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히터매립된평면도파로형광스위치의제조방법

  • 기술번호 : KST2015074419
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 히터 매립된 평면 도파로형 광스위치의 제조방법에 관한 것으로서, 실리콘 기판상에 하부 클래드층과 채널 도파로층을 연속적으로 형성하는 공정과, 상기 채널 도파로층의 상부에 마스크를 형성하는 공정과, 상기 마스크를 이용하여 상기 채널 도파로층을 식각하여 채널 도파로를 형성하고 상기 마스크를 제거하는 공정과, 상기 하부 클래드층과 상기 채널 도파로의 상부에 제1상부 클래드층을 형성하는 공정과, 상기 제1상부 클래드층 상부의 상기 채널 도파로에 대응하는 부분에 박막히터를 형성하는 공정과, 상기 제1상부 클래드층 및 상기 박막히터의 상부에 제2상부 클래드층을 형성하는 공정으로 구성되어, 박막히터에서 발생되는 열이 인접하는 채널 도파로에 전달되는 것을 억제하여 이웃하는 채널 도파로들 사이의 누화 현상을 방지할 수 있는 잇점이 있다.
Int. CL G02B 6/35 (2006.01)
CPC
출원번호/일자 1019940035167 (1994.12.19)
출원인 한국전자통신연구원, 주식회사 케이티
등록번호/일자 10-0163738-0000 (1998.09.08)
공개번호/일자 10-1996-0024504 (1996.07.20) 문서열기
공고번호/일자 (19990415) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1994.12.19)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 주식회사 케이티 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 심재기 대한민국 대전직할시유성구
2 신장욱 대한민국 경기도수원시권선구
3 정명영 대한민국 대전직할시유성구
4 최태구 대한민국 대전직할시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)
2 원혜중 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 서울빌딩 *층 (역삼동)
3 이화익 대한민국 서울시 강남구 테헤란로*길** (역삼동,청원빌딩) *층,***,***호(영인국제특허법률사무소)
4 김명섭 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 테헤란오피스빌딩 ***호 시몬국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 케이티 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 출원심사청구서
Request for Examination		 1994.12.19 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158329-92
2 특허출원서
Patent Application		 1994.12.19 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158327-01
3 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1994.12.19 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158328-46
4 출원인정보변경 (경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1997.04.09 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158330-38
5 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1997.08.21 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158331-84
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 1998.02.24 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1994-0088248-10
7 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 1998.04.23 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158333-75
8 의견서
Written Opinion		 1998.04.23 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158334-10
9 대리인사임신고서
Notification of resignation of agent		 1998.04.23 수리 (Accepted) 1-1-1994-0158332-29
10 등록사정서
Decision to grant		 1998.08.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1994-0088249-55
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1999.01.20 수리 (Accepted) 4-1-1999-0010652-29
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2000.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2000-0005008-66
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.04.09 수리 (Accepted) 4-1-2002-0032774-13
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.03.13 수리 (Accepted) 4-1-2009-5047686-24
17 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
18 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2010.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2010-5068437-23
19 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2012-5005621-98
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.03.21 수리 (Accepted) 4-1-2012-5058926-38
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2012.06.08 수리 (Accepted) 4-1-2012-5122434-12
22 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2013.07.31 수리 (Accepted) 4-1-2013-5106568-91
23 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018159-78
24 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

실리콘 기판 상에 하부 클래드층과 도파로층을 연속적으로 형성하는 제1공정과, 상기 도파로층의 상부에 마스크를 형성하는 제2공정과, 상기 마스크를 이용하여 상기 도파로층을 식각하여 채널 도파로를 형성하고 상기 마스크를 제거하는 제3공정과, 상기 하부 클래드층과 상기 채널 도파로의 상부에 제1상부 클래드층을 형성하는 제4공정과, 상기 제1상부 클래드층 상부의 상기 채널 도파로에 대응하는 부분에 박막 히터를 형성하는 제5공정과, 상기 제1상부 클래드층 및 상기 박막 히터의 상부에 제2상부 클래드층을 형성하는 제6공정으로 구성된 것을 특징으로 하는 히터 매립된 평면 도파로형 광스위치의 제조방법

2 2

제1항에 있어서, 상기 하부 클래드층은 18~22㎛의 두께로 형성하며, 상기 도파로층은 6~8㎛의 두께로 형성하되, 상기 하부 클래드층과 도파로층을 열처리하여 고밀화시키는 것을 특징으로 하는 히터매립된 평면 도파로형 광스위치의 제조방법

3 3

제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 하부 클래드층은 PSG(Phosphosilicate Glass)로 형성하며, 상기 도파로층은 GPSG(Germano-Phosphosilicate Glass)로 형성하는 것을 특징으로 하는 히터매립된 평면 도파로형 광스위치의 제조방법

4 4

제2항에 있어서, 상기 하부 클래드층과 도파로층을 750~850℃의 BCl2 분위기에서 5~15분간 1차 열처리하고 1000~1050℃의 He + O2 분위기에서 5~10 시간 2차 열처리하는 히터 매립된 것을 특징으로 하는 히터매립된 평면 도파로형 광스위치의 제조방법

5 5

제1항에 있어서, 상기 제2공정은 아모퍼스 실리콘으로 이루어진 마스크를 형성하는 것을 특징으로 하는 히터매립된 평면 도파로형 광스위치의 제조방법

6 6

제1항에 있어서, 상기 제5공정은 상기 박막 히터의 폭을 상기 도파로 폭의 두배로하여 국부가열과 복원으로 인한 인접 도파로와의 누화를 최소화하도록 하는 것을 특징으로 하는 히터매립된 평면 도파로형 광스위치의 제조방법

7 7

제1항에 있어서, 상기 도파로의 굴절률이 가열된 후 복원이 효율적으로 진행될 수 있도록 상기 박막히터의 상부에 형성된 제2상부 클래드 층을 국부 식각하여 박막히터의 열선을 공기중에 노출시키는 공정을 부가한 것을 특징으로 하는 히터매립된 평면 도파로형 광스위치의 제조방법

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 JP08328049 JP 일본 FAMILY
2 US05653008 US 미국 FAMILY

DOCDB 패밀리 정보

순번, 패밀리번호, 국가코드, 국가명, 종류의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 패밀리정보 - DOCDB 패밀리 정보 표입니다.
순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 FR2728355 FR 프랑스 DOCDBFAMILY
2 FR2728355 FR 프랑스 DOCDBFAMILY
3 JP8328049 JP 일본 DOCDBFAMILY
4 JPH08328049 JP 일본 DOCDBFAMILY
5 US5653008 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.