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아크릴로니트릴 반복 단위를 포함하는 고분자와 무기물을 공용매에 용해시켜 아크릴로니트릴 고분자 용액을 제조하는 단계와, 상전환법에 의해 상기 아크릴로니트릴 고분자 용액으로부터 다공성 고분자 필름을 형성하는 단계와, 상기 다공성 고분자 필름을 리튬염 및 양이온성 유기 첨가제가 도입된 전해액에 함침시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 아크릴로니트릴 반복 단위를 포함하는 고분자는 폴리아크릴로니트릴, 아크릴로니트릴과 부타디엔의 공중합체, 아크릴로니트릴과 메타크릴로니트릴의 공중합체, 아크릴로니트릴과 메틸아크릴레이트의 공중합체, 아크릴로니트릴과 부타디엔과 아크릴산의 삼원공중합체, 아크릴로니트릴과 부타디엔과 스티렌의 삼원공중합체, 및 아크릴로니트릴과 비닐리덴클로라이드와 메틸메타크릴레이트의 삼원공중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 아크릴로니트릴 반복 단위를 포함하는 고분자는 50 ∼ 99 몰%의 아크릴로니트릴을 함유하는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 무기물은 실리카, 탈크, 알루미나(Al2O3), γ-LiAlO2, TiO2, 제올라이트 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 공용매는 디메틸포름아마이드, 디메틸설폭사이드, N-메틸피롤리돈 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 다공성 고분자 필름을 형성하는 단계는 상기 아크릴로니트릴 고분자 용액을 캐스팅하는 단계와, 상기 캐스팅된 아크릴로니트릴 고분자 용액을 비용매에 함침시켜 고분자 필름을 형성하는 단계와, 상기 고분자 필름을 라미네이션하여 상기 다공성 고분자 필름을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법
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제6항에 있어서, 상기 비용매는 물, 에탄올, 메탄올, 아세톤, 디에틸에테르, 헥산 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 전해액은 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 디메틸카보네이트, 디에틸카보네이트, 메틸에틸카보네이트, 테트라하이드로퓨란, 2-메틸테트라하이드로퓨란, 디메톡시에탄, 메틸포르메이트, 에틸포르메이트, 감마-부티로락톤 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 리튬염은 리튬퍼클로레이트(LiClO4), 리튬트리플레이트(LiCF3SO3), 리튬헥사플루오로포스페이트(LiPF6), 리튬테트라플루오로보레이트(LiBF4), 리튬트리플루오로메탄설포닐이미드(LiN(CF3SO2)2) 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법
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제1항에 있어서, 상기 양이온성 유기 첨가제는 저분자량의 폴리에틸렌이민, 저분자량의 폴리라이신, 저분자량의 폴리에틸비닐피리디늄 브로마이드, 저분자량의 폴리디메틸아미노에틸메타크릴레이트 또는 저분자량의 폴리오르니틴으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법
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