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반사형 다중기/역다중기 및 그 제조방법

  • 기술번호 : KST2015077434
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 파장다중(WDM ; wavelength division multiplexing) 광통신 시스템에 있어서 파장 다중/역다중(multiplexing/demultiplexing) 기능을 갖는 핵심 소자중의 하나인 반사형 (reflective) 다중기/역다중기 및 그 제조방법에 관한 것이다. 본 발명은 격자 도파로 형성 방법을 절단이 아닌 포토리소그라피 (photolithography) 방법을 이용함으로써 절단에 의한 종래방법보다 수율을 훨씬 좋게 할 수 있을 뿐만 아니라, 격자 도파로 끝단에 증착 방법을 이용하여 고반사박막을 부착하므로 정확하게 위치를 선정하여야 하는 브래그 반사경 또는 회절격자 모양의 반사경을 사용하는 종래방법에 비해서 수율 및 특성을 크게 향상시킬 수 있는 효과를 갖는다.반사형, 다중기/역다중기, 포토리소그라피, 리프트-오프
Int. CL G02B 6/02 (2006.01)
CPC G02B 6/2938(2013.01) G02B 6/2938(2013.01) G02B 6/2938(2013.01) G02B 6/2938(2013.01)
출원번호/일자 1019990056616 (1999.12.10)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0358177-0000 (2002.10.10)
공개번호/일자 10-2001-0055412 (2001.07.04) 문서열기
공고번호/일자 (20021025) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (1999.12.10)
심사청구항수 4

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 김형문 대한민국 대전광역시중구
2 김정수 대한민국 충청남도 공주시
3 주흥로 대한민국 대전광역시유성구
4 김동철 대한민국 서울특별시관악구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 정지원 대한민국 서울특별시 서초구 반포대로**길**, ***호(서초동,서초빌리지프라자)(특허법인이노(제*분사무소))
2 최종식 대한민국 서울특별시 송파구 중대로 ***, ID타워 ***호 (가락동)(신성특허법인(유한))
3 신성특허법인(유한) 대한민국 서울특별시 송파구 중대로 ***, ID타워 ***호 (가락동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전 유성구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 1999.12.10 수리 (Accepted) 1-1-1999-0168221-22
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2001.04.19 수리 (Accepted) 4-1-2001-0046046-20
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2001.07.19 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2001.08.10 수리 (Accepted) 9-1-2001-0014281-65
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2001.11.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2001-0334452-86
6 지정기간연장신청서
Request for Extension of Designated Period		 2002.01.31 수리 (Accepted) 1-1-2002-5029172-57
7 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2002.02.27 보정승인 (Acceptance of amendment) 1-1-2002-0058713-99
8 의견서
Written Opinion		 2002.02.27 수리 (Accepted) 1-1-2002-0058719-62
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
10 등록결정서
Decision to grant		 2002.08.30 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2002-0314424-84
11 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
12 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1

삭제
2 2

반사형 배열 도파로 구조의 다중기/역다중기에 있어서,

자유공간영역;

굴곡 및 직선 부분을 가지면서 입력광신호를 전달하는 입력도파로;

굴곡 및 직선부분을 가지면서 상기 입력도파로와 다른 방향으로 배열되는 복수개의 출력도파로; 및

서로 다른 길이를 가지며 인접한 도파로와 일정간격으로 이격되어 배열되며, 각각의 도파로 끝단만이 고반사박막으로 코팅되어 있는 복수개의 격자도파로를 포함하며,

상기 고반사박막은 금, 은, 동 및 알루미늄 중에서 선택된 어느한 금속박막 또는 유전체 박막임을 특징으로 하는 반사형 다중기/역다중기

3 3

삭제
4 4

자유공간영역, 입출력도파로, 및 격자도파로를 구비하는 반사형 다중기/역다중기를 제조하기 위한 방법에 있어서,

제1포토리소그라피 공정과 식각 공정에 의해 시료상에 상기 자유공간영역, 입출력도파로 및 격자도파로를 형성하는 제1단계; 및

제2포토리소그라피 공정 및 리프트오프 공정에 의해 상기 격자도파로의 끝단에 고반사박막을 형성하는 제2단계를 포함하며,

상기 제1단계에서 상기 격자도파로의 끝단 식각면이 시료의 표면에 실질적인 수직을 이루도록 하는 것을 특징으로 하는 반사형 다중기/역다중기 제조방법

5 5

제4항에 있어서,

상기 제2단계는,

상기 격자도파로의 끝단을 노출시키는 감광막 패턴을 형성하는 단계;

결과물의 전면에 상기 고반사박막은 증착하는 단계; 및

상기 감광막 패턴과 그 상부의 상기 고반사박막을 리프트-오프시켜 제거하는 단계를 포함하여 이루어짐을 특징으로 하는 반사형 다중기/역다중기 제조방법

6 6

제4항에 있어서,

상기 고반사박막은 금, 은, 동 및 알루미늄 중에서 선택된 어느한 금속박막 또는 유전체 박막임을 특징으로 하는 반사형 다중기/역다중기 제조방법

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.