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제1 도전형의 반도체 기판, 상기 반도체 기판 상에 차례로 적층된 제1 도전형의 제1 도파로층; 상기 제1 도파로층 상에 형성되며 도파로 방향으로 TE 편광영역 및 TM 편광영역을 구비하는 제1 도전형의 제1 클래딩층; 상기 제1 클래딩층 상에 차례로 적층된 제2 도전형의 제 2 도파로층, 제2 도전형의 제2 클래딩층; 상기 제1 클래딩층 내부의 상기 TE 편광 영역에 위치하며, TE 편광에 대응하는 주기로 배열된 제1 격자층; 상기 제1 클래딩층 내부의 상기 TM 편광 영역에 위치하며, TM 편광에 대응하는 주기로 배열된 제2 격자층; 및 상기 TE 편광영역 및 TM 편광영역에 각각 연결된 제1 및 제2 전극 을 포함하는 격자도움 수직결합형 반도체 광필터
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제1 도전형의 반도체 기판, 상기 반도체 기판 상에 차례로 적층된 제1 도전형의 제1 도파로층; 상기 제1 도파로층 상에 형성되며 도파로 방향으로 TE 편광영역 및 TM 편광영역을 구비하는 제1 도전형의 제1 클래딩층; 상기 제1 클래딩층 상에 차례로 적층된 제2 도전형의 제 2 도파로층, 제2 도전형의 제2 클래딩층; 상기 제1 클래딩층 내부의 상기 TE 편광 영역에 위치하며, TE 편광된 광의 굴절율이 상기 제1 도파로층 및 제2 도파로층에서 neff,TE,WG1 및 neff,TE,WG2 일 때
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제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 반도체 기판은 n형 InP 기판이고, 상기 제1 도파로층, 상기 제1 격자층 및 상기 제2 격자층 각각은 n형 InGaAsP층이고, 상기 제1 클래딩층은 n형 InP층이고, 상기 제2 도파로층은 p형 InGaAsP층이고, 상기 제2 클래딩층은 p형 InP층인 것을 특징으로 하는 격자도움 수직결합형 반도체 광필터
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