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실리사이드를이용한쌍극자트랜지스터의전극제조방법

  • 기술번호 : KST2015073984
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 실리사이드를 이용한 쌍극자 트랜지스터의 제조방법에 관한 것으로서, 종래에 실리콘 쌍극자 트랜지스터 제작시 기생성분인 베이스 전극저항을 줄이기 위하여 본 발명에서 컬렉터인 규소기판(1) 위에 절연막(2)을 형성하고, 그 위에 베이스 단결정박막(3)을 형성하는 공정(a)과, 이 위에 실리사이드 박막(4)을 도포하고, 감광막(5)을 도포하여 에미터-베이스 영역을 형성하는 공정(b)과, 노출된 상기 실리사이드 박막(4)을 습식식각하고 상기 감광막(5)을 제거하는 공정(c,d)과, 상기 실리사이드 박막(4)위에 절연막(6)을 도포하고, 감광막(5)을 이용하여 에미터-베이스를 정의한 후, 절연막(6)을 식각하고 상기 실리사이드 박막(4)을 습식식각하여 베이스 전극을 형성하는 공정(e)을 제공함으로써 제조공정수를 줄여 제조단가를 감소시키며, 응용범위가 넓은 초고속 소자를 제작할 수가 있다.
Int. CL H01L 21/331 (2006.01)
CPC H01L 29/66272(2013.01) H01L 29/66272(2013.01) H01L 29/66272(2013.01) H01L 29/66272(2013.01) H01L 29/66272(2013.01)
출원번호/일자 1019930026316 (1993.12.03)
출원인 한국전자통신연구원, 주식회사 케이티
등록번호/일자 10-0119907-0000 (1997.08.08)
공개번호/일자 10-1995-0021061 (1995.07.26) 문서열기
공고번호/일자 (19971017) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1993.12.03)
심사청구항수 1

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 주식회사 케이티 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이수민 대한민국 대전시유성구
2 염병렬 대한민국 대전시유성구
3 조덕호 대한민국 대전시유성구
4 한태현 대한민국 대전시유성구
5 이성현 대한민국 대전시유성구
6 권오준 대한민국 대전시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)
2 김명섭 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 테헤란오피스빌딩 ***호 시몬국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 케이티 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 한국전자통신연구원 대한민국 대전시유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1993.12.03 수리 (Accepted) 1-1-1993-0133333-11
2 출원심사청구서
Request for Examination
1993.12.03 수리 (Accepted) 1-1-1993-0133334-56
3 특허출원서
Patent Application
1993.12.03 수리 (Accepted) 1-1-1993-0133332-65
4 대리인사임신고서
Notification of resignation of agent
1994.02.22 수리 (Accepted) 1-1-1993-0133335-02
5 출원인명의변경신고서
Applicant change Notification
1994.10.12 수리 (Accepted) 1-1-1993-0133336-47
6 출원인정보변경 (경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1997.03.12 수리 (Accepted) 1-1-1993-0133337-93
7 등록사정서
Decision to grant
1997.07.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1993-0061555-11
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.20 수리 (Accepted) 4-1-1999-0010652-29
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2000-0005008-66
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.04.09 수리 (Accepted) 4-1-2002-0032774-13
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.03.13 수리 (Accepted) 4-1-2009-5047686-24
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2010-5068437-23
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2012-5005621-98
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.03.21 수리 (Accepted) 4-1-2012-5058926-38
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.06.08 수리 (Accepted) 4-1-2012-5122434-12
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2013.07.31 수리 (Accepted) 4-1-2013-5106568-91
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018159-78
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
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컬렉터용 규소기판(1)에 활성영역과 비활성영역을 격리시키기 위하여 국부적으로 절연막(2)을 형성하고, 그 위에 베이스 단결정 박막(4)을 형성하는 공정(a)과, 상기 베이스 단결정 박막(4)위에 실리사이드 박막(4)을 도포하고, 그 위에 에미터-베이스 영역을 형성하기 위해서 감광막(5)을 형성하는 공정(b)과, 노출된 상기 실리사이드 박막(4)을 습식식각하는 공정(c)과, 상기 공정(c)후에 상기 감광막(5)을 제거하는 공정(d)과, 상기 감광막(5)이 제거된 상기 실리사이드 박막(4)위에 절연막(6)을 도포하고, 감광막(5)을 이용하여 에미터-베이스를 정의한 후, 상기 절연막(6)을 식각하고 실리사이드 박막(4)을 습식식각하여 베이스전극을 형성하는 공정(e)을 포함하는 실리사이드를 이용한 쌍극자 트랜지스터의 제조방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.