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선택적열처리장치

  • 기술번호 : KST2015074482
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 반도체 제조장치 중에서 특히 선택적으로 열처리 공정을 수행할 수 있도록 한 열처리 장치에 관한 것이다.종래의 열처리 장치는 시료의 부분적인 열처리가 불가능하여 전체를 열처리 함으로써 열처리가 필요치 않은 부분이 후속 열처리 단계에서 전기적, 물리적, 기하학적 변형이 발생하는 문제점들이 있었다.본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로 열처리시 시료의 특정 영역의 선택은 물론 주입되는 불순물 중 특성 특성불순물의 선택과, 시료의 증착 박막중 특정 박막만을 선택적으로 열처리 할 수 있도록 열원에서 발산되는 빛을 집속하여 필터를 통과 시킨후 소정의 마스크를 거쳐 시료에 조사 되도록 한 것이다.
Int. CL H01L 21/324 (2006.01)
CPC H01L 21/67115(2013.01) H01L 21/67115(2013.01)
출원번호/일자 1019940034382 (1994.12.15)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0138865-0000 (1998.02.23)
공개번호/일자 10-1996-0026415 (1996.07.22) 문서열기
공고번호/일자 (19980601) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1994.12.15)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김상기 대한민국 대전직할시유성구
2 백종태 대한민국 대전직할시유성구
3 정해빈 대한민국 대전직할시유성구
4 유형준 대한민국 대전직할시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)
2 원혜중 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 서울빌딩 *층 (역삼동)
3 이화익 대한민국 서울시 강남구 테헤란로*길** (역삼동,청원빌딩) *층,***,***호(영인국제특허법률사무소)
4 김명섭 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 테헤란오피스빌딩 ***호 시몬국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전시유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1994.12.15 수리 (Accepted) 1-1-1994-0154718-56
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1994.12.15 수리 (Accepted) 1-1-1994-0154719-02
3 출원심사청구서
Request for Examination		 1994.12.15 수리 (Accepted) 1-1-1994-0154720-48
4 출원인정보변경 (경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1997.04.09 수리 (Accepted) 1-1-1994-0154721-94
5 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1997.08.20 수리 (Accepted) 1-1-1994-0154722-39
6 등록사정서
Decision to grant		 1998.01.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1994-0086293-18
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1

열원과,

상기 열원으로 부터 발산된 빛을 접속하는 접속수단과,

상기 접속수단을 통해 접속된 빛을 폴딩거울(folding mirror)을 거쳐 시료로 조사되도록 하는 플라이즈 아이렌즈와,

상기 시료를 선택적으로 열처리하기 위한 선택수단을 포함하는 선택적 열처리 장치

2 2

제1항에 있어서,

상기 접속수단은 집속거울이나 집속 렌즈중 어느하나를 사용한 선택적 열처리 장치

3 3

제2항에 있어서,

상기 선택수단은

시료의 특정 영역을 선택하는 영역 선택부재와,

주입되는 불순물을 선택하는 불순물 선택부재와 증착 박막을 선택하는 박막 선택부재로 구성된 선택적열처리 장치

4 4

제3항에 있어서,

상기 영역 선택부재는

플라이즈 아이렌즈를 통과한 빛을 패턴이나 불순물 혹은 박막에 선택적으로 투사되도록 열처리할 시료의 소정부위와 동일한 패턴을 갖는 조명계를 통과시키도록 한 선택적 열처리 장치

5 5

제3항에 있어서,

상기 불순물 선택부재는

선택하고자 하는 불순물이 필요로하는 활성에너지에 맞는 열원만이 주사되도록 상기 집속 수단에 의해 집속된 빛이 소정의 필터를 통과하도록 한 선택적 열처리 장치

6 6

제3항에 있어서,

상기 증착 박막 선택부재는

선택하고자 하는 증착 박막의 고유의 색상에 반응하는 파장의 열원이 주사되도록 상기 접속 수단에 의해 집속된 빛이 소정의 필터를 통과하도록 한 선택적 열처리 장치

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.