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1,3,5-트리아진 (1,3,5-triazine) 유도체와, 퍼플루오로페닐렌 (perfluorophenylene) 유도체를 구리를 이용하여 상온 내지 100℃의 반응 온도하에서 무산소 분위기로 커플링 결합시켜 다음 식으로 표시되는 구조의 화합물을 제조하는 것을 특징으로 하는 유기 반도체 소자용 화합물의 제조 방법
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제5항에 있어서, 상기 1,3,5-트리아진 유도체는 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진인 것을 특징으로 하는 유기 반도체 소자용 화합물의 제조 방법
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제5항에 따른 방법으로 제조된 화합물로 구성되고, 상기 화합물은 다음 식으로 표시되는 구조룰 가지는 것을 특징으로 하는 유기 반도체 박막
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제5항에 따른 방법에 의해 상기 유기 반도체 소자용 화합물을 준비하는 단계와, 기판상에 상기 화합물로 이루어지는 박막을 형성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기 반도체 박막 형성 방법
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제8항에 있어서, 상기 기판은 ITO/유리 기판, 금속전극/유리기판, 또는 금속전극/실리콘 기판으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 유기 반도체 박막 형성 방법
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제8항에 있어서, 상기 박막은 진공 증착, 스핀 코팅, 잉크젯 코팅, 또는 스크린 인쇄 방법에 의하여 형성되는 것을 특징으로 하는 유기 반도체 박막 형성 방법
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제5항에 따른 방법으로 제조된 화합물로서 다음 식으로 표시되는 구조를 가지는 화합물로 구성되는 반도체막을 구비한 것을 특징으로 하는 유기 반도체 소자
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제11항에 있어서, 상기 반도체막은 유기 전계발광 소자의 전자 주입층 또는 전자 수송층을 구성하는 것을 특징으로 하는 유기 반도체 소자
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제11항에 있어서, 상기 반도체막은 N형 트랜지스터의 채널층을 구성하는 것을 특징으로 하는 유기 반도체 소자
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제5항에 따른 방법으로 제조되고, 다음 식으로 표시되는 구조의 유기 반도체 소자용 화합물
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제5항에 따른 방법으로 제조되고, 다음 식으로 표시되는 구조의 유기 반도체 소자용 화합물
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제5항에 따른 방법으로 제조되고, 다음 식으로 표시되는 구조의 유기 반도체 소자용 화합물
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