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평면 진동형 마이크로 자이로스코프

  • 기술번호 : KST2015076463
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 진동형 마이크로 자이로스코프에 관한 것으로, 종래의 회전형 자이로스코프는 부피가 크고 고정밀도를 유지하기 위한 가격이 높으며, 충격과 진동에 쉽게 손상되는 등의 많은 단점을 갖고 있다. 이에 본 발명은 정전력(electrostatic force)을 이용해 구조체를 공진시키며, 이때 공진 구조체를 지지하는 스프링을 상하 좌우 대칭으로 배열하여 구동 방향에 수직인 검출 방향으로도 항상 공진이 발생할 수 있도록 설계하므로써 기존의 진동형 자이로스코프에 비해 공진 모드 주파수의 조율이 필요없이 감도가 우수한 것을 특징으로 한다.
Int. CL G01C 19/00 (2006.01)
CPC B81B 3/0018(2013.01) B81B 3/0018(2013.01) B81B 3/0018(2013.01) B81B 3/0018(2013.01) B81B 3/0018(2013.01)
출원번호/일자 1019970062770 (1997.11.25)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0231715-0000 (1999.08.31)
공개번호/일자 10-1999-0042067 (1999.06.15) 문서열기
공고번호/일자 (19991115) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1997.11.25)
심사청구항수 5

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이종현 대한민국 대전광역시 유성구
2 이창승 대한민국 대전광역시 유성구
3 최창억 대한민국 대전광역시 유성구
4 홍윤식 대한민국 서울특별시 성동구
5 장원익 대한민국 대전광역시 유성구
6 김수현 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이화익 대한민국 서울시 강남구 테헤란로*길** (역삼동,청원빌딩) *층,***,***호(영인국제특허법률사무소)
2 김명섭 대한민국 서울특별시 강남구 테헤란로**길 *, 테헤란오피스빌딩 ***호 시몬국제특허법률사무소 (역삼동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1997.11.25 수리 (Accepted) 1-1-1997-0197656-79
2 특허출원서
Patent Application
1997.11.25 수리 (Accepted) 1-1-1997-0197655-23
3 출원심사청구서
Request for Examination
1997.11.25 수리 (Accepted) 1-1-1997-0197657-14
4 등록사정서
Decision to grant
1999.06.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-1999-0203873-83
5 FD제출서
FD Submission
1999.09.01 수리 (Accepted) 2-1-1999-5147808-04
6 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1

전체 구조물의 중앙에 형성된 구조체 앵커와;

상기 구조체 앵커의 외부에 구비되어 상하 방향과 좌우 방향의 2축에 대해 모두 대칭인 모양을 갖는 꺾인 보 스프링과;

상기 꺾인 보 스프링으로 구조체 앵커에 연결되어 기판으로 부터 떠있는 평면 진동 구조체와;

상기 평면 진동 구조체가 상기 구조체 앵커에 대하여 좌우 방향으로 진동함과 동시에 회전 각속도가 가해질 경우 상하 방향으로 진동하도록 상기 평면 진동 구조체의 좌우 양측에 구비되어 진동 구조체에 좌우 방향 정전력을 제공하는 빗살 구동 전극과;

상기 빗살 구동 전극에 구동 신호를 가하여 진동을 발생시키도록 금속 전극이 구비된 구동 전극 앵커와;

상기 평면 진동 구조체가 외부 각속도에 의한 코리올리 힘을 받을 때 생기는 진동을 정전 용량 법으로 검출하도록 상기 평면 진동 구조체의 상하 양단에 구비된 검출 전극과;

상기 검출 전극으로 부터의 정전 용량 변화를 검출 신호로 받기위해 금속 전극이 구비된 검출 전극 앵커로 구성된 것을 특징으로 하는 평면 진동형 마이크로 자이로스코프

2 2

제 1 항에 있어서,

상기 꺽인 보 스프링은,

상하 및 좌우 방향의 진동 모드을 동일하게 하고, 주파수 조율이 필요 없이 고감도로 센싱하도록 상기 구조체의 상하 및 좌우의 두 축에 대해 대칭으로 배치하여 구성된 것을 특징으로 하는 평면 진동형 마이크로 자이로스코프

3 3

제 1 항에 있어서,

상기 기판은,

상기 평면 진동 구조체의 하부로 어떤 전극이나 배선의 박막 형성도 필요 없도록 SOI 웨이퍼의 기판 미세 가공을 이용해 제작된 것을 특징으로하는 평면 진동형 마이크로 자이로스코프

4 4

제 1 항 내지 제 3 항중의 어느 한 항에 있어서,

상기 검출전극은,

서로 좁은 검출 간격과 넓은 검출 간격의 배열을 이루며 배치되어, 좌우 방향의 구동 진동에 대해서는 둔감하고 상하 방향의 검출 진동의 방향에 대해서는 민감한 정전용량의 변화를 상하부 검출 전극이 검출하도록 상기 검출 전극 앵커에 붙어 있는 고정 검출 전극과 상기 평면 진동 구조체에 붙어 있는 이동 검출 전극으로 구성된 것을 특징으로 하는 평면 진동형 마이크로 자이로스코프

5 5

제 1 항에 있어서,

검출 방향의 진동이 존재할 경우 상기 빗살 구동 전극에서 발생할 수 있는 불안정성을 예방하도록 상기 빗살 구동 전극 대신 상기 검출 전극과 형태가 비슷하며 구동 신호에 따른 진동의 행정을 키울 수 있게 하는 구동 전극이 더 포함하여 구성된 것을 특징으로 하는 평면 진동형 마이크로 자이로스코프

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.