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마이크로파소자용자성체세라믹조성물,이를이용한마이크로파소자용자성체세라믹및그의제조방법

  • 기술번호 : KST2015076335
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 민생용 및 산업용 전자기기에 사용되는 마이크로파 대역 부품용 소재에 관한 것으로, 낮은 소결온도를 지니고 있으며 포화자화의 제어가 용이하고 낮은 강자성공명선폭과 양호한 큐리온도를 지닌 마이크로파 소자용 자성체 세라믹 조성물, 이를 이용한 마이크로파 소자용 자성체 세라믹 및 그의 제조방법에 관한 것이다. 본 발명의 마이크로파 소자용 자성체 세라믹 조성물은, 산화이트륨, 산화철을 주성분으로 하고, 산화붕소, 산화비스무스, 산화아연, 산화구리, 산화아연과 산화붕소의 화합물, 산화구리와 산화붕소의 화합물을 부성분으로 하며, 하기 화학식 1로 표시되고, 본 발명에 따른 마이크로파 소자용 자성체 세라믹은, 하기 화학식 1에 따라, 산화이트륨, 산화철을 혼합하여 하소하고, 산화붕소, 산화비스무스, 산화아연, 산화구리, 산화아연과 산화붕소의 화합물, 산화구리와 산화붕소의 화합물을 재혼합한 후, 성형 및 소결하여 제조된 것으로, 상온에서 800∼1,800 G의 포화자화와 사용온도 20∼120℃에서 0.3 %/℃ 이하의 포화자화 온도계수 및 60 Oe 이하의 강자성공명선폭을 가지면서 소결조제를 첨가하여 1250℃이하로 소결온도를 낮추는 것을 특징으로 한다.(화학식 1)Y〈SB〉3-x〈/SB〉Fe〈SB〉5+x〈/SB〉O〈SB〉12〈/SB〉이때, -0.2≤x≤0.2, 0<B〈SB〉2〈/SB〉O〈SB〉3〈/SB〉≤5(wt%), 0<Bi〈SB〉2〈/SB〉O〈SB〉3〈/SB〉≤5(wt%), 0<ZnO≤5(wt%), 0<CuO≤5(wt%), 0<ZnB〈SB〉2〈/SB〉O〈SB〉4〈/SB〉≤5(wt%), 0<CuB〈SB〉2〈/SB〉O〈SB〉4〈/SB〉≤5(wt%)이다.
Int. CL H01F 1/01 (2006.01)
CPC H01F 1/0313(2013.01) H01F 1/0313(2013.01) H01F 1/0313(2013.01) H01F 1/0313(2013.01) H01F 1/0313(2013.01)
출원번호/일자 1019970055641 (1997.10.28)
출원인 한국전자통신연구원, 주식회사 케이티
등록번호/일자 10-0268647-0000 (2000.07.14)
공개번호/일자 10-1999-0034143 (1999.05.15) 문서열기
공고번호/일자 (20001016) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1997.10.28)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
2 주식회사 케이티 대한민국 경기도 성남시 분당구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박정래 대한민국 대전광역시 유성구
2 김태홍 대한민국 대전광역시 유성구
3 최태구 대한민국 대전광역시 유성구
4 한진우 대한민국 대전광역시 유성구
5 이상석 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이화익 대한민국 서울시 강남구 테헤란로*길** (역삼동,청원빌딩) *층,***,***호(영인국제특허법률사무소)
2 김명섭 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 테헤란오피스빌딩 ***호 시몬국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 케이티 대한민국 경기도 성남시 분당구
2 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1997.10.28 수리 (Accepted) 1-1-1997-0176222-31
2 출원심사청구서
Request for Examination
1997.10.28 수리 (Accepted) 1-1-1997-0176223-87
3 특허출원서
Patent Application
1997.10.28 수리 (Accepted) 1-1-1997-0176221-96
4 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
1999.01.20 수리 (Accepted) 4-1-1999-0010652-29
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2000.01.03 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2000-0000001-85
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2000.01.14 수리 (Accepted) 4-1-2000-0005008-66
7 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.
2000.03.02 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2000-5063727-15
8 의견서
Written Opinion
2000.03.02 수리 (Accepted) 1-1-2000-5063726-69
9 등록사정서
Decision to grant
2000.04.14 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2000-0079315-34
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.04.09 수리 (Accepted) 4-1-2002-0032774-13
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.03.13 수리 (Accepted) 4-1-2009-5047686-24
14 출원인정보변경(경정)신고서
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2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
15 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2010.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2010-5068437-23
16 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2012.01.10 수리 (Accepted) 4-1-2012-5005621-98
17 출원인정보변경(경정)신고서
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2012.03.21 수리 (Accepted) 4-1-2012-5058926-38
18 출원인정보변경(경정)신고서
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2012.06.08 수리 (Accepted) 4-1-2012-5122434-12
19 출원인정보변경(경정)신고서
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2013.07.31 수리 (Accepted) 4-1-2013-5106568-91
20 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2014.02.11 수리 (Accepted) 4-1-2014-5018159-78
21 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

하기 화학식 1로 표시되는 산화이트륨과 산화철의 화합물을 주성분으로 하고, 산화아연, 산화아연과 산화붕소의 화합물 및 산화구리의 산화붕소의 화합물중 어느 하나를 부성분으로 한 것을 특징으로 하는 마이크로파 소자용 자성체 세라믹 조성물

2 2

하기 화학식 1에 따라, 산화이트륨과 산화철을 혼합하여 하소한 후, 산화아연, 산화아연과 산화붕소의 화합물 및 산화구리와 산화붕소의 화합물중 어느 하나를 부성분으로 첨가하여 성형 및 소결하여 제조된, 마이크로파 소자용 자성체 세라믹

3 3

제2항에 있어서, 상기한 자성체 세라믹은, 상온에서 800∼1,800G의 포화자화와 0

4 4

하기 화학식 1에 따라, 산화이트륨과 산화철을 혼합하는 단계와; 상기한 혼합물을 건조시킨 후 1,100∼1,200℃에서 1∼3시간 동안 하소를 수행하는 단계와; 상기 단계에서 하소를 거친 분말에 산화아연, 산화아연과 산화붕소의 화합물 및 산화구리와 산화붕소의 화합물중 어느 하나를 부성분으로 첨가하고 결합제를 가하여 혼합하여 소정 형상으로 성형하는 단계와; 및 상기 단계에서 얻어진 성형품을 공기분위기 하에서 1,200∼1,400℃에서 소성하는 단계를 포함한 것을 특징으로 하는 마이크로파 소자용 자성체 세라믹의 제조방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.