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투명기판 위에 광표백된 발광 고분자에 묻힌 패턴된 투명전극과, 상기 투명전극 상면에 형성되는 발광 고분자 A의 광표백된 영역(비발광 영역)과, 상기 투명전극의 일정부분에 형성되는 발광 고분자 A의 광표백 안된 영역(발광영역)과, 상기 발광 고분자 A의 광표백된 영역 상면에 형성되는 발광 고분자 B의 광표백된 영역과, 상기 발광 고분자 A의 광표백된 영역 상면의 일정 부분에 형성되는 발광 고분자 B의 광표백 안된 영역(발광영역)과, 상기 발광 고분자 A의 광표백 안된 영역(발광영역) 상면에 고분자 A, B 사이에 패턴된 제1금속전극과, 상기 발광 고분자 B의 광표백된 영역 상면에 형성되는 발광 고분자C의 광표백된 영역과, 상기 발광 고분자 B의 광표백된 영역의 일정 상면에 형성되는 발광 고분자 C의 광표백 안된 영역(발광영역)과, 상기 발광 고분자 B의 광표백 안된 영역의 상면에 고분자 B, C사이에 패턴된 제2금속전극과, 상기 발광 고분자 C의 광표백 안된 영역의 상면에 패턴된 제3금속전극으로 형성된 것을 특징으로 전기장 발광 고분자를 이용한 칼라 디스플레이 소자
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투명 전극을 투명 기판 위에 증착하여 박막을 형성시키는 제1공정과, 투명 전극을 소정의 공정을 통해 패턴을 형성시키는 제2공정과, 패턴된 투명 전극 위에 발광 고분자 A의 박막을 형성시킨 후 열처리하여 단단한 막을 형성하는 제3공정과, 상기 발광 고분자 A의 박막 위에 발광하고자 하는 영역에 제1금속 전극을 띠 형태로 패턴을 형성시키는 제4공정과, 상기 패턴된 제1금속 전극을 마스크로 하여 위에서 빛을 쪼여 줌으로써 금속 전극으로 덮이지 않은 부분을 광표백에 의해 금속으로 덮인 부분이 변하지 않게 하여 발광 고분자 A의 광표백 안된 영역(발광영역)을 형성하고, 그 외의 부분은 광표백되게 하여 발광 고분자 A의 광표백된 영역을 형성하는 제5공정과, 고분자 물질 B를 사용하여 상기 제5공정의 구조 위에 발광 고분자 B의 박막을 형성하고 이 위의 소정 부분에 일정 패턴의 제2 금속전극을 형성하며, 이 위에 상기 제2금속전극을 마스크로 하여 위에서 빛을 쪼여 줌으로써 금속 전극으로 덮이지 않은 부분을 광표백에 의해 금속으로 덮인 부분이 변하지 않게 하여 발광 고분자 B의 광표백 안된 영역(발광영역)을 형성하고 그 외의 부분은 광표백되게 하여 발광 고분자 B의 광표백된 영역을 형성하는 제6공정과, 고분자 물질 C를 사용하여 상기 제6공정의 구조 위에 발광 고분자 C의 박막을 형성하고, 이 위의 소정 부분에 일정 패턴의 제3금속전극을 형성하며, 상기 제3금속전극을 마스크로 하여 빛을 쪼여 줌으로써 금속 전극으로 덮이지 않은 부분을 광표백에 의해 금속으로 덮인 부분이 변하지 않게 하여 발광 고분자 C의 광표백 안된 영역(발광영역)을 형성하고 그 외의 부분은 광표백되게 하여 발광 고분자 C의 광표백된 영역을 형성하는 제7공정으로 형성하는 것을 특징으로 하는 전기장 발광 고분자를 이용한 칼라 디스플레이 소자 제조방법
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