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1
기판 상부에 순차적으로 형성된 도전형 콜렉터층 및 콜렉터 장벽층과, 상기 콜렉터 장벽층 상부에 순차적으로 형성된 제 1 도전형 베이스층, 공진 터널링 양자 우물 구조 및 제 2 도전형 베이스층과, 상기 제 2 도전형 베이스층 상부에 제 1 비도전형 스페이서층, 블록킹 장벽층, 양자점 어레이 조합 구조 및 제 2 비도전형 스페이서층이 순차적으로 적층되어 형성된 에미터 전자 투사 전위 장벽층과, 상기 에미터 전자 투사 전위 장벽층 상부에 형성된 도전형 에미터층을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 핫-일렉트론 포토트랜지스터
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2 |
2
제 1 항에 있어서, 상기 공진 터널링 양자 우물 구조는 양자 장벽층, 양자 우물층 및 양자 장벽층이 순차적으로 적층되어 형성된 것을 특징으로 하는 핫-일렉트론 포토트랜지스터
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3 |
3
제 1 항에 있어서, 상기 양자점 어레이 조합 구조는 절연층 사이에 여러 가지 크기의 양자점, 양자 장벽 및 상기 양자점이 조합되어 형성된 것을 특징으로 하는 핫-일렉트론 포토트랜지스터
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4 |
4
제 1 항에 있어서, 상기 공진 터널링 양자 우물 구조 대신에 2개 이상의 양자 우물 구조를 사용하는 것을 특징으로 하는 핫-일렉트론 포토트랜지스터
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5 |
5
제 1 항에 있어서, 상기 공진 터널링 양자 우물 구조 대신에 양자점 또는 양자선 어레이 조합 구조를 사용하는 것을 특징으로 하는 핫-일렉트론 포토트랜지스터
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6 |
6
기판 상부에 순차적으로 형성된 도전형 콜렉터층 및 콜렉터 장벽층과, 상기 콜렉터 장벽층 상부에 순차적으로 형성된 제 1 도전형 베이스층, 공진 터널링 양자 우물 구조 및 제 2 도전형 베이스층과, 상기 제 2 도전형 베이스층 상부에 제 1 비도전형 스페이서층, 블록킹 장벽층, 양자선 어레이 조합 구조 및 제 2 비도전형 스페이서층이 순차적으로 적층되어 형성된 에미터 전자 투사 전위 장벽층과, 상기 에미터 전자 투사 전위 장벽층 상부에 형성된 도전형 에미터층을 포함하여 이루어진 것을 특징으로 하는 핫-일렉트론 포토트랜지스터
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7 |
7
제 6 항에 있어서, 상기 공진 터널링 양자 우물 구조는 양자 장벽층, 양자 우물층 및 양자 장벽층이 순차적으로 적층되어 형성된 것을 특징으로 하는 핫-일렉트론 포토트랜지스터
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8 |
8
제 6 항에 있어서, 상기 양자선 어레이 조합 구조는 절연층 사이에 여러 가지 선폭의 양자선, 양자 장벽 및 상기 양자선이 조합되어 형성된 것을 특징으로 하는 핫-일렉트론 포토트랜지스터
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9 |
9
제 6 항에 있어서, 상기 공진 터널링 양자 우물 구조 대신에 2개 이상의 양자 우물 구조를 사용하는 것을 특징으로 하는 핫-일렉트론 포토트랜지스터
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10 |
10
제 6 항에 있어서, 상기 공진 터널링 양자 우물 구조 대신에 양자점 또는 양자선 어레이 조합 구조를 사용하는 것을 특징으로 하는 핫-일렉트론 포토트랜지스터
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