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양이온성 고분자 브렌드를 기초로 한 고분자 전해질 및 그 제조 방법

  • 기술번호 : KST2015078625
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 아크릴로니트릴계 고분자와 양이온성 고분자가 혼합된 고분자 브렌드를 이용한 비수계 이차전지용 고분자 전해질 및 그 제조 방법에 관하여 개시한다. 본 발명에 따른 고분자 전해질의 제조 방법에서는 아크릴로니트릴 반복 단위를 포함하는 고분자 및 양이온성 고분자를 브렌딩하여 고분자 브렌드를 준비한다. 상기 고분자 브렌드 및 무기물을 공용매에 용해시켜 고분자 브렌드 용액을 제조한다. 상전환법에 의해 상기 고분자 브렌드 용액으로부터 다공성 고분자 필름을 형성한다. 상기 다공성 고분자 필름을 리튬염이 용해된 전해액에 함침시킨다. 리튬 이차전지, 아크릴로니트릴, 양이온성 고분자, 고분자 브렌드
Int. CL H01M 10/0565 (2010.01) H01M 10/058 (2010.01)
CPC
출원번호/일자 1020020027060 (2002.05.16)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0450752-0000 (2004.09.20)
공개번호/일자 10-2003-0089606 (2003.11.22) 문서열기
공고번호/일자 (20041001) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 소멸
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.05.16)
심사청구항수 11

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 이영기 대한민국 대전광역시서구
2 김광만 대한민국 대전광역시유성구
3 류광선 대한민국 대전광역시유성구
4 장순호 대한민국 대전광역시유성구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 이영필 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)(리앤목특허법인)
2 이해영 대한민국 서울 강남구 언주로 **길 **, *층, **층, **층, **층(도곡동, 대림아크로텔)(리앤목특허법인)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 주식회사 주원리테크 인천광역시 서구
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application
2002.05.16 수리 (Accepted) 1-1-2002-0149428-93
2 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2002.08.08 수리 (Accepted) 4-1-2002-0065009-76
3 의견제출통지서
Notification of reason for refusal
2004.01.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0023029-84
4 의견서
Written Opinion
2004.03.18 수리 (Accepted) 1-1-2004-0112153-56
5 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.
2004.03.18 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2004-0112154-02
6 등록결정서
Decision to grant
2004.08.31 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0360704-55
7 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information
2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1

아크릴로니트릴 반복 단위를 포함하는 고분자 및 양이온성 고분자를 브렌딩하여 고분자 브렌드를 준비하는 단계와,

상기 고분자 브렌드 및 무기물을 공용매에 용해시켜 고분자 브렌드 용액을 제조하는 단계와,

상전환법에 의해 상기 고분자 브렌드 용액으로부터 다공성 고분자 필름을 형성하는 단계와,

상기 다공성 고분자 필름을 리튬염이 용해된 전해액에 함침시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법

2 2

제1항에 있어서,

상기 아크릴로니트릴 반복 단위를 포함하는 고분자는 폴리아크릴로니트릴, 아크릴로니트릴과 부타디엔의 공중합체, 아크릴로니트릴과 메타크릴로니트릴의 공중합체, 아크릴로니트릴과 메틸아크릴레이트의 공중합체, 아크릴로니트릴과 부타디엔과 아크릴산의 삼원공중합체, 아크릴로니트릴과 부타디엔과 스티렌의 삼원공중합체, 및 아크릴로니트릴과 비닐리덴클로라이드와 메틸메타크릴레이트의 삼원공중합체로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법

3 3

제1항에 있어서,

상기 양이온성 고분자는 폴리에틸렌이민, 폴리라이신, 폴리에틸비닐피리디늄 브로마이드, 폴리디메틸아미노에틸메타크릴레이트 및 폴리오르니틴으로 이루어지는 군에서 선택되는 어느 하나로 이루어진 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법

4 4

제1항에 있어서,

상기 고분자 브렌드중 아크릴로니트릴 반복 단위를 포함하는 고분자와 양이온성 고분자와의 중량비는 99:1 ∼ 1:99인 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법

5 5

제1항에 있어서,

상기 무기물은 실리카, 탈크, 알루미나(Al2O3), γ-LiAlO2, TiO2, 제올라이트 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법

6 6

제1항에 있어서,

상기 공용매는 디메틸포름아마이드, 디메틸설폭사이드, N-메틸피롤리돈 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법

7 7

제1항에 있어서, 상기 다공성 고분자 필름을 형성하는 단계는

상기 고분자 브렌드 용액을 캐스팅하는 단계와,

상기 캐스팅된 고분자 브렌드 용액을 비용매에 함침시켜 고분자 필름을 형성하는 단계와,

상기 고분자 필름을 라미네이션하여 상기 다공성 고분자 필름을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법

8 8

제7항에 있어서,

상기 비용매는 물, 에탄올, 메탄올, 아세톤, 디에틸에테르, 헥산 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법

9 9

제1항에 있어서,

상기 전해액은 에틸렌카보네이트, 프로필렌카보네이트, 디메틸카보네이트, 디에틸카보네이트, 메틸에틸카보네이트, 테트라하이드로퓨란, 2-메틸테트라하이드로퓨란, 디메톡시에탄, 메틸포르메이트, 에틸포르메이트, 감마-부티로락톤 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법

10 10

제1항에 있어서,

상기 리튬염은 리튬퍼클로레이트(LiClO4), 리튬트리플레이트(LiCF3SO3), 리튬헥사플루오로포스페이트(LiPF6), 리튬테트라플루오로보레이트(LiBF4), 리튬트리플루오로메탄설포닐이미드(LiN(CF3SO2)2) 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고분자 전해질의 제조 방법

11 11

제1항에 있어서,

제1항 내지 제10항중 어느 한 항에 따른 방법에 의하여 제조된 것을 특징으로 하는 고분자 전해질

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패밀리정보가 없습니다
국가 R&D 정보가 없습니다.