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리튬 2차전지용 리튬-망간-니켈계 산화물 제조방법

  • 기술번호 : KST2015078940
  • 담당센터 : 대전기술혁신센터
  • 전화번호 : 042-610-2279
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요약, Int. CL, CPC, 출원번호/일자, 출원인, 등록번호/일자, 공개번호/일자, 공고번호/일자, 국제출원번호/일자, 국제공개번호/일자, 우선권정보, 법적상태, 심사진행상태, 심판사항, 구분, 원출원번호/일자, 관련 출원번호, 기술이전 희망, 심사청구여부/일자, 심사청구항수의 정보를 제공하는 이전대상기술 뷰 페이지 상세정보 > 서지정보 표입니다.
요약 본 발명은 리튬 2차전지용 리튬-망간-니켈계 산화물의 제조방법에 관한 것으로서, 리튬염, 망간염 및 니켈염을 증류수에 용해하여 수용액을 제조하는 단계; 얻어진 수용액을 가열하여 겔을 형성하는 단계; 형성된 겔을 연소시켜 산화물 분말을 제조하는 단계; 상기 분말을 1차 열처리한 후 분쇄하는 단계; 및 상기 분쇄물을 2차 열처리한 후 분쇄하는 단계를 포함하는 Li[NixLi(1/3-2x/3)Mn(2/3-x/3)]O2 (0.05 < X < 0.6) 조성비의 리튬-망간-니켈계 산화물의 제조방법을 제공한다. 본 발명에 의한 리튬-망간-니켈계 산화물의 제조방법에 따르면, 안정적이고 우수한 전기화학적인 특성을 가지는 리튬 2차전지용 양극물질로서 Li[NixLi(1/3-2x/3)Mn(2/3-x/3)]O2 (0.05 < X < 0.6) 조성비의 리튬-망간-니켈계 산화물을 간단하고 저렴한 연소 과정에 의해 제조할 수 있다. 리튬 2차전지, 리튬-망간-니켈계 산화물, 리튬염, 망간염, 니켈염, 겔, 방전용량
Int. CL H01M 10/0525 (2010.01) H01M 4/1391 (2010.01)
CPC
출원번호/일자 1020020068731 (2002.11.07)
출원인 한국전자통신연구원
등록번호/일자 10-0466586-0000 (2005.01.06)
공개번호/일자 10-2004-0040565 (2004.05.13) 문서열기
공고번호/일자 (20050124) 문서열기
국제출원번호/일자
국제공개번호/일자
우선권정보
법적상태 등록
심사진행상태 수리
심판사항
구분
원출원번호/일자
관련 출원번호
심사청구여부/일자 Y (2002.11.07)
심사청구항수 6

출원인

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번호 이름 국적 주소
1 한국전자통신연구원 대한민국 대전광역시 유성구

발명자

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번호 이름 국적 주소
1 박용준 대한민국 대전광역시유성구
2 홍영식 대한민국 대전광역시유성구
3 오향란 대한민국 대전광역시유성구
4 류광선 대한민국 대전광역시유성구
5 김광만 대한민국 대전광역시유성구
6 이영기 대한민국 대전광역시서구
7 장순호 대한민국 대전광역시서구

대리인

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번호 이름 국적 주소
1 신성특허법인(유한) 대한민국 서울특별시 송파구 중대로 ***, ID타워 ***호 (가락동)

최종권리자

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번호 이름 국적 주소
1 대한민국(산업통상자원부장관) 세종특별자치시 한누리대
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번호 서류명 접수/발송일자 처리상태 접수/발송번호
1 특허출원서
Patent Application		 2002.11.07 수리 (Accepted) 1-1-2002-0367686-13
2 선행기술조사의뢰서
Request for Prior Art Search		 2004.08.12 수리 (Accepted) 9-1-9999-9999999-89
3 선행기술조사보고서
Report of Prior Art Search		 2004.09.17 수리 (Accepted) 9-1-2004-0056429-13
4 의견제출통지서
Notification of reason for refusal		 2004.10.13 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0427916-21
5 의견서
Written Opinion		 2004.11.24 수리 (Accepted) 1-1-2004-0551140-93
6 명세서 등 보정서
Amendment to Description, etc.		 2004.11.24 보정승인간주 (Regarded as an acceptance of amendment) 1-1-2004-0551131-82
7 등록결정서
Decision to grant		 2004.12.27 발송처리완료 (Completion of Transmission) 9-5-2004-0552813-26
8 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2009.08.04 수리 (Accepted) 4-1-2009-5150899-36
9 출원인정보변경(경정)신고서
Notification of change of applicant's information		 2015.02.02 수리 (Accepted) 4-1-2015-0006137-44
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번호 청구항
1 1

리튬염, 망간염 및 니켈염을 증류수에 용해하여 수용액을 제조 - 여기서, 상기 리튬염, 망간염 및 니켈염은 수용성 염임 - 하는 단계;

얻어진 수용액을 가열하여 겔을 형성하는 단계;

형성된 겔을 연소시켜 산화물 분말을 제조하는 단계;

상기 분말을 1차 열처리한 후 분쇄하는 단계; 및

상기 분쇄물을 2차 열처리한 후 분쇄하는 단계

를 포함하는 Li[NiXLi(1/3-2X/3)Mn(2/3-X/3)]O2 (0

2 2

삭제
3 3

제 1항에 있어서,

상기 리튬염으로는 리튬아세테이트 디하이드레이트(CH3CO2Li·2H2O), 상기 망간염으로는 망간아세테이트 테트라하이드레이트((CH3CO2)2Mn·4H2O), 상기 니켈염으로는 니켈(Ⅱ)나이트레이트 헥사하이드레이트(Ni(NO3)2·6H2O)를 사용하는 것을 특징으로 하는

리튬-망간-니켈계 산화물 제조방법

4 4

제 1항에 있어서,

상기 겔의 연소는 400 내지 500℃에서 행하는 것을 특징으로 하는

리튬-망간-니켈계 산화물 제조방법

5 5

제 1항에 있어서,

상기 1차 열처리는 400 내지 500℃에서 행하는 것을 특징으로 하는

리튬-망간-니켈계 산화물 제조방법

6 6

제 1항에 있어서,

상기 2차 열처리는 700 내지 1000℃에서 행하는 것을 특징으로 하는

리튬-망간-니켈계 산화물 제조방법

7 7

리튬아세테이트 디하이드레이트, 망간아세테이트 테트라하이드레이트 및 니켈(Ⅱ)나이트레이트 헥사하이드레이트를 증류수에 용해하여 수용액을 제조하는 단계;

얻어진 수용액을 100℃ 이상에서 가열하여 겔을 형성하는 단계;

형성된 겔을 연소시켜 산화물 분말을 제조하는 단계;

상기 분말을 1차 열처리한 후 분쇄하는 단계; 및

상기 분쇄물을 700 내지 1000℃로 2차 열처리한 후 분쇄하는 단계

를 포함하는 Li[NiXLi(1/3-2X/3)Mn(2/3-X/3)]O2 (0

8 8

삭제
9 9

삭제
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1 JP03946687 JP 일본 FAMILY
2 JP16158443 JP 일본 FAMILY
3 US20040115534 US 미국 FAMILY

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