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(0,파이)위상변이를갖는미세패턴형성방법

  • 기술번호 : KST2015073773
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 내용 없음
Int. CL G11B 7/26 (2013.01)
CPC H01L 21/027(2013.01) H01L 21/027(2013.01) H01L 21/027(2013.01)
출원번호/일자 1019910009213 (1991.06.04)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0066810-0000 (1993.10.23)
공개번호/일자 10-1993-0001154 (1993.01.16) 문서열기
공고번호/일자 1019930007028 (19930726) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1991.06.04)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 곽종훈 대한민국 대전직할시서구
2 김홍만 대한민국 대전직할시중구
3 박서연 대한민국 대전직할시유성구
4 이일항 미국 대전직할시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 재단법인한국전자통신연구소 대한민국 대전직할시유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1991.06.04 수리 (Accepted) 1-1-1991-0052980-28
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1991.06.04 수리 (Accepted) 1-1-1991-0052982-19
3 출원심사청구서
Request for Examination		 1991.06.04 수리 (Accepted) 1-1-1991-0052981-74
4 출원공고결정서
Written decision on publication of examined application		 1993.06.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1991-0020819-95
5 등록사정서
Decision to grant		 1993.10.20 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1991-0020821-87
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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기록광원(9)이 편광기(10)를 통과하여 선형편광된 광(9a)을 비선형 광학 박막(8)에 노광시킴으로써 상기 비선형 광학박막(8)에 균일하게 광유도 비등방성을 유기하는 제1공정과, 90°편광기(11)와 이진 포토마스크(3)를 사용하여 상기 제1공정에서 유기된 광축에 대해 90°회전된 광축(8a)을 선택적으로 형성시키는 제2공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 (0,π) 위상변위를 갖는 미세패턴 형성방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.