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수평이동형광개폐소자의구조및그제조방법

  • 기술번호 : KST2015074416
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 표시장치 및 광 모듈레이터용 회전이동형 광개폐소자의 구조와 제조방법에 관한 것으로, 빛의 사용효율을 높이고 생산단가를 낮추기 위하여 마이크로 머시닝 기술을 이용하여 3차원 미소 기계 구조체를 형성하며, 하부의 구동전극 및 선택전극과 상부의 이동전극 사이의 인가전압 차이를 이용한 정전력을 구동원으로 하여 회전이동자가 움직이며, 최상부의 마스크 및 빗살무늬로 형성된 창의 교차를 이용하여 빛의 차단 및 통과를 제어하며, 마이크로 머시닝 기술의 약점인 희생층 제거시에 상층과 기판과의 고착을 방지하기 위한 지지빔으로 구성됨을 특징으로 하는 미소기계 구조체 회전이동형 광개폐소자 및 그 제조방법.
Int. CL H01L 31/00 (2006.01)
CPC G02F 1/1345(2013.01) G02F 1/1345(2013.01)
출원번호/일자 1019940035162 (1994.12.19)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0170997-0000 (1998.10.16)
공개번호/일자 10-1996-0026989 (1996.07.22) 문서열기
공고번호/일자 (19990201) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1994.12.19)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이용일 대한민국 대전직할시유성구
2 박경호 대한민국 대전직할시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)
2 이화익 대한민국 서울시 강남구 테헤란로*길** (역삼동,청원빌딩) *층,***,***호(영인국제특허법률사무소)
3 김명섭 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 테헤란오피스빌딩 ***호 시몬국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1994.12.19 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158289-53
2 출원심사청구서
Request for Examination
1994.12.19 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158290-00
3 특허출원서
Patent Application
1994.12.19 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158288-18
4 출원인정보변경 (경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1997.04.09 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158291-45
5 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1997.08.20 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158292-91
6 대리인사임신고서
Notification of resignation of agent
1998.03.17 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158293-36
7 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
1998.03.19 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1994-0088226-16
8 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
1998.05.08 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158294-82
9 의견서
Written Opinion
1998.05.08 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158295-27
10 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
1998.06.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1994-0088227-51
11 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
1998.06.26 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1994-0088228-07
12 의견서
Written Opinion
1998.08.26 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158296-73
13 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
1998.08.26 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158297-18
14 등록사정서
Decision to grant
1998.09.25 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1994-0088229-42
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

빛을 차단하거나 개폐시키는 광개폐소자에 있어서, 반도체 기판과; 상기 반도체 기판위에 서로 수평적으로 10㎛이하의 간격으로 이격형성된 구동전극 및 선택전극과; 상기 구동 및 선택전극과 수직적으로 10㎛이하의 간격으로 이격되어 상기 구동전극과 선택전극 사이의 인가전압 차이를 이용한 정전력을 구동원으로 하여 회전운동이 가능한 도전성 박막으로 이루어진 회전이동자와; 상기 회전이동자와 일정공간을 사이에 두고 일체로 형성되어 빛의 차단 및 통과를 제어하는 마스크; 및 상기 회전이동자 및 마스크를 지지하기 위한 지지빔으로 구성됨을 특징으로 하는 3차원 미세 기계 구조체 회전이동형 광개폐소자

2 2

제1항에 있어서, 상기 지지빔은 상기 회전이동자와 마스크를 충분히 지지할 수 있고 회전운동을 원활히 할 수 있도록 상기 기판위에 소정의 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 회전이동형 광개폐소자

3 3

제1항에 있어서, 상기 회전이동자와 마스크는 가운데층이 비어있는 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 회전이동형 광개폐소자

4 4

제1항에 있어서, 상기 회전이동자와 마스크 표면은, 빛의 통과를 가능하게 하기 위한 다수개의 창(WINDOW)을 구비한 것을 특징으로 하는 회전이동형 광개폐소자

5 5

제1항에 있어서, 상기 반도체 기판과 구동전극 및 선택전극 사이에, 그리고 상기 구동전극과 선택전극과의 사이에 이들의 전기적 절연을 위한 절연수단이 부가된 것을 특징으로 하는 회전이동형 광개폐소자

6 6

회전이동형 광개폐소자를 제조하는 방법에 있어서, 반도체 기판위에 전압을 인가하기 위해 제공되는 구동전극 및 선택전극을 형성하는 단계와; 상기 기판상에 상기 전극들을 형성한 후 절연막을 형성하는 단계와; 운동하는 부재를 분리독립시키기 위해 제거될 제1희생층을 절연막 위에 형성하고 회전이동자를 형성한 후, 제2희생층을 형성하는 단계와; 상기 회전이동자와 한 몸체를 이루어 빛의 개폐를 수행하기 위한 마스크 및 창을 형성하는 단계 및 상기 제1 희생층 및 제2 희생층을 제거하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 회전이동형 광개폐소자의 제조방법

7 7

광개폐소자에 있어서, 반도체 기판과; 상기 반도체 기판위에 형성된 하부전극과; 상기 하부전극과 10㎛이하의 간격으로 이격되어 수평의 병진운동이 가능한 도전성 박막으로 이루어진 수평이동자와; 상기 수평이동자의 상부에 프린지 전기장이 발생되는 일정공간을 사이에 두고 형성된 상부전극 및 마스크와; 상기 수평이동자를 지지하고 수평운동을 원활히 할 수 있도록 상기 하부전극과 수평이동자 사이의 공간을 관통하여 기판위에 지지되는 하부지지빔과; 상기 상부전극 및 마스크의 양측을 지지하여 기판위에 소정의 형상으로 형성되는 상부지지빔으로 구성된 것을 특징으로 하는 수평이동형 광개폐소자

8 8

제7항에 있어서, 상기 수평이동자, 하부전극 및 마스크는 빛의 통과를 위한 창을 각각 구비하고, 상기 하부전극과 상부전극의 각 창들은 초기 상태시 광의 차단을 위해 수평이동자의 창들과 서로 수직적으로 엇갈리도록 형성된 것을 특징으로 하는 수평이동형 광개폐소자

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.