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포토 에칭 공정으로 제작된 윅을 구비한 냉각 장치

  • 기술번호 : KST2015078330
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 포토 에칭 공정으로 제작된 윅을 구비한 냉각 장치에 관한 것으로, 중앙에 요부가 형성된 틀과, 요부에 삽입되며 유체의 흐름을 위한 다수의 미세 채널이 포토 에칭 공정으로 형성된 윅으로 이루어지고, 상기 미세 채널과 상기 요부에 형성되는 공간을 통해 유체의 흐름이 이루어진다. 본 발명은 미세 채널을 포토 에칭 공정으로 형성하므로써 미세 채널의 폭을 최소화시켜 종래보다 큰 모세관력을 얻을 수 있으며, 이에 따라 전열 성능이 향상된 최적의 열 설계를 통해 효율이 우수한 냉각 장치를 제작할 수 있다. 또한, 윅을 별도로 제작하여 삽입하는 과정이 생략됨에 따라 제작 과정이 단순해지므로 생산성이 향상된다.포토 에칭, 윅, 미세 채널, 냉각 장치, 히트 스프레더, 히트 파이프
Int. CL F28D 15/02 (2006.01)
CPC F28D 15/046(2013.01) F28D 15/046(2013.01) F28D 15/046(2013.01)
출원번호/일자 1020010081907 (2001.12.20)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0446092-0000 (2004.08.18)
공개번호/일자 10-2003-0052091 (2003.06.26) 문서열기
공고번호/일자 (20040830) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2001.12.20)
심사청구항수 7

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 윤호경 대한민국 전라북도익산시
2 문석환 대한민국 대전광역시서구
3 고상춘 대한민국 대전광역시유성구
4 황건 대한민국 대전광역시서구
5 최태구 대한민국 대전광역시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신영무 대한민국 서울특별시 강남구 영동대로 ***(대치동) KT&G타워 *층(에스앤엘파트너스)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구
번호, 서류명, 접수/발송일자, 처리상태, 접수/발송일자의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 행정처리 표입니다.
번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2001.12.20 수리 (Accepted) 1-1-2001-0338779-46
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
3 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2004.02.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
4 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2004.03.12 수리 (Accepted) 9-1-2004-0012368-06
5 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2004.03.23 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0106118-18
6 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2004.05.21 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2004-0214531-71
7 의견서
Written Opinion		 2004.05.21 수리 (Accepted) 1-1-2004-0214532-16
8 등록결정서
Decision to grant		 2004.08.06 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0322661-00
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
10 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
번호, 청구항의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 청구항 표입니다.
번호 청구항
1 1

중앙에 요부가 형성된 틀과,

상기 요부에 삽입되며 유체의 흐름을 위해 서로 연결된 다수의 미세 채널이 형성된 윅으로 이루어져 상기 미세 채널과 상기 요부에 형성되는 공간을 통해 유체의 흐름이 이루어지도록 구성된 냉각 장치에 있어서,

상기 미세 채널이 포토 에칭 공정으로 형성된 것을 특징으로 하는 포토 에칭 공정으로 제작된 윅을 구비한 냉각 장치

2 2

제 1 항에 있어서,

상기 요부는 원형 및 다각형 중 어느 하나의 형태로 형성된 것을 특징으로 하는 포토 에칭 공정으로 제작된 윅을 구비한 냉각 장치

3 3

제 1 항에 있어서,

상기 미세 채널의 높이는 상기 틀의 두께보다 낮은 것을 특징으로 하는 포토 에칭 공정으로 제작된 윅을 구비한 냉각 장치

4 4

제 1 항에 있어서,

상기 미세 채널은 원형, 방사형 및 다각형 중 어느 하나의 형태로 배열된 것을 특징으로 하는 포토 에칭 공정으로 제작된 윅을 구비한 냉각 장치

5 5

금속판의 중앙부에 포토 에칭 공정으로 다수의 미세 채널이 형성되어 상기 미세 채널을 통해 유체의 흐름이 이루어지도록 구성된 윅을 구비하며,

상기 미세 채널이 내부에 위치되도록 상기 금속판이 다각 형태로 절곡된 것을 특징으로 하는 냉각 장치

6 6

삭제
7 7

제 5 항에 있어서,

상기 미세 채널의 높이는 상기 금속판의 두께보다 낮은 것을 특징으로 하는 냉각 장치

8 8

제 5 항에 있어서,

상기 미세 채널은 원형, 방사형 및 다각형 중 어느 하나의 형태로 배열된 것을 특징으로 하는 냉각 장치

지정국 정보가 없습니다
패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.