1 |
1
광통신을 위한 광학 시스템에서 광 신호의 전송 매질로 사용되는 광섬유 장치의 제조방법에 있어서, 광섬유에 전사할 원판 격자 패턴을 실리콘 원판 기판에 형성시키는 제 1 과정과; 광섬유와 상기 제 1 과정에서 형성된 원판 기판을 가열, 가압하여 원판 기판 표면으로부터 광섬유 단면으로 격자를 전사시키는 제 2 과정을 포함하는 것을 특징으로 하는 끝 단면에 격자가 형성된 광섬유 장치의 제조방법
|
2 |
2
제 1 항에 있어서, 상기 제 1 과정은, 원판 기판(10)의 상부에 기판 식각 보호막(11), 감광막(12) 및 원판 격자 패턴(13)이 새겨진 마스크(14)의 순서로 형성하고, 노광빔(15)을 조사하여 원판 격자 패턴(13)을 감광막(12)에 전사시키고 감광막(12)을 현상하는 제 1 단계와; 상기 제 1 단계에서 원판 격자 패턴(13)이 현상된 감광막(15)을 식각 마스크로 사용하여 기판 식각 보호막(11)을 에칭하고, 감광막(16)을 제거하는 제 2 단계와; 상기 제 2 단계에서 에칭된 기판 식각 보호막(17)을 식각 마스크로 사용하여 원판 기판(10)을 에칭하고, 기판 식각 보호막(17)을 제거하여 원판 격자 패턴(13)이 형성된 원판 기판(18)을 제조하는 제 3 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 끝 단면에 격자가 형성된 광섬유 장치의 제조방법
|
3 |
3
제 1 항에 있어서, 상기 제 2 과정은, 가열 장치(20)를 이용하여 원판 기판(18)을 광섬유의 연화에 필요한 적절한 온도로 유지시키고, 광섬유(21)를 원판 기판(18)과 정렬하는 제 4 단계와; 광섬유(21)의 단면(22)을 적절한 속도와 압력으로 원판 기판(18)에 충돌시키고 일정 시간 유지시켜 상기 원판 기판(18)상의 원판 격자 패턴을 광섬유(21)에 양각시켜 격자가 형성된 끝 단면(23)을 갖는 광섬유(24)를 제조하는 제 5 단계와; 광섬유(21)를 원판 기판(18)에서 분리하는 제 6 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 끝 단면에 격자가 형성된 광섬유 장치의 제조방법
|
4 |
4
광통신을 위한 광학 시스템에서 광 신호의 전송 매질로 사용되는 광섬유 장치에 있어서, 광섬유(30)의 단면(31)에 빛을 집속, 조준하는 렌즈의 기능을 하는 원형의 격자(32)가 형성된 것을 특징으로 하는 끝 단면에 격자가 형성된 광섬유 장치
|
5 |
5
광통신을 위한 광학 시스템에서 광 신호의 전송 매질로 사용되는 광섬유 장치에 있어서, 광섬유(40, 50)의 단면(41, 51)에 광섬유 단면의 굴절을 변화시키고, 빛의 입사 및 투과시 빛의 진행 경로를 변경하고, 광섬유 표면의 반사율 및 투과율을 변화시켜 입사광의 반사 방지 및 광필터 작용을 하는 1차원 격자(42) 또는 2차원 격자(60)가 형성된 것을 특징으로 하는 끝 단면에 격자가 형성된 광섬유 장치
|
6 |
6
제 5 항에 있어서, 상기 2차원 격자(40)는, 광섬유의 클래드층(41), 코아층(42) 및 공기(43)의 주기적인 배열로 형성되며, 개별 격자간의 간격(44), 격자의 높이(45) 및 개별 격자의 형태에 따라 전체 특성이 결정되는 것을 특징으로 하는 끝 단면에 격자가 형성된 광섬유 장치
|
7 |
7
제 4 항 또는 제 5 항에 있어서, 상기 광섬유 장치는, 광섬유의 끝단면에 굴절율이 유리와 다른 박막이 코팅된 것을 특징으로 하는 끝 단면에 격자가 형성된 광섬유 장치
|