설계패턴이 만들어진 레티클 마스크를 이용하며 빛에 의한 특정 기판상에 설게된 패턴형상을 재현시키는 반도체 소자제조에 있어 상기 마스크의 먼지 등에 의한 오염을 방지하도록 상기 마스크에 페티클을 부착하기 위한 장치로서 진공펌프(15)의 진공압력에 의하여 마스크(1)을 흡착과 동시에 하강하여 페리클(2)이 접착하도록 몸체(14)에는 마스크(1)를 흡착하여 당기는 흡착패드(5)와 흡착피스톤(3), 공기유입으로 진공압력을 해제하는 진공해제밸브(16), 진공해제에 따라 흡팍피스톤(3)의 위치를 복원시키는 압축스프링(6)을 구비하여 진공흡착시 흡착피스톤(3)이 하강될 수 있도록 하며, 상기 흡착패드(5)는 돌출 설치되어 몸체(14)에 마스크(1)와 페리클(2)을 분리 탑재할수 있도록 하며, 상기 몸체(14)내에는 진공펌프(15)의 진공압력을 전달하기 위한 각각의 진공튜브(10) 및 엘보우(11), 원하는 접착부에 따라 밸브레버(9)를 돌려 선택적으로 진공압력을 공급 또는 차단할 수 있는 선택밸브(8)가 설치됨을 특징으로 하는 마스크 접착장치

제1항에 있어서, 상기 몸체의 접착부에는 높이가 다른 페리클(2)을 마스크(1)에 접착할 수 있도록 지그(17)를 이용하여 마스크(1)에 페리클(2)을 접착할 수 있도록 한 것을 특징으로 하는 마스크 접착장치