요약 | 본 발명은 시료의 표면분석 장비에 관한 것으로 구체적으로는 건식 세정된 시료를 오염없이 표면 분석 장비내로 이송하기 위한 시료 이송장치에 관한 것이다. 종래의 세정 방법중 습식세정 방법은 화학약품의 사용으로 인해 위험도 및 금속오염의 증가를 유발한다는 문제점이 있었다. 이를 대체하기 위한 건식 세정 방법은 세정후 공기노출에 의한 웨이퍼의 오염을 방지하는 것이 관건이었다.본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로 건식세정후 웨이퍼의 공기노출에 의한 오염 가능성을 배제하는 (시료 장입수단과, 기밀유지수단, 진공수단을 구비한 시료이송장치를 형성하여) 세정분위기(cleaning gas atmosphere) 또는 불활성 가스 분위기(inert gas atmosphere) 하에서 YPS나 AES등의 고진공 분석장비로 시료를 이송할 수 있도록 하여 건식 세정 공정의 진성기구(intrinsic mechanism)연구가 가능할 수 있도록 한 것이다. |
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Int. CL | H01L 21/304 (2006.01) |
CPC | G01N 35/10(2013.01) G01N 35/10(2013.01) G01N 35/10(2013.01) |
출원번호/일자 | 1019940033481 (1994.12.09) |
출원인 | 한국전자통신연구원 |
등록번호/일자 | 10-0139726-0000 (1998.03.05) |
공개번호/일자 | 10-1996-0026309 (1996.07.22) 문서열기 |
공고번호/일자 | (19980715) 문서열기 |
국제출원번호/일자 | |
국제공개번호/일자 | |
우선권정보 | |
법적상태 | 소멸 |
심사진행상태 | 수리 |
심판사항 | |
구분 | |
원출원번호/일자 | |
관련 출원번호 | |
심사청구여부/일자 | Y (1994.12.09) |
심사청구항수 | 3 |