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금속박막증착및고온열처리가능한스퍼터반응로

  • 기술번호 : KST2015074417
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 금속박막의 증착을 위한 스퍼터 장비에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 증착공정과 열처리공정을 하나의 반응로에서 수행할 수 있도록 하는 금속박막 증착 및 고온 열처리 가능한 스퍼터 반응로에 관한 것으로 가열온도 범위가 넓고 정밀한 온도제어가 가능하며, 빠른 가열속도와 냉각속도에 의해 금속박막의 증착과 증착후의 가열에 의한 리플로우 등의 고온 열처리를 하나의 반응로 내에서 동시 또는 순차적으로 수행 가능한 구조를 가지는 금속박막 증착 및 고온 열처리 가능한 스퍼터 반응로를 제공하기 위하여 적외선 램프를 열원으로 하여 웨이퍼 가열을 적외광의 방사에 의한 직접가열로 수행하며 특히 금속박막의 증착과 증착후의 열처리를 하나의 반응로에서 순차적으로 또는 독립적으로 수행 가능한 스퍼터 장비의 반응로와 콜리메이터(collimator) 사용시의 구멍 막힘(clogging) 현상의 개선을 위한 원거리 스퍼터 공정 수행이 가능하도록 함을 특징으로 하는 것이다.
Int. CL C23C 14/56 (2006.01)
CPC H01J 37/3405(2013.01) H01J 37/3405(2013.01) H01J 37/3405(2013.01) H01J 37/3405(2013.01)
출원번호/일자 1019940035164 (1994.12.19)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0138869-0000 (1998.02.23)
공개번호/일자 10-1996-0023213 (1996.07.18) 문서열기
공고번호/일자 (19980715) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1994.12.19)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김윤태 대한민국 대전직할시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)
2 원혜중 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 서울빌딩 *층 (역삼동)
3 이화익 대한민국 서울시 강남구 테헤란로*길** (역삼동,청원빌딩) *층,***,***호(영인국제특허법률사무소)
4 김명섭 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 테헤란오피스빌딩 ***호 시몬국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1994.12.19 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158306-42
2 출원심사청구서
Request for Examination		 1994.12.19 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158308-33
3 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1994.12.19 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158307-98
4 출원인정보변경 (경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1997.04.09 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158309-89
5 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1997.08.21 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158310-25
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 1997.09.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1994-0088236-62
7 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 1997.11.22 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158311-71
8 의견서
Written Opinion		 1997.11.22 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158312-16
9 등록사정서
Decision to grant		 1998.02.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1994-0088237-18
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
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금속박막의 증착을 위한 스퍼터 장비에 있어서, 회전모터에 의해 회전되는 마그네트가 장착된 타겟과; 반응로 측벽에의 증착 방지를 위한 실드(shield)부와 웨이퍼의 가열을 위한 기판 가열 모듈과; 반응로의 진공유지를 위한 진공시스템과; 웨이퍼 반송 시스템으로 구성된 하나의 반응로내에서 박막증착과 리플로우공정 등의 열처리공정을 순차적으로 또는 독립적으로 수행하도록 함을 특징으로 하는 금속박막 증착 및 고온 열처리 가능한 스퍼터 반응로

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제1항에 있어서, 웨이퍼 가열을 위한 기판가열 모듈은 열원으로 직접 복사가열 방식의 적외광 램프(111)와; 가열효율의 증대를 위해 반사경(110)과; 적외광 투과창을 적외광의 투과 특성이 우수한 석영판(112)으로 구성됨을 특징으로 하는 금속박막 증착 및 고온 열처리 가능한 스퍼터 반응로

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제1항에 있어서, 상기 기판가열모듈은 웨이퍼의 온도 균일도 조절 및 가열, 냉각속도를 조절가능하도록 램프 어셈블리 구동기구(108)에 의해 웨이퍼 홀더의 위치를 상

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제1항에 있어서, 상기 타겟은 웨이퍼 홀더와 가열기판의 위치가변을 통해 원거리 스퍼터 공정이 가능하도록 웨이퍼 클램퍼/홀더구동기구(107), 구동축(104) 및 벨로오즈A(106)에 의해 타겟과 웨이퍼 사이의 간격을 가변시킬 수 있도록 함을 특징으로 하는 금속박막 증착 및 고온 열처리 가능한 스퍼터 반응로

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제1항에 있어서, 상기 타겟의 석영판 클램퍼 하부에는 링 형태의 가스공급라인을 형성하고 내부에서 질소 또는 헬륨가스가 가열되어 공급되도록 하며, 타겟의 측벽면에는 알곤 가스가 타겟의 표면에 균일하게 분사되도록 링 형태의 알곤 가스라인을 설치하여 질소 및 헬륨가스의 잔류에 의한 영향을 무시할 수 있도록 함을 특징으로 하는 금속박막 증착 및 고온 열처리 가능한 스퍼터 반응로

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.