광원으로부터의 발산특성을 가지는 레이저빔의 다채널 파장안정화를 위한 파장검출 및 안정화 방법에 있어서,

하나의 F-P 필터를 광원으로부터 일정거리에 위치시키고 레이저빔의 가우시안빔의 축에 대하여 일정각을 가지도록 정렬하여 F-P 필터로 입사되는 레이저빔이 반사 및 투과되도록 하고,

반사빔의 세기는 두 개의 PD를 이용하여 광검출하고, 투과빔의 세기는 정렬된 다른 두 개의 PD를 이용하여 광검출하며,

파장안정화를 위한 중심파장을 검출하기 위하여 상기 반사빔을 검출하는 두 개의 PD에서 검출된 반사빔의 세기가 동일하도록, 그리고 중심파장에서 일정간격 분리된 이웃한 다른 중심파장을 검출하기 위하여 상기 반사빔을 검출하는 하나의 PD에서 검출된 반사빔의 세기와 상기 투과빔을 검출하는 하나의 PD에서 검출된 투과빔의 세기, 및 상기 반사빔을 검출하는 다른하나의 PD에서 검출된 반사빔의 세기와 상기 투과빔을 검출하는 다른하나의 PD에서 검출된 투과빔의 세기가 각각 동일하도록 상기 광원, F-P 필터, 및 PD들을 정렬하여,

상기 광원에서 발사되는 레이저 빔의 발산 각에 대한 상기 F-P 필터의 반사 세기의 파장 의존성만을 이용하여 상기 반사빔을 감지하는 두 개의 PD에서 반사빔의 세기를 검출하고, 검출된 반사 빔의 세기를 비교하여 그 차가 0이 되도록 상기 광원을 제어하여 중심파장을 안정화시키고,

제1항에 있어서,

중심파장에 일정간격을 가지고 이웃한 다른 두 가지 파장에 대하여 파장안정화가 가능하도록 두 개의 개별 PD를 정렬하여 투과 빔을 검출함에 있어, 상기 F-P 필터의 투과 및 반사율의 파장의존 곡선에서 FWHM(Full Width Half Maximum)이 그 이웃한 파장 간격에 일치하도록 하며, 상기 F-P 필터의 FWHM은 F-P 필터의 각도를 조절하여 제어하는 것을 특징으로 하는 다채널 파장안정화를 위한 파장검출 및 안정화 방법

제1항 또는 제2항에 있어서,

상기 모든 PD를 동일한 응답특성을 갖는 것을 사용하고, 안정화를 원하는 파장에 따라 상기 PD들을 조합하여 선택적으로 사용하는 것을 특징으로 하는 다채널 파장안정화를 위한 파장검출 및 안정화 방법

단일채널 파장안정화를 위한 파장검출 및 안정화 방법에 있어서,

하나의 F-P 필터를 광원으로부터 일정거리에 위치시키고,

일정 간격을 갖는 두 개의 PD를 이용하여 상기 F-P 필터의 반사빔을 검출하며, 파장안정화 상태에서 두 PD에서 검출된 반사빔의 세기가 동일하도록 상기 광원, F-P 필터, 및 PD들을 정렬하여,

광원에서 발사되는 레이저 빔의 발산 각에 대한 상기 F-P 필터의 반사 세기의존성과 이의 파장 의존성만을 이용하여 두 PD에서 검출된 반사 빔의 세기를 비교하여 그 차가 0이 되도록 광원을 제어하여 파장을 안정화시키는 것을 특징으로 하는 단일채널 파장안정화를 위한 파장검출 및 안정화방법

단일채널 파장안정화를 위한 파장검출 및 안정화 방법에 있어서,

하나의 F-P 필터를 광원으로부터 일정거리에 위치시키고,

일정한 간격을 갖는 두 개의 PD를 이용하여 상기 F-P 필터의 반사빔을 검출하고, 파장안정화 상태에서 두 PD에서 검출된 투과빔의 세기가 동일하도록 상기 광원, F-P 필터, 및 PD들을 정렬하여,

광원에서 발사되는 레이저 빔의 발산 각에 대한 상기 F-P 필터의 투과 세기 의존성과, 이의 파장 의존성만을 이용하여 두 PD에서 검출된 투과 빔의 세기를 비교하여 그 차가 0이 되도록 광원을 제어하여 파장을 안정화시키는 것을 특징으로 하는 단일채널 파장안정화를 위한 파장검출 및 안정화방법

단일채널 파장안정화를 위한 파장검출 및 안정화 방법에 있어서,

하나의 F-P 필터를 광원으로부터 일정거리에 위치시키고,

두 개의 개별 PD를 이용하여 상기 F-P 필터의 반사빔과 투과빔을 각각 검출하고, 파장안정화 상태에서 검출된 반사빔과 투과빔의 세기가 동일하도록 상기 광원, F-P 필터, 및 PD들을 정렬하여,

상기 F-P 필의 반사 및 투과 세기의 파장 의존성을 이용하여 두 개별 PD에서 검출된 반사빔의 세기와 투과빔의 세기를 비교하여 그 차가 0이 되도록 광원을 제어하여 파장을 안정화시키는 것을 특징으로 하는 단일채널 파장안정화를 위한 파장검출 및 안정화방법

제6항에 있어서,

집광렌즈를 사용하여 광원으로부터의 발산 빔을 하나의 스폿으로 모으고 그 위치에 상기 F-P 필터를 위치시켜 약한 광원의 세기를 보강하고,

수광부의 크기가 제약 받지 않는 개별 PD를 사용하여 상기 F-P 필터에서 반사 및 투과되는 빔을 검출함으로써 충분한 검출 세기를 보장하는 것을 특징으로 하는 단일채널 파장안정화를 위한 파장검출 및 안정화방법

다채널 파장안정화를 가능하도록 하는 다채널 파장안정화 광원모듈에 있어서,

광원의 온도를 제어하기 위한 열전냉각소자;

상기 열전냉각소자 위에 탑재되고, 후기의 파장검출 시스템 및 써미스터가 실장되며, 모듈 구동에 필요한 금속 패드 패턴이 형성된 세라믹 기판;

광원, 상기 광원에서 발사되는 레이저 빔의 발산 각도를 적절하게 조절하기 위한 렌즈, 상기 렌즈 통해 입사되는 레이저 빔에 대해 파장선택특성을 갖는 F-P 필터, 상기 F-P 필터에서 반사되는 빔을 검출하는 두 개의 PD를 갖는 어레이 광검출기 및 상기 F-P 필터를 투과한 빔을 검출하는 두 개의 PD로 이루어진 다채널 파장검출 시스템; 및

상기 세라믹 기판의 온도를 지속적으로 감지하는 써미스터를 포함하는 것을 특징으로 하는 다채널 파장안정화 광원모듈

단일채널 파장안정화를 가능하도록 하는 단일채널 파장안정화 광원모듈에 있어서,

제8항 또는 제9항에 있어서,

상기 광원 앞쪽에 구비되어 상기 광원에서 방출되는 빔의 모드크기를 제어하는 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 단일채널 파장안정화 광원모듈

다채널 파장안정화를 가능하도록 하는 다채널 파장안정화 광원모듈 제작방법에 있어서,

금속 패드 패턴이 형성된 세라믹 기판에 히트 싱크가 부착된 광원과 써미스터를 부착한 후 세라믹 기판을 열전냉각소자 위에 탑재 부착하는 제1공정;

제11항에 있어서,

상기 제2공정은, 광원이 단일모드 파장에서 발진하는 레이저다이오드인 경우, 세라믹 기판에 광원과 써미스터를 부착한 후 광원에서 방출되는 빔의 모드크기를 제어하는 렌즈를 광원 앞쪽에 부착하는 것을 특징으로 하는 다채널 파장안정화 광원모듈의 제작방법

제11항에 있어서,

상기 제3공정은, 광원이 광섬유와 같이 외부로부터 입력되는 광원인 경우,

외부제어회로에 의해 열전냉각소자를 제어하여 전체시스템의 온도를 특정온도로 유지한 상태에서

중심파장(λL2)에 대해 F-P 필터를 빔의 발산각을 제어하는 렌즈의 스폿이 형성되는 지점에 위치시키고, 어레이 광검출기의 배치가 가우시안빔의 최대 입사빔의 세기를 차단하지 않을 정도보다 큰 경사각으로 고정한 다음, 어레이 광검출기의 두 PD를 광세기의 검출이 가능한 상태에서 위치이동을 시켜가면서 두 PD에서 검출된 광전류가 같도록 정렬하고, 이 때 두 PD 정렬시에 F-P 필터의 경사각을 동시에 제어하면서 두 PD의 파장의존특성에서 FWHM의 폭이 이웃하는 파장과의 간격과 거의 같도록 F-P 필터의 경사각을 최종결정하며,

중심파장(λL2) 보다 짧고, 중심파장과 일정 간격을 갖는 이웃 파장(λL1)에대해, 파장 λL1에 대한 투과빔을 검출하는 PD를 투과빔의 검출이 가능한 상태에서 이동시키면서 투과빔의 세기가 파장 λL1에 대한 반사빔을 검출하는 PD에서 검출한 세기와 동일한 위치에 정렬하며,

중심파장(λL2) 보다 길고, 중심파장과 일정 간격을 갖는 이웃 파장(λL3)에대해, 파장 λL3에 대한 투과빔을 검출하는 PD를 투과빔의 검출이 가능한 상태에서 이동시키면서 투과빔의 세기가 파장 λL3에 대한 반사빔을 검출하는 PD에서 검출한 세기와 동일한 위치에 정렬하는 것을 특징으로 하는 다채널 파장안정화 광원모듈의 제작방법

단일채널 파장안정화를 가능하도록 하는 단일채널 파장안정화 광원모듈 제작방법에 있어서,

금속 패드 패턴이 형성된 세라믹 기판에 히트 싱크가 부착된 광원과 써미스터를 부착하고, 광원에서 방출되는 빔의 모드크기를 제어하는 렌즈를 광원 앞쪽에 부착한 후 세라믹 기판을 열전냉각소자 위에 탑재 부착하는 제1공정;

광원을 전류 구동하고, 입사되는 레이저 빔을 평형광으로 변화시키는 렌즈의 정렬 위치를 최적화한 상태에서 고정하는 제2공정;

광원을 구동한 상태에서 외부 정렬방법에 의해 파장분석기를 통하여 파장을 모니터하면서 열전냉각소자를 제어하여 안정화 파장(λL)에 정확하게 고정하고, F-P 필터와, 반사빔을 검출하는 PD 및 투과빔을 검출하는 PD를 정렬하는 제3공정; 및

안정화 파장(λL)에서 특성 확인 검사를 거쳐 상기 공정들에 의해 제작된 부분모듈을 버터플라이 패키지에 부착하고 레이저 웰딩하는 제4공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 단일채널 파장안정화 광원모듈의 제작방법

제15항에 있어서,

상기 제3공정은,

안정화 파장 λL에서 투과빔을 검출할 PD를 광검출이 가능한 상태에서 위치를 이동시켜면서 최대 세기 지점을 찾아 고정시키고,

다음에 F-P 필터를 삽입하여 각도를 조정하여 상기 투과빔을 검출하는 PD의 광출력이 최대와 최소 사이의 선형영역의 중간에 오도록 하여 고정하며, 이러한 조건을 만족하는 F-P 필터의 여러 각도 중에서 반사빔을 검출할 PD의 배치를 고려하여 적절한 크기의 각도를 가지도록 하며,

반사빔을 검출하는 PD를 광검출이 가능한 상태에서 이동시키면서 반사빔의 세기가 투과빔을 검출하는 PD에서 검출된 세기와 같은 위치에 정렬하는 것을 특징으로 하는 단일채널 파장안정화 광원모듈의 제작방법