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파리눈 렌즈 형성 방법에 있어서, 투명 기판 상에 파리눈 렌즈 영역을 덮는 제1 레지스트 패턴을 형성하는 제1 단계; 상기 제1 레지스트 패턴을 열처리하여 그 표면이 굴곡을 갖는 제2 레지스트 패턴을 형성하는 제2 단계; 및 상기 투명기판과 상기 제2레지스트 패턴에 대한 식각비가 동일한 조건으로 식각을 실시하여 상기 투명 기판에 그 표면이 굴곡을 갖는 파리눈 렌즈를 형성하는 제3 단계 를 포함하는 파리눈 렌즈 형성 방법
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제 7 항에 있어서, 상기 제2 단계 후, 상기 제2 레지스트 패턴의 굴곡 형태가 드러나도록, 전체 구조 상에 제3 레지스트를 도포하는 제4 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 파리눈 렌즈 형성 방법
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제 7 항 또는 제 8 항에 있어서, 상기 투명기판은, 유리, 수정, 용융석영, CaF2, MgF2, LaF3 또는 LiF으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 파리눈 렌즈 형성 방법
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제 9 항에 있어서, 상기 제2 단계에서 120 ℃가 넘는 온도로 열처리하는 것을 특징으로 하는 파리눈 렌즈 형성 방법
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그 중심부에 위치하는 차광영역과 상기 차광영역의 주변부에 파리눈 렌즈로 이루어지는 투광영역을 포함하는 사입사 조명계 제조 방법에 있어서, 투명 기판의 전면 상에, 그 두께에 따라 차광특성 및 투광특성을 갖는 물질로 차광패턴을 형성하는 제1 단계; 상기 투명 기판 전면에 상기 파리눈 렌즈 영역에 그 표면이 굴곡진 제1 레지스트 패턴을 형성하는 제2 단계; 및 상기 투명기판과 제1 레지스트 패턴에 대한 식각비가 동일한 조건으로 식각을 실시하여 상기 투명 기판의 상기 차광영역의 주변부에 그 표면이 굴곡을 갖는 파리눈 렌즈를 형성하는 제3 단계 를 포함하는 사입사 조명계 제조 방법
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제 11 항에 있어서, 상기 제2 단계는, 상기 제1 단계가 완료된 상기 투명 기판의 전면 상에 제1 레지스트를 도포하는 단계; 상기 투명 기판 전면 상에 형성된 상기 차광패턴을 마스크로 이용하여 상기 투명 기판의 후면에 빛을 조사하는 노광공정을 실시하는 단계; 및 상기 제1 레지스트를 현상하고 열처리하여 상기 제1 레지스트 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 사입사 조명계 제조 방법
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제 11 항에 있어서, 상기 제2 단계 후, 상기 제1 레지스트 패턴의 굴곡 형태가 드러나도록, 전체 구조 상에 제2 레지스트를 도포하는 제4 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 사입사 조명계 제조 방법
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제 13 항에 있어서, 상기 제4 단계 후, 상기 제2 레지스트를 선택적으로 제거하여 상기 차광영역 및 상기 투광영역 이외의 영역 상에 형성된 상기 차광패턴을 노출시키는 제5 단계; 및 상기 제5 단계에서 노출된 상기 차광패턴의 일부 두께를 제거하여 부분 투광영역을 형성하는 제6 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 사입사 조명계 제조 방법
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제 14 항에 있어서, 상기 투명 기판은, 유리, 수정, 용융석영, CaF2, MgF2, LaF3 또는 LiF으로 이루어지고, 상기 차광패턴은 Cr, Al, Ti, W, Mo 또는 Si으로 형성하는 것을 특징으로 하는 사입사 조명계 제조 방법
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제 15 항에 있어서, 상기 차광패턴은 10000 Å이 넘는 두께의 Cr, Al, Ti, W, Mo 또는 Si로 형성하고, 상기 부분 투광영역은 20 Å 내지 500 Å의 두께의 Cr, Al, Ti, W, Mo 또는 Si로 형성하는 것을 특징으로 하는 사입사 조명계 제조 방법
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제 16 항에 있어서, 상기 제2 단계에서 120 ℃가 넘는 온도로 열처리하는 것을 특징으로 하는 사입사 조명계 제조 방법
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제 17 항에 있어서, 상기 투광영역은, 4중점, 6중점 또는 고리형태를 갖는 것을 특징으로 하는 사입사 조명계 제조 방법
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