| 요약 |
본 발명은 지지대가 있는 미세한 티-형 게이트 제작방법에 관한 것으로서, 채널층이 형성된 기판에 1차 금속막과 오믹층을 증착하여 패터닝하고, 게이트 다리를 형성하는 PMMA 레지스트와 게이트 머리를 형성하기 위한 MMA-MMA 레지스트를 도포하고, 상기 MMA-MMA 레지스트와 PMMA 레지스트를 각각 식각하여 T-형 게이트의 머리 모양 및 T-형 게이트의 다리 모양을 형성하여 T-형 게이트 패턴을 형성한 후 노출된 기판의 일부를 1차 리세스하며, 상기 레지스트막의 측벽과 평탄면 위에 플라즈마 화학증착 방법을 이용하여 절연막을 같은 두께로 증착한 후 상기 게이트 다리와 머리부위의 접촉 부분을 지지하는 지지부분 형성을 위해 건식 식각을 이용하여 측벽의 패턴은 식각되지 않고, 측벽의 상단 부분은 경사지게 하며, 수평면은 제거되도록 상기 절연막을 식각하고, 노출된 부분의 기판을 2차 리세스 하며, 상기 식각한 절연막 위에 게이트 금속을 증착한 후 상기 레지스트막을 아세톤 또는 용매에 담가 제거하여 T-형상을 가진 게이트 금속을 형성함으로써, 미세한 게이트 선폭을 갖는 T-형 금속 패턴을 형성할 수 있고, 메탈의 들뜸 현상을 배제할 수 있으며, 게이트 다리와 머리 부위의 만나는 부위를 둥글게 함에 따라 게이트 선폭 대 높이의 비를 개선시켜 미세한 게이트 금속증착이 가능하고, 절연막의 두께에 의해 T-형 게이트의 선폭을 조절할 수 있는 효과를 갖는다.
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