1 |
1
접촉 및 근접 노광방식으로 FED 팁용 미세구멍을 패터닝 하기 위한 마스크에 있어서, 마스크 필드 위에 크롬이 없이 유리, Qz(Quartz), 용융석영, SOG, PMMA, Mo계열 물질 중 적어도 하나를 이용하는 90도 위상 조정 물질을 서로 직교하도록 형성하여 90도 위상 조정 물질 단일층 부분, 교차되는 2층 부분, 상기 이용된 위상 조정 물질이 없는 층 부분이 배열되어 마스크 필드내에서 90도, 180도, 0도의 위상조정이 되도록 FED 팁 패턴을 형성하고, 마스크 위의 정렬마크 부위는 180도 위상 조정 물질로 이루어 진 것을 특징으로 하는 FED 팁 제작용 마스크 구조
|
2 |
3
접촉 및 근접 노광방식으로 기판에 무정전 레지스트를 도포하고, 1차 위상조정 패턴과 정렬마크 부위를 노광, 현상하고, 90도로 위상이 조정되도록 Qz을 에칭 후, 레지스트를 제거하는 단계와; 다시 무정전 레지스트를 도포하고, 상기 1차 위상조정 패턴과는 서로 교차되는 2차 위상조정 패턴을 노광, 현상하고, 90도로 위상이 조정되도록 Qz을 에칭하고 레지스터를 제거하는 단계를 수행하여 마스크 필드내에 90도, 180도, 0도의 위상조정이 가능한 마스크를 제작하는 것을 특징으로 하는 FED 팁 제작용 마스크 제조방법
|
3 |
4
스텝퍼 노광방식으로 FED 팁용 미세구멍을 패터닝 하기 위한 마스크에 있어서, 마스크 필드 위에 크롬이 없고 오직 유리, Qz(Quartz), 용융석영, SOG, PMMA, Mo계열의 물질 중 적어도 하나의 물질을 이용하는 90도 위상 조정 물질을 서로 직교하도록 배치하여 그 교차점의 위상이 180도가 되게 하여 교차점의 4 에지 부위를 FED 팁의 패턴으로 형성하고, 마스크 필드내에 90도, 180도, 0도의 위상조정이 되도록 하며, 마스크 위의 정렬마크 부위는 크롬과 같은 반사도가 90% 이상인 물질로 이루어 진 것을 특징으로 하는 FED 팁 제작용 마스크 구조
|
4 |
6
스텝퍼 노광방식으로 크롬이 증착된 기판에 무정전 레지스트를 도포하고, 1차 위상조정 패턴과 정렬마크 부위를 노광, 현상하고, 90도로 위상이 조정되도록 Qz을 에칭후, 레지스트를 제거하는 단계와; 다시 레지스트를 도포하여 필드 부위를 브랭크 노광하고, 현상, 크롬 에칭, Qz에칭 후 레지스트를 제거하는 단계와; 다시 레지스트를 도포후 상기 1차 위상조정 패턴과는 서로 교차되는 2차 위상조정 패턴을 노광하고, 현상후, 90도로 위상이 조정되도록 Qz을 에칭하고 마지막으로 레지스트를 제거하는 단계를 수행하는 것을 특징으로 하는 FED 팁 제작용 마스크 제조방법
|