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내화금속용저압화학증착기장치의가스공급장치

  • 기술번호 : KST2015073568
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 내용 없음
Int. CL C23C 14/24 (2006.01)
CPC C23C 16/455(2013.01) C23C 16/455(2013.01) C23C 16/455(2013.01) C23C 16/455(2013.01)
출원번호/일자 1019870014273 (1987.12.14)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0034828-0000 (1990.08.01)
공개번호/일자 10-1989-0010267 (1989.08.07) 문서열기
공고번호/일자 1019900000757 (19900215) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1987.12.14)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 전치훈 대한민국 대구시남구
2 정기로 대한민국 대전직할시유성구
3 이용일 대한민국 충남대전시동구
4 유형준 대한민국 충남대전시중구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인한국전자통신연구소 대한민국 대전시중구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1987.12.14 수리 (Accepted) 1-1-1987-0083820-20
2 출원심사청구서
Request for Examination
1987.12.14 수리 (Accepted) 1-1-1987-0083821-76
3 특허출원서
Patent Application
1987.12.14 수리 (Accepted) 1-1-1987-0083819-84
4 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
1988.07.12 수리 (Accepted) 1-1-1987-0083822-11
5 출원공고결정서
Written decision on publication of examined application
1990.01.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1987-0049536-64
6 등록사정서
Decision to grant
1990.05.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1987-0049538-55
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

불화텅스텐(WF6), 수소(H2), 실란(SiH4), 질소(N2), 알곤(Ar) 가스라인이 질량유량조절기(5)를 통하여 주관(1)에 접속되고 상기 주관(1)은 히팅테이프(Heating tape)(14)를 거쳐서 텅스텐 실리사이드(WSi2)반응기, 배기계, 텅스텐(W) 반응기로 유출되도록 한 내화금속용 저압화합증착장치의 가스공급계에 있어서, 상기 불화텅스텐(WF6), 실란(SiH4), 수소(H2), 알곤(Ar), 질소(N2) 라인에 수동밸브(10), 벌크헤드유니언(11) 및 공압밸브(6)를 설치하여 질량유량조절기(5)에 접속하되 상기 불화텅스텐(WF6), 실란(SiH4), 수소(H2)에는 역지밸브(8)와 수동밸브(19)(20)(21) , 바이패스라인(13)을 설치하고, 상기 질소(N2) 라인에는 압력스위치(7) 및 공압밸브 (15), 수동밸브(16), 벌크헤드유니언(11)을 설치하여 반응기선택 밸브(2) (3)(4)의 분지관(23)에 연결하고, 상기 불화텅스텐(WF6) 라인에서 각 반응기까지의 라인에는 히팅 테이프(14)와 벨로우즈(12)를 접속시켜 박막을 정확하고 안전하게 성장할 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 내화금속용 저압화학증착장치의 가스공급계

2 2

제1항에 있어서, 각 질량유량조절기(5) 전단에 공압밸브(6)를 설치하여 유량을 정확히 조절할 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 내화 금속용 저압화학증착장치의 가스공급제

3 3

제1항에 있어서, 상기 불화텅스텐(WF6), 실란(SiH4) 라인상에 질소(N2) 유입라인, 바이패스라인(13), 배기라인, 공압밸브(22), 역지밸브(18), 수동밸브(19)(20) (21) 및 히팅 테이프(14)를 설치하여 질량유량조절기(5)의 유지보수를 간편히 할 수 있도록 하고 안전대책을 구비한 것을 특징으로 하는 내화금속용 저압화학증착장치의 가스공급계

4 4

제1항에 있어서, 질소(N2) 라인상에 평상시 열린상태의 공압밸브(15), 수동밸브(16), 그리고 주관의 끝단에 반응기 선택밸브(2)(3)(4)를 설치하여 전원 차단시 반응기가 자동으로 세척되고 잔류가스가 반응기와 격리되도록 한 것을 특징으로 하는 내화금속용 저압화학증착장치의 가스공급계

5 5

제1항에 있어서, 반응기선택밸브(2)(3)(4)를 설치하여 텅스텐(W)과 텅스텐 실리사이드(WSi2) 공정간에 오염을 최소로 줄일 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 내화금속용 저압화학증착장치의 가스공급계

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.