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반도체 웨이퍼 세정장치

  • 기술번호 : KST2015075186
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 반도체 웨이퍼 세정장치에 관한 것이다.좀 더 구체적으로, 본 발명은 반도체 제조공정의 웨이퍼 세정시 세정약품의혼합비율을 정확히 제어할 수 있으며, 세정약품의 온도를 정확하게 제어하여 탁월한 세정 효과를 얻을 수 있는 반도체 웨이퍼 세정장치에 관한 것이다.본 발명의 반도체 웨이퍼 세정장치는 용액의 무게를 측정하여 약품의 불량을 선별하는 복수개의 세정약품 주입기(100,101,102)와, 탈이온수 주입기(105)와, 상기한 세정약품 주입기(100,101,102)및 탈이온수 주입기(105)로부터 공급된 세정약품 및 탈이온수를 혼합하여 웨이퍼 세정용기(120)에 공급하기 위한 세정약품 혼합기(110)와, 상기한 세정약품 혼합기(110)로부터 공급된 세정약품에 의해 웨이퍼를 세정하기 위한 웨이퍼 세정용기(120)와, 상기한 탈이온수 주입구(105)및 웨이퍼 세정용기(120)에 공급되는 탈이온수를 가열하기 위한 탈이온수 순간온수기(130)를 포함한다.
Int. CL H01L 21/304 (2006.01)
CPC H01L 21/67057(2013.01) H01L 21/67057(2013.01) H01L 21/67057(2013.01)
출원번호/일자 1019950053650 (1995.12.21)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자
공개번호/일자 10-1997-0052658 (1997.07.29) 문서열기
공고번호/일자
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 거절
심사진행상태 수리
심판사항
구분 신규
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1995.12.21)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 현영철 대한민국 대전광역시 대덕구
2 박종문 대한민국 대전광역시 유성구
3 박민 대한민국 대전광역시 유성구
4 구진근 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 김영길 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로 ***, 대흥빌딩 ***호 (역삼동)
2 원혜중 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 **, 서울빌딩 *층 (역삼동)
3 이화익 대한민국 서울시 강남구 테헤란로*길** (역삼동,청원빌딩) *층,***,***호(영인국제특허법률사무소)
4 김명섭 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 테헤란오피스빌딩 ***호 시몬국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
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번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1995.12.21 수리 (Accepted) 1-1-1995-0207332-03
2 출원심사청구서
Request for Examination		 1995.12.21 수리 (Accepted) 1-1-1995-0207333-48
3 특허출원서
Patent Application		 1995.12.21 수리 (Accepted) 1-1-1995-0207331-57
4 출원인정보변경 (경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 1997.05.07 수리 (Accepted) 1-1-1995-0207334-94
5 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1997.08.25 수리 (Accepted) 1-1-1995-0207335-39
6 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 1998.09.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1995-0109495-42
7 거절사정서
Decision to Refuse a Patent		 1998.12.21 발송처리완료 (Completion of Transmission) 1-5-1995-0478283-24
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

복수개의 세정약품 주입기(100,101,102)와, 탈이온수 주입기(105)와, 상기한 세정약품 주입기(100,101,102)및 탈이온수 주입기(105)로부터 공급된 세정약품 및 탈이온수를 혼합하여 웨이퍼 세정용기(120)에 공급하기 위한 세정약품 혼합기(110)와, 상기한 세정약품 혼합기(110)로부터 공급된 세정약품에 의해 웨이퍼를 세정하기 위한 웨이퍼 세정용기(120)와, 상기한 탈이온수 주입구(105)및 웨이퍼 세정용기(120)에 공급되는 탈이온수를 가열하기 위한 탈이온수 순간온수기(130)를 포함하는 반도체 웨이퍼 세정장치

2 2

제1항에 있어서, 상기한 세정약품 주입기(100,101,102)및 탈이온수 주입기(105)는 주입기 상단부(1)및 부피 환산용 눈금자(3)가 형성된 주입기 몸체(2)에 질소/배기 연결부(4), 주입용 배관(5), 무게 측정센서(MSI)및 약품 누출방지센서(O/S2)가 부설된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정장치

3 3

제1항에 있어서, 세정약품 혼합기(110)는 저장탱크(6)양측에 세정약품을 일정온도로 가열하기 위한 히터(HT1)가 부설되며, 수위 감지센서(L/S1, L/S2), 저항값 측정센서(R/S1), 전도도 측정센서(C/S1)및 온도감지센서(T/C1)가 부설되며, 저장탱크(6)에 저장된 용액을 계속적으로 순환하도록 순환펌프(P1)가 부설되며, 혼합기가 밀폐된 상태에서 용기 내부의 압력이 일정수준 이상으로 상승하게 되면 자동적으로 개방되는 압력차단용 안전밸브(CV1)가 부설된 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정장치

4 4

제1항에 있어서, 세정약품 주입기(100,101,102)및 탈이온수 주입기(105)에서 사용되는 용액의 용량을 무게측정 sensor를 사용하여 용액의 혼합물을 조성하는 것을 특징으로 하는 반도체 웨이퍼 세정장치

5
지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.