CL H01L 21/223 (2006.01)
CPC C23C 16/45561(2013.01) C23C 16/45561(2013.01) C23C 16/45561(2013.01)
출원번호/일자 1019870014927 (1987.12.24)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0041668-0000 (1991.05.09)
공개번호/일자 10-1989-0011030 (1989.08.12) 문서열기
공고번호/일자 1019910000274 (19910123) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1987.12.24)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 전치훈 대한민국 대구시남구
2 정기로 대한민국 대전직할시유성구
3 김상호 대한민국 대전시동구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인한국전자통신연구소 대한민국 대전시중구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1987.12.24 수리 (Accepted) 1-1-1987-0087580-50
2 특허출원서
Patent Application		 1987.12.24 수리 (Accepted) 1-1-1987-0087579-14
3 출원심사청구서
Request for Examination		 1987.12.24 수리 (Accepted) 1-1-1987-0087581-06
4 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 1988.07.11 수리 (Accepted) 1-1-1987-0087582-41
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 1990.07.28 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1987-0051715-33
6 의견서
Written Opinion		 1990.08.27 수리 (Accepted) 1-1-1987-0087583-97
7 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 1990.08.27 수리 (Accepted) 1-1-1987-0087584-32
8 출원공고결정서
Written decision on publication of examined application		 1990.12.07 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1987-0051716-89
9 등록사정서
Decision to grant		 1991.04.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1987-0051718-70
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

질소(N2)는 수동식밸브(8)와 벌크헤드유니언(9)과 압력스위치(5) 및 역지밸브(6)를 경유한 후 평상시 열린상태의 공압밸브(14) 및 수동식밸브(15)를 거쳐 주관(2)과 연결하면서 공압밸브(4)와 질량유량조절기(3)를 거쳐 주관(1)과 연결하고, 실탄(SiH4)은 수동식밸브(8)와 벌크헤드유니언(8)과 역지밸브(6)를 경유한 후 역지밸브(6) 및 수동식밸브(8)를 경유한 질소(N2)와 함께 공압밸브(4)와 질량유량조절기(3)를 거쳐 여분라인연결단(7)이 각각 구비된 주관(1),(2)으로 연결하거나 수동식밸브(8)를 거쳐 귀환되도록 하고, 하이드로겐 클로라이드(HC1)는 수동식밸브(8)와 벌크헤드유니언(9)과 역지밸브(6)를 경유한 후 수동식밸브(8)와 벌크헤드유니언(9)을 거쳐 배기계와 연결하면서 공압밸브(4)를 경유한 다음 역지밸브(6) 및 수동식밸브(8)를 경유한 질소와 함께 질량유량조절기(3)를 거쳐 주관(1)과 연결하며, 공기(Air)는 수동식 밸브(8)와 압력스위치(5)와 벌크헤드유니언(9)과 3/2 솔레노이드밸브를 경유한 후 질량유량조절기(3)들의 앞에 연결된 모든 공압밸브(4)의 실린더에 공급되도록 구성함을 특징으로 하는 다결정실리콘용 저압화학 증착장치의 가스공급계

2 2

제1항에 있어서, 실탄 및 질소를 2개의 주관(1),(2)을 통해 공급함으로써 수평형튜브 형태의 반응기에서 다결정실리콘 박막의 증착균일성을 향상시키기 위한 어떤 형태의 가스주입기(injector)에도 대응할 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 다결정실리콘용 저압화학 증착장치의 가스공급계

3 3

제1항에 있어서, 시퀀스(sequence) 제어용 공압밸브(4),(20),(21)를 질량유량조절기(3) 앞에 위치시킴으로써 유량을 정확히 조절하는 것을 특징으로 하는 다결정실리콘용 저압화학 증착장치의 가스공급계

4 4

제1항에 있어서, 실탄과 하이드로겐 클로라이드 라인상에 질소유입라인, 바이패스라인(19), 배기라인 등을 설치하여 질량유량조절기(3)의 유지, 보수를 간편화시키고 안전대책을 구비하게 한 다결정실리콘용 저압화학 증착장치의 가스공급계

5 5

제1항에 있어서, 질소라인상에 평상시 열린 상태(N

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.