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에미터 상층 구조 이종접합 쌍극자 트랜지스터의 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015076571
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 기생 베이스-컬렉터 접합 커패시턴스를 감소 시키기 위해, 외인성 컬렉터 영역에 도핑 시키지 않은 화합물반도체 에피층을 사용한 에미터 상층 구조 이종접합 쌍극자 트랜지스터의 제조 방법에 관한 것이다.본 발명은 반절연 화합물 반도체 기판 상에 에미터 상층 구조 이종접합 쌍극자 트랜지스터의 화합물반도체 부컬렉터층과 도핑 시키지 않은 화합물반도체 에피층을 성장시키고 두 외인성 컬렉터 영역 이외의 화합물반도체 에피층을 식각한다. 절연막을 웨이퍼 전면에 증착하고 두 외인성 컬렉터 영역과 진성 컬렉터 영역 상의 절연막을 식각한다. 화합물반도체 컬렉터층을 성장시키고 감광막을 마스크로 하여 두 외인성 컬렉터 영역에 성장시킨 컬렉터 에피층이 진성 컬렉터 영역에 성장 시킨 컬렉터 에피층과 높이가 같게 되도록 식각한다. 감광막을 제거하고 화합물반도체 베이스층, 에미터층, 에미터캡층을 순차적으로 성장시킨다. 절연막을 식각 하고 에미터 캡층과 에미터층을 식각한다. 에미터 상층 구조 이종접합 쌍극자 트랜지스터의 에미터 전극, 베이스 전극, 컬렉터 전극을 리프트 오프 공정에 의해 각각 형성시키면 외인성 컬렉터 영역에 도핑시키지 않은 화합물반도체 에피층을 사용한 에미터 상층 구조 이종접합 쌍극자 트랜지스터를 제작할 수 있다.
Int. CL H01L 29/737 (2006.01)
CPC H01L 29/7371(2013.01) H01L 29/7371(2013.01)
출원번호/일자 1019970064806 (1997.11.29)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0296706-0000 (2001.05.14)
공개번호/일자 10-1999-0043764 (1999.06.15) 문서열기
공고번호/일자 (20010807) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1997.11.29)
심사청구항수 8

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박문평 대한민국 대전광역시 유성구
2 김일호 대한민국 대전광역시 유성구
3 염병렬 대한민국 대전광역시 유성구
4 이태우 대한민국 대전광역시 중구
5 박성호 대한민국 대전광역시 유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신영무 대한민국 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스)
2 최승민 대한민국 서울특별시 중구 통일로 **, 에이스타워 *층 (순화동)(법무법인 세종)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 대리인선임신고서
Notification of assignment of agent
1997.11.29 수리 (Accepted) 1-1-1997-0203605-48
2 출원심사청구서
Request for Examination
1997.11.29 수리 (Accepted) 1-1-1997-0203606-94
3 특허출원서
Patent Application
1997.11.29 수리 (Accepted) 1-1-1997-0203604-03
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2000.06.29 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2000-0154812-18
5 의견서
Written Opinion
2000.08.29 수리 (Accepted) 1-1-2000-5264475-18
6 등록사정서
Decision to grant
2001.03.15 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2001-0059946-00
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
9 [대리인사임]대리인(대표자)에 관한 신고서
[Resignation of Agent] Report on Agent (Representative)
2008.11.06 수리 (Accepted) 1-1-2008-5055008-50
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

화합물반도체 기판 상에 에미터 상층 구조 이종접합 쌍극자 트랜지스터의 화합물반도체 부컬렉터층 및 도핑시키지 않은 화합물반도체 에피층을 순차적으로 성장시키는 단계와,

감광막을 마스크로 이용하여 도핑시키지 않은 화합물반도체 에피층 식각을 통해 에미터 상층 구조 이종접합 쌍극자 트랜지스터의 두 외인성 컬렉터 영역을 형성하는 단계와,

상기 웨이퍼 전면에 절연막을 증착하고 에미터 상층 구조 이종접합 쌍극자 트랜지스터의 두 외인성 컬렉터 영역 및 진성 컬렉터 영역 상의 절연막을 식각하는 단계와,

에미터 상층 구조 이종접합 쌍극자 트랜지스터의 컬렉터층을 성장시키는 단계와,

감광막을 마스크로 이용하여 에미터 상층 구조 이종접합 쌍극자 트랜지스터의 두 외인성 컬렉터 영역 상에 성장된 컬렉터 에피층이 진성 컬렉터 영역 상에 성장된 컬렉터 에피층과 높이가 같게되도록 식각 하는 단계와,

상기 전체 구조상에 에미터 상층 구조 이종접합 쌍극자 트랜지스터의 화합물반도체 베이스층, 화합물반도체 에미터층, 화합물반도체 에미터캡층을 순차적으로 성장시키는 단계와,

상기 잔류된 절연막을 식각하고, 감광막을 마스크로 이용하여 에미터 상층 구조 이종접합 쌍극자 트랜지스터의 에미터 캡층 및 에미터층의 선택된 부분을 식각하는 단계와,

상기 에미터 상층 구조 이종접합 쌍극자 트랜지스터의 부컬렉터층, 베이스층 및 에미터 캡층 상의 선택된 부분에 에미터 상층 구조 이종접합 쌍극자 트랜지스터의 에미터 전극, 베이스 전극 및 컬렉터 전극을 리프트 오프에 의해 각각 형성 시키는 단계를 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 에미터 상층 구조 이종접합 쌍극자 트랜지스터의 제조 방법

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