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반도체기판의표면청정방법

  • 기술번호 : KST2015073685
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 고진동하에서 반도체기판의 표면을 청정처리 하는 방법에 관한 것으로 특히 미세패턴화된 반도체기판에서 전자선을 이용하여 수 Å이내의 표면불순물을 선택적으로 제거하는 방법이다.본 발명은 반도체기판의 표면의 특정부위에 접속된 전자선을 선택적으로 조사하여 반도체기판의 표면에 존재하는 표면불순물의 분해를 유도하고 분해산물을 고진공으로 제거하되 화학증착 공정, 에피택셜 성장공정 또는 스피터링 공정 등의 가공공정과 함께 수행함으로써 기판의 변형이나 표면의 제오염을 방지할 수 있다.
Int. CL H01L 21/324 (2006.01)
CPC H01L 21/02046(2013.01) H01L 21/02046(2013.01) H01L 21/02046(2013.01)
출원번호/일자 1019910022924 (1991.12.13)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0080390-0000 (1994.12.14)
공개번호/일자 10-1993-0014838 (1993.07.23) 문서열기
공고번호/일자 1019940008365 (19940912) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1991.12.13)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이중화 대한민국 대전직할시서구
2 곽병화 대한민국 대전직할시대덕구
3 박형호 대한민국 대전직할시중구
4 권오준 대한민국 대전직할시중구
5 정성화 대한민국 대전직할시대덕구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)
2 김명섭 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 테헤란오피스빌딩 ***호 시몬국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인한국전자통신연구소 대한민국 대전직할시유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1991.12.13 수리 (Accepted) 1-1-1991-0125473-82
2 출원심사청구서
Request for Examination		 1991.12.13 수리 (Accepted) 1-1-1991-0125476-18
3 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1991.12.13 수리 (Accepted) 1-1-1991-0125474-27
4 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1991.12.13 수리 (Accepted) 1-1-1991-0125475-73
5 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 1993.11.10 수리 (Accepted) 1-1-1991-0125477-64
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 1994.04.18 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1991-0060354-93
7 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 1994.05.19 수리 (Accepted) 1-1-1991-0125478-10
8 의견서
Written Opinion		 1994.05.19 수리 (Accepted) 1-1-1991-0125479-55
9 출원공고결정서
Written decision on publication of examined application		 1994.08.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1991-0060355-38
10 등록사정서
Decision to grant		 1994.12.10 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1991-0060356-84
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

기체상으로 분해가능한 원소들로 이루어진 불순물들로 오염된 반도체 기판의 표면을 청정처리 하는 방법에 있어서, 상기 반도체 기판을 1E-6torr 이하의 고진공 분위기 속에 위치시키고, 상기 불순물들의 종류 및 두께 따라서 결정되는 전자밀도의 전자선을 상기 반도체 기판의 상기 불순물들이 형성된 표면에 선택적으로 조사하여 상기 반도체 기판의 표면에 존재하는 상기 불순물들의 분해를 유도하고, 상기 불순물들의 분해산물을 고진공으로 제거하는 것을 특징으로 하는 반도체 기판의 표면청정방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.