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노광 장비용 프로그래머블 마스크

  • 기술번호 : KST2015076565
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 노광 장비용 프로그래머블 마스크에 관한 것으로, 특히 전기적 신호에 의하여 광 개폐가 이루어지는 미세 소자가 마스크 상에 하나의 화소를 이루는 형태로 집적된 패턴 노광용 마스크에 관한 것이다. 반도체 집적회로의 미세회로 인쇄는 자외선 등을 노광 광원으로 이용하여 회로 패턴이 새겨진 인쇄회로 원판, 즉 마스크의 패턴을 축소시켜 투사하는 방식의 노광 인쇄장비를 주로 사용하고 있다. 그러나 이러한 방법에서는 십 여장 이상의 마스크가 필요하게 되며, 소자의 제작 종류가 많을 경우 이에 따른 노광용 마스크의 제작 기간 및 비용 소요가 큰 부담이 되고 있다. 본 발명에서는 미소 광 개폐 소자가 집적된 프로그래머블 마스크 상에서 직접 설계된 회로의 패턴을 구현시키고 이 패턴을 웨이퍼 등의 기판에 투사시켜 인쇄하는 방법을 제시한다.마스크, 노광, 패턴, 광원
Int. CL H01L 21/027 (2006.01)
CPC G03F 7/70291(2013.01)
출원번호/일자 1019970065335 (1997.12.02)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0280832-0000 (2000.11.13)
공개번호/일자 10-1999-0047099 (1999.07.05) 문서열기
공고번호/일자 (20010402) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항 심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1997.12.02)
심사청구항수 3

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 최창억 대한민국 대전광역시 유성구
2 이종현 대한민국 대전광역시 유성구
3 장원익 대한민국 대전광역시 유성구
4 백종태 대한민국 대전광역시 유성구
5 김보우 대한민국 대전광역시 유성구
6 이용일 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신영무 대한민국 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스)
2 최승민 대한민국 서울특별시 중구 통일로 **, 에이스타워 *층 (순화동)(법무법인 세종)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1997.12.02 수리 (Accepted) 1-1-1997-0205166-42
2 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent		 1997.12.02 수리 (Accepted) 1-1-1997-0205167-98
3 출원심사청구서
Request for Examination		 1997.12.02 수리 (Accepted) 1-1-1997-0205168-33
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 1999.12.09 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-1999-0373957-17
5 의견서
Written Opinion		 2000.02.02 수리 (Accepted) 1-1-2000-5035659-07
6 거절사정서
Decision to Refuse a Patent		 2000.06.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2000-0144949-74
7 명세서등보정서
Amendment to Description, etc.		 2000.08.21 보정승인 (Acceptance of amendment) 7-1-2000-0016263-97
8 등록사정서
Decision to grant		 2000.10.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2000-0259324-12
9 FD제출서
FD Submission		 2000.11.14 수리 (Accepted) 2-1-2000-5182294-28
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
12 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)		 2008.11.06 수리 (Accepted) 1-1-2008-5055008-50
13 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
14 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1

노광용 마스크 기판상에 전기적 패턴 정보에 의하여 구동되는 광 개폐 기능을 가지는 단위 미세소자가 어레이 형태로 구성되되, 상기 단위 미세 소자는 상부 투명전극 및 비투과성 하부 전극 액추에이터로 이루어지며, 상기 부타과성 하부 전극 액추에이터가 전기적 신호에 의한 구동으로 광 개폐가 이루어지는 것을 특징으로 하는 노광 장비용 프로그래머블 마스크

2 2

제 1 항에 있어서,

상기 단위 미세 소자는 상부 전극 및 하부 구동 반사판으로 이루어 지되, 상기 하부구동 반사판은 정전기력으로 구동되어 입사광에 대한 반사광의 광 개폐가 이루어지는 것을 특징으로 하는 노광 장비용 프로그래머블 마스크

3 3

제 1 항에 있어서, 상기 단위 미세 소자는 상부 전극 및 하부 구동 반사판으로 이루어 지되, 상기 하부구동 반사판은 바이메탈 또는 형상 기억 합금으로 제조되어, 열전 효과에 의한 수축 및 팽창을 이용한 상기 하부 구동 반사판의 구동으로 입사광에 대한 반사광의 광 개폐가 이루어지는 것을 특징으로 하는 노광 장비용 프로그래머블 마스크

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US06084656 US 미국 FAMILY

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순번 패밀리번호 국가코드 국가명 종류
1 US6084656 US 미국 DOCDBFAMILY
국가 R&D 정보가 없습니다.